[發(fā)明專利]通過調(diào)節(jié)性折射介質(zhì)進(jìn)行聚焦陣列掃描的設(shè)備和方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201480048795.1
• 申請日: 2014-08-08
• 公開（公告）號: CN105518509B
• 公開（公告）日: 2020-06-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 安東尼·次格瑞斯;方淇音
• 申請（專利權(quán)）人: 麥克馬斯特大學(xué)
• 主分類號: G02B26/08
• 分類號: G02B26/08;G02B26/10
• 代理公司: 北京高文律師事務(wù)所 11359
• 代理人: 徐江華

1.一種用于聚焦陣列掃描的設(shè)備，包括：

一個微透鏡陣列，用于在影像平面處生成光束聚集陣列；

顯微鏡設(shè)施，其包括管透鏡和物鏡，被構(gòu)造以將光束聚焦到與所述光束行進(jìn)時所沿方向垂直的x－y平面上，所述一個微透鏡陣列和所述顯微鏡設(shè)施被構(gòu)造為使得所述光束聚焦陣列被投射通過所述管透鏡和物鏡至用于形成所述x－y平面的影像平面的區(qū)域上；

掃描機(jī)構(gòu)，位于所述微透鏡陣列與所述顯微鏡設(shè)施的管透鏡之間，安置x傾斜折射窗口和y傾斜折射窗口以分別水平地和豎直地偏轉(zhuǎn)所述光束聚焦陣列影像，所述x傾斜折射窗口和y傾斜折射窗口中的每個的折射介質(zhì)具有相反的表面并具有預(yù)選的折射系數(shù)，對于給定的折射系數(shù)和所述光束聚焦陣列中的每條光束在所述相反的表面中的一個上的給定的入射角度，每條光束在離開所述相反的表面中的另一個時獨立于在所述光束聚焦陣列與折射窗口之間的接觸位置而沿與所述光束的傳播方向垂直的方向平移已知量，使得在樣品處形成的聚焦陣列影像將根據(jù)所述x傾斜折射窗口和所述y傾斜折射窗口的傾斜而偏移；

其中，所述光束聚焦陣列通過所述物鏡向前傳播，在樣品上形成焦點或聚焦陣列，所述掃描機(jī)構(gòu)使所述焦點或聚焦陣列移動以掃描樣品，從樣品向回行進(jìn)的光束將經(jīng)歷所述掃描機(jī)構(gòu)的倒轉(zhuǎn)偏移，倒轉(zhuǎn)偏移之后形成的焦點或聚焦陣列是靜止的。

2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中

所述折射窗口通過玻璃、塑料或螢石制成。

3.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中

所述光束聚焦陣列包括：激光束。

4.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中

所述折射介質(zhì)被可動地安裝以允許在約-25度至約+25度之間調(diào)節(jié)所述光束陣列的入射角度。

5.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中

所述折射介質(zhì)將所述光束陣列可操作地折射到2D-1D光纖陣列上，所述2D-1D光纖陣列將2D信號轉(zhuǎn)換為1D信號。

6.如權(quán)利要求5所述的設(shè)備，其中

所述1D信號由掃描相機(jī)接收。

7.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，

所述顯微鏡設(shè)施和所述微透鏡陣列被構(gòu)造為使得：發(fā)射光通過所述掃描機(jī)構(gòu)被逆反掃描，并通過分色濾光器以及發(fā)射濾光器至第二微透鏡陣列。