[發(fā)明專利]包含含氧化鈰磨料粒子的CMP組合物

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201480051205.0
• 申請日: 2014-07-08
• 公開（公告）號: CN105555889B
• 公開（公告）日: 2018-11-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: M·勞特爾;Y·李;B·M·諾勒;R·朗格;R·賴夏特;蘭永清;V·博伊科;A·克勞澤;J·馮塞耶爾;S·A·奧斯曼易卜拉欣;M·西伯特;K·哈特納格爾;J·登勒;N·S·希勒沙姆
• 申請（專利權(quán)）人: 巴斯夫歐洲公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;C09K3/14;C09G1/04;C09G1/00
• 代理公司: 北京市中咨律師事務(wù)所 11247
• 代理人: 王丹丹;劉金輝

1.一種化學機械拋光(CMP)組合物，其包含以下成分：

(A)含氧化鈰磨料粒子

(B)一種或多種聚合物，其中所述聚合物(B)的各大分子對應(yīng)于式(10)

其中

A為C_xH_2x，其中對于所述結(jié)構(gòu)單元-(AO)_a-R中的每個A，x與每一其他x獨立地選自2至4范圍內(nèi)的整數(shù)；其中在各結(jié)構(gòu)單元-(AO)_a-R內(nèi)，基團A為相同或不同，

-a為選自5至200范圍內(nèi)的整數(shù)

-R為氫或具有1至4個碳原子的支化或線性烷基，

-Q¹為包含2至18個碳原子及任選一個或多個雜原子的烴基，

-A¹為包含1至5個碳原子的亞烷基，

-R_j基團彼此獨立地選自：

-A¹-PO₃H₂基團，其中A¹具有以上所定義的含義，

-包含1至18個碳原子且能夠帶有-(AO)_a-R基團的烷基

及

-基團

其中B表示具有2至18個碳原子的亞烷基，

-r為通過所有R_j基團所帶有的結(jié)構(gòu)單元-(AO)_a-R的數(shù)目，

-q為通過Q¹所帶有的結(jié)構(gòu)單元-(AO)_a-R的數(shù)目，

-選擇“r+q”總和以使得在所述聚合物(B)中，所有所述結(jié)構(gòu)單元(ii)-(AO)_a-R的摩爾質(zhì)量總和以所述聚合物(B)的摩爾質(zhì)量計至少為所述聚合物的摩爾質(zhì)量的50％，

-y為1至3范圍內(nèi)的整數(shù)，其中當y>1時，基團

為相同或不同

-Q¹、N和R_j基團可在一起形成一個或多個環(huán)，此環(huán)或這些環(huán)另外能夠含有一個或多個其他雜原子。

2.根據(jù)權(quán)利要求1的化學機械拋光(CMP)組合物，其中x為2或3。

3.根據(jù)權(quán)利要求1的化學機械拋光(CMP)組合物，其中x為2。

4.根據(jù)權(quán)利要求1的化學機械拋光(CMP)組合物，其中a為選自8至150范圍內(nèi)的整數(shù)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1的化學機械拋光(CMP)組合物，其中a為選自20至135范圍內(nèi)的整數(shù)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1的化學機械拋光(CMP)組合物，其中選擇“r+q”總和以使得在所述聚合物(B)中，所有所述結(jié)構(gòu)單元(ii)-(AO)_a-R的摩爾質(zhì)量總和以所述聚合物(B)的摩爾質(zhì)量計至少為所述聚合物的摩爾質(zhì)量的90％或大于90％。

7.根據(jù)權(quán)利要求1的化學機械拋光(CMP)組合物，其中選擇所述一種或多種聚合物(B)的濃度以使得

-在6至10的pH值范圍內(nèi)含氧化鈰粒子(A)不絮凝

和/或

-在6至10范圍內(nèi)的pH值下，含氧化鈰粒子的ζ電位在+30mV與-30mV之間的范圍內(nèi)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-7中任一項的化學機械拋光(CMP)組合物，其中在所述聚合物(B)或所述聚合物(B)的至少一種中

所述一個或多個結(jié)構(gòu)單元(ii)-(AO)_a-R中每一個的摩爾質(zhì)量為500g/mol或大于500g/mol，

和/或

所有所述結(jié)構(gòu)單元(ii)-(AO)_a-R的摩爾質(zhì)量總和為所述聚合物(B)的摩爾質(zhì)量的60％或大于60％。

9.根據(jù)權(quán)利要求8的化學機械拋光(CMP)組合物，其中所述一個或多個結(jié)構(gòu)單元(ii)-(AO)_a-R中每一個的摩爾質(zhì)量為1000g/mol或大于1000g/mol。