[發明專利]測量切割寶石的參數

在審

• 申請號: 201480051092.4
• 申請日: 2014-07-17
• 公開（公告）號: CN105593668A
• 公開（公告）日: 2016-05-18
• 發明（設計）人: 尼古拉斯·馬修·戴維斯;塞歐翰·D伽馬;皮特·斯坦利·羅斯;麥克斯韋·拉爾夫·威利斯
• 申請（專利權）人: 戴比爾斯英國有限公司
• 主分類號: G01N21/87
• 分類號: G01N21/87
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王慧忠

1.一種用于在切割寶石定位在單個測量位置處時測量所述切割寶石的多個參數的設 備，所述設備包括：

多個光源，所述多個光源中的每個都被構造成發射處于多個發射波長或波長范圍中不 同的一個發射波長或波長范圍的光，使得發出的光照射測量位置的至少一部分；和

傳感器組件，所述傳感器組件被構造成感測處于多個感測波長或波長范圍的光，以用 于測量所述多個參數，由于對定位在測量位置處的切割寶石的照射，來自測量位置的被感 測的光在傳感器組件處被接收。

2.根據權利要求1所述的設備，進一步包括：支撐組件，所述支撐組件用于將切割寶石 保持在測量位置處以便于光透射到切割寶石的切面內和切面外。

3.根據權利要求1所述的設備，其中：所述多個光源包括寬帶光源，所述寬帶光源被構 造成發射用于測量切割寶石的吸收的光。

4.根據權利要求3所述的設備，其中：寬帶光源被構造成用于發射具有在從約300nm到 約520nm的范圍內的波長的光。

5.根據任一前述權利要求所述的設備，其中所述多個光源包括一個或多個激光源。

6.根據權利要求5所述的設備，其中：所述一個或多個激光源包括被構造成發射具有下 述波長的光的激光源，所述波長適合于從切割寶石激勵具有可檢測波長的拉曼發射光譜。

7.根據權利要求6所述的設備，其中：激光源被構造成發射約660nm的光。

8.根據任一前述權利要求所述的設備，其中所述一個或多個激光源包括至少一個激光 源，所述至少一個激光源被構造成發射具有適合于在切割寶石中激勵光致發光的波長的 光。

9.根據權利要求8所述的設備，其中：被構造成發射具有用于在切割寶石中激勵光致發 光的波長的光的所述至少一個激光源包括被構造成發射大致具有約325nm、約375nm、約 458nm、約514nm、約785nm和約830nm中的一個波長的光的至少一個激光源。

10.根據任一前述權利要求所述的設備，其中所述多個光源包括UV光源。

11.根據任一前述權利要求所述的設備，其中傳感器組件包括光譜儀，所述光譜儀包括 波長限制裝置，所述波長限制裝置被構造成用于防止檢測到在某個波長范圍中的光。

12.根據權利要求11所述的設備，其中：光譜儀包括電荷耦合裝置，并且其中波長限制 裝置包括在光進入光譜儀的路徑上定位在電荷耦合裝置之前的掩模。

13.根據權利要求12所述的設備，其中：光譜儀進一步包括在光進入光譜儀中的路徑上 定位在掩模之前的衍射光柵。

14.根據權利要求11到13中的任一項所述的設備，其中：波長范圍從350nm到400nm。

15.根據權利要求10到14中的任一項所述的設備，進一步包括：寬帶光源，所述寬帶光 源被構造成發射用于測量切割寶石的吸收的光，其中UV光源被構造成發射用于測量切割寶 石的熒光的光，

并且其中光譜儀被構造成測量在從400nm到508nm的波長范圍中的熒光并且測量在從 300nm到350nm和從400nm到508nm的兩個范圍中的吸收。

16.根據權利要求10到15中的任一項所述的設備，所述設備被構造成用于同時地測量 切割寶石的熒光和吸收。

17.根據任一前述權利要求所述的設備，其中傳感器組件包括多個傳感器，所述多個傳 感器中的每個傳感器都被構造成感測處于所述多個感測波長或波長范圍中不同的一個或 多個感測波長或波長范圍的光。

18.根據權利要求17所述的設備，其中：所述多個傳感器包括光譜儀，所述光譜儀被構 造成感測處于用于測量切割寶石的吸收的波長范圍的光。

19.根據權利要求18所述的設備，其中：光譜儀被構造成感測處于從約300nm到約520nm 的波長范圍的光。