[發明專利]渦旋型流體設備

有效

• 申請號: 201480051318.0
• 申請日: 2014-09-18
• 公開（公告）號: CN105556126B
• 公開（公告）日: 2017-09-26
• 發明（設計）人: 本田宏
• 申請（專利權）人: 三電控股株式會社
• 主分類號: F04C18/02
• 分類號: F04C18/02
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司31100
• 代理人: 韓俊

1.一種渦旋型流體設備，包括：

渦盤單元，所述渦盤單元使定渦盤及動渦盤以各自的環繞件相對的方式嚙合來形成密閉空間，其中，所述定渦盤及所述動渦盤在底板上豎立設置有渦旋狀的環繞件，且所述底板的中心與所述環繞件的渦旋中心彼此偏心；以及

自轉阻止機構，所述自轉阻止機構沿所述動渦盤的周向至少配置有三個以上的自轉阻止部來阻止所述動渦盤的自轉，所述自轉阻止部由圓形孔和銷構成，其中，所述圓形孔形成在所述動渦盤的底板的背面和與所述背面相對的外殼壁中的任一方上，所述銷與所述圓形孔卡合并突出設置在所述動渦盤的底板的背面和與所述背面相對的外殼壁中的另一方上，

所述渦旋型流體設備利用所述自轉阻止機構阻止所述動渦盤的自轉，并且使所述動渦盤繞所述定渦盤的軸心進行公轉回旋運動，從而使所述密閉空間的容積變化，

其特征在于，

所述自轉阻止機構形成為：將所述自轉阻止部中的至少一個配置成使所述圓形孔的中心位于與將所述動渦盤的底板中心和所述環繞件的渦旋中心連接的直線正交且穿過所述底板中心的直線上。

2.如權利要求1所述的渦旋型流體設備，其特征在于，

在所述自轉阻止機構中，使將所述動渦盤的底板中心與所述環繞件的渦旋中心連接的直線，以所述底板中心為中心沿與所述動渦盤的環繞件的卷繞方向相反的方向旋轉90°，將旋轉后的所述直線與以所述底板中心為中心且以從所述底板中心到所述圓形孔的中心的長度為半徑的節圓相交的點設定為一個所述自轉阻止部的中心位置，并以這一個自轉阻止部為基準在所述節圓上以等間隔配置其它的自轉阻止部。

3.如權利要求1或2所述的渦旋型流體設備，其特征在于，

將所述圓形孔形成在所述動渦盤的底板的背面，將所述銷突出設置在所述外殼壁側。

4.如權利要求1所述的渦旋型流體設備，其特征在于，

將所述動渦盤的底板中心與所述環繞件的渦旋中心的偏心量設為以所述定渦盤的軸心為中心進行回旋的所述動渦盤的回旋半徑的1/3以下。