[發明專利]紫外線漫射照射有效
| 申請號: | 201480048772.0 | 申請日: | 2014-09-05 |
| 公開(公告)號: | CN105518380B | 公開(公告)日: | 2019-01-29 |
| 發明(設計)人: | S·斯梅塔納;A·杜博爾因斯基;T·J·貝特爾斯;Y·布林寇;I·格斯卡;M·舒爾;R·格斯卡 | 申請(專利權)人: | 傳感器電子技術股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/13357 | 分類號: | G02F1/13357;G02B5/00 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 郭思宇 |
| 地址: | 美國南*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 紫外線 漫射 照射 | ||
1.一種照射器,包括:
至少一個紫外線輻射源,被配置為生成紫外線輻射;
包括多個表面的反射腔,其中所述至少一個紫外線輻射源位于所述反射腔內,其中所述多個表面當中至少一個由第一材料制成,被配置為漫反射至少70%的紫外線輻射,并且所述多個表面中當中至少一個由第二材料制成,被配置為透射至少30%的紫外線輻射穿過第二材料并離開反射腔,并且反射至少10%的紫外線輻射,其中第二材料被構圖為包括多個孔,該多個孔被配置為增強離開反射腔的紫外線輻射的均勻性;和
反射鏡集合,位于所述反射腔內并被配置為漫反射紫外線輻射,其中每個反射鏡被構圖為包括多個孔,該多個孔被配置為改善離開反射腔的紫外線輻射的強度分布。
2.如權利要求1所述的照射器,其中每個反射鏡位于至少一個紫外線輻射源的直接下方的一定距離處,該距離為至少一個紫外線輻射源的直徑的量級。
3.如權利要求1所述的照射器,其中由第二材料部分制成的所述多個表面中當中至少一個透射出反射腔紫外線輻射的至少60%且反射紫外線輻射的至少30%。
4.如權利要求1所述的照射器,其中所述至少一個紫外線輻射源生成朝至少一個表面指向的紫外線輻射,所述至少一個表面被配置為漫反射至少70%的紫外線輻射。
5.如權利要求4所述的照射器,其中所述至少一個紫外線輻射源安裝在安裝網上。
6.如權利要求1所述的照射器,其中被配置為漫反射至少70%的紫外線輻射的所述至少一個表面包括多個漫射元件。
7.如權利要求1所述的照射器,其中所述至少一個紫外線輻射源包括紫外線輻射源的陣列。
8.如權利要求7所述的照射器,還包括位于反射腔內的部分透明、部分反射的網,被配置為漫反射來自紫外線輻射源的陣列的紫外線輻射。
9.如權利要求1所述的照射器,其中至少一個紫外線輻射源位于反射腔的側表面上。
10.一種系統,包括:
外殼,被配置為包含要消毒的物體;及
照射器,位于所述外殼中,所述照射器包括:
至少一個紫外線輻射源,被配置為生成紫外線輻射;及
包括多個表面的反射腔,其中所述至少一個紫外線輻射源位于所述該反射腔內,并且所述多個表面當中至少一個由第一材料制成,被配置為漫反射至少70%的紫外線輻射,并且所述多個表面中當中至少一個由第二材料制成,被配置為透射至少30%的紫外線輻射穿過第二材料并離開反射腔,并且反射至少10%的紫外線輻射,其中第二材料被構圖為包括多個孔,該多個孔被配置為增強離開反射腔的紫外線輻射的均勻性;和
反射鏡集合,位于所述反射腔內并被配置為漫反射紫外線輻射,其中每個反射鏡被構圖為包括多個孔,該多個孔被配置為改善離開反射腔的紫外線輻射的強度分布。
11.如權利要求10所述的系統,其中每個反射鏡位于至少一個紫外線輻射源的直接下方的一定距離處,該距離為至少一個紫外線輻射源的直徑的量級。
12.如權利要求10所述的系統,其中由第二材料部分制成的所述多個表面中當中至少一個透射出反射腔紫外線輻射的至少60%且反射紫外線輻射的至少30%。
13.如權利要求10所述的系統,其中所述至少一個紫外線輻射源安裝在安裝網上,所述安裝網包括用于透射漫射紫外線輻射的多個空隙。
14.如權利要求10所述的系統,其中被配置為漫反射至少70%的紫外線輻射的所述至少一個表面包括多個漫射元件。
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