[發明專利]使用改進的化學品來去除光致抗蝕劑的方法和設備

在審

• 申請號: 201480050598.3
• 申請日: 2014-07-09
• 公開（公告）號: CN105531042A
• 公開（公告）日: 2016-04-27
• 發明（設計）人: 丹尼爾·L·古德曼;馬尼·索博希安;阿瑟·凱格勒
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創尼克斯公司
• 主分類號: B08B3/00
• 分類號: B08B3/00
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 蔡勝有;蘇虹

1.一種從襯底去除抗蝕劑膜的方法，所述方法包括：

在加工槽中準備液浴，所述液浴包含剝離化學品，在所述剝離化學品 與給定的抗蝕劑層流體接觸時，所述剝離化學品降低所述給定的抗蝕劑層 對給定的表面的粘附性；

將具有抗蝕劑膜的襯底置于包含所述剝離化學品的所述液浴中；

充分地物理攪拌所述液浴，使得所述抗蝕劑膜從所述襯底分離并且使 所述抗蝕劑膜機械地破碎成抗蝕劑顆粒，其中少于約10％的所述抗蝕劑 膜溶解在所述液浴中；以及

使所述液浴流出所述加工槽，以使得從所述加工槽去除所述抗蝕劑顆 粒。

2.根據權利要求1所述的方法，其中準備所述液浴包括所述液浴具 有濃度小于約3％的四甲基氫氧化銨(TMAH)。

3.根據權利要求1所述的方法，其中使所述液浴流出所述加工槽包 括使所述液浴循環通過過濾系統并且返回進入所述加工槽。

4.根據權利要求3所述的方法，其中使所述液浴循環通過所述過濾 系統包括所述過濾系統具有第一流動路徑和第二流動路徑，所述過濾系統 被配置成使得流可在所述第一流動路徑與所述第二流動路徑之間切換。

5.根據權利要求4所述的方法，其中所述第一流動路徑和所述第二 流動路徑中的每一個均包括第一過濾器和第二過濾器，其中所述第二過濾 器相對于所述第一過濾器是較細的過濾器。

6.根據權利要求4所述的方法，還包括采用回流操作從給定流動路 徑清洗至少一個過濾器。

7.根據權利要求4所述的方法，還包括采用機械刮除操作從給定流 動路徑清洗至少一個過濾器。

8.根據權利要求6所述的方法，其中所述回流操作包括使用氣壓來 使所述液浴的流動反轉通過給定的過濾器并且進入相應的排放裝置。

9.根據權利要求8所述的方法，其中所述回流操作使用的液浴的體 積小于在所述加工槽和所述過濾系統中的液浴的總體積的約10％。

10.根據權利要求8所述的方法，其中在所述回流操作之后在所述加 工槽中保留的液浴的體積與所述回流操作之前的體積相比大于約90％。

11.根據權利要求8所述的方法，其中使所述液浴循環包括使循環流 保持大于約10升每分鐘。

12.根據權利要求11所述的方法，其中使所述液浴循環包括使循環 流保持大于約30升每分鐘。

13.根據權利要求8所述的方法，其中使所述液浴循環包括產生所述 液浴的通過所述加工槽的下向流循環路徑。

14.根據權利要求1所述的方法，其中準備所述液浴包括準備水溶液。

15.根據權利要求1所述的方法，其中準備所述液浴包括準備基于溶 劑的浴。

16.一種從襯底去除抗蝕劑膜的方法，所述方法包括：

將多個襯底浸沒在浴中，所述襯底中的每一個均具有抗蝕劑膜，所述 浴包含使所述抗蝕劑膜對每個襯底的粘附性降低的剝離化學品；

在每個攪拌構件被設置成與所述多個襯底中的給定襯底相鄰的情況 下，經由所述攪拌構件的陣列來對所述浴進行物理攪拌，使得所述抗蝕劑 膜從每個襯底分離并且被機械地破碎成抗蝕劑顆粒，其中少于約10％的 所述抗蝕劑膜溶解在所述浴中；

使所述浴和所述抗蝕劑顆粒流出包含有所述浴和所述多個襯底的加 工槽；以及

使所述浴循環通過過濾系統，以使得所述浴離開所述加工槽、穿過所 述過濾系統并且再進入所述加工槽。