[發(fā)明專利]用于基于電子照相術(shù)的增材制造系統(tǒng)的半結(jié)晶消耗材料有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201480051300.0 | 申請(qǐng)日: | 2014-07-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105556394B | 公開(公告)日: | 2020-06-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 詹姆斯·E·奧洛克;史蒂文·A·奇爾森西恩;特雷弗·I·馬丁 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 斯特拉塔西斯公司 |
| 主分類號(hào): | G03G9/08 | 分類號(hào): | G03G9/08;G03G9/087 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 楊娟奕 |
| 地址: | 美國(guó)明*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 基于 電子 照相術(shù) 制造 系統(tǒng) 結(jié)晶 消耗 材料 | ||
1.一種用于使用基于電子照相術(shù)的增材制造系統(tǒng)打印三維零件的零件材料,該零件材料包括:
組合物,該組合物包括:
半結(jié)晶熱塑性材料;和
電荷控制劑;
其中所述零件材料以粉末形式提供,所述粉末形式具有D90/D50粒子尺寸分布和D50/D10粒子尺寸分布,所述D90/D50粒子尺寸分布和所述D50/D10粒子尺寸分布的幾何標(biāo)準(zhǔn)差為10%或更小;并且
其中所述零件材料被構(gòu)造成用在基于電子照相術(shù)的增材制造系統(tǒng)中,所述基于電子照相術(shù)的增材制造系統(tǒng)具有以逐層方式打印三維零件的層灌注組件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的零件材料,其中所述組合物還包括吸熱劑,其中所述吸熱劑占零件材料的從0.5重量%至10重量%。
3.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的零件材料,其中所述D50粒子尺寸在從10微米至20微米的范圍內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的零件材料,其中所述粉末形式還具有D90/D50粒子尺寸分布和D50/D10粒子尺寸分布,所述D90/D50粒子尺寸分布和所述D50/D10粒子尺寸分布每一個(gè)都在從1.00至1.40的范圍內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的零件材料,其中所述電荷控制劑從由鉻羥基羧酸配合物、鋅羥基羧酸配合物、鋁羥基羧酸配合物及其混合物組成的組中選擇。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的零件材料,其中所述電荷控制劑占所述零件材料的從0.1重量%至5重量%。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的零件材料,其中所述組合物還包括流動(dòng)控制劑,所述流動(dòng)控制劑占所述零件材料的從0.1重量%至10重量%。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的零件材料,其中所述半結(jié)晶熱塑性材料包括聚酰胺、聚乙烯、聚丙烯、聚烯烴嵌段共聚物、聚甲醛、聚芳醚酮或其混合物。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的零件材料,其中所述半結(jié)晶熱塑性材料包括聚酰胺,并且其中所述聚酰胺包括聚己內(nèi)酰胺、聚六亞甲基己二酰胺、聚六亞甲基壬酰胺、聚六亞甲基癸二酰胺、聚酰胺6/12、聚庚內(nèi)酰胺、聚十一內(nèi)酰胺、聚月桂內(nèi)酰胺或其混合物。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的零件材料,其中所述聚酰胺包括聚己內(nèi)酰胺、聚六亞甲基己二酰胺、聚酰胺6/12、聚十一內(nèi)酰胺、聚月桂內(nèi)酰胺或其混合物。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的零件材料,其中所述半結(jié)晶熱塑性材料包括聚芳醚酮,并且其中所述聚芳醚酮包括聚醚酮、聚醚醚酮、聚醚醚酮酮、聚醚酮醚酮酮或其混合物。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的零件材料,其中所述聚芳醚酮包括聚醚醚酮。
13.一種用于使用基于電子照相術(shù)的增材制造系統(tǒng)打印三維零件的方法,所述基于電子照相術(shù)的增材制造系統(tǒng)具有電子照相引擎、傳輸介質(zhì)和層灌注組件,該方法包括如下步驟:
將零件材料提供給基于電子照相術(shù)的增材制造系統(tǒng),該零件材料在組分上包括電荷控制劑和半結(jié)晶熱塑性材料,并且具有粉末形式,所述粉末形式具有D90/D50粒子尺寸分布和D50/D10粒子尺寸分布,所述D90/D50粒子尺寸分布和所述D50/D10粒子尺寸分布的幾何標(biāo)準(zhǔn)差為10%或更小;
以摩擦電的方式給零件材料充電至具有負(fù)電荷或正電荷和從5微庫(kù)倫/克至50微庫(kù)倫/克范圍內(nèi)的大小的Q/M比率;
使用電子照相引擎從帶電的所述零件材料顯影三維零件層;
將顯影層從電子照相引擎靜電吸引至傳輸介質(zhì);
使用傳輸介質(zhì)將被吸引層移動(dòng)至層灌注組件;并且
使用層灌注組件將被移動(dòng)層灌注至三維零件的先前打印的層。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于斯特拉塔西斯公司,未經(jīng)斯特拉塔西斯公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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