[發(fā)明專利]用于有機光伏器件中的緩沖層的激子阻擋處理無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201480048000.7 | 申請日: | 2014-08-29 |
| 公開(公告)號: | CN105723537A | 公開(公告)日: | 2016-06-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 斯蒂芬·R·弗里斯特;杰拉米·D·齊默爾曼;布洋瑟普·宋 | 申請(專利權(quán))人: | 密歇根大學(xué)董事會 |
| 主分類號: | H01L51/42 | 分類號: | H01L51/42 |
| 代理公司: | 中原信達知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219 | 代理人: | 金海霞;楊青 |
| 地址: | 美國密*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 有機 器件 中的 緩沖 激子 阻擋 處理 | ||
1.一種有機光敏光電器件,其包含:
處于疊置關(guān)系的陽極和陰極;
光活性區(qū),其包含配置在所述陽極與陰極之間形成供體-受體異質(zhì) 結(jié)的至少一種有機供體材料和至少一種有機受體材料;
配置在所述陽極與光活性區(qū)之間的陽極緩沖層,其中所述陽極緩 沖層具有更接近于所述陽極的底表面和更遠離所述陽極的頂表面;以 及
配置在所述陽極緩沖層的頂表面上的至少一個自組裝單層。
2.權(quán)利要求1的器件,其中所述至少一個自組裝單層包含選自膦 酸、羧酸、硅烷和硫醇的分子。
3.權(quán)利要求1的器件,其中所述陽極緩沖層包含過渡金屬氧化物。
4.權(quán)利要求3的器件,其中所述過渡金屬氧化物選自MoO3、V2O3、 ReO3、WO3、TiO2、Ta2O3、ZnO、NiO及其合金。
5.權(quán)利要求4的器件,其中所述過渡金屬氧化物選自MoO3、NiO 及其合金。
6.權(quán)利要求1的器件,其中所述至少一個自組裝單層包含至少一 種膦酸。
7.權(quán)利要求6的器件,其中所述至少一種膦酸選自烷基膦酸或其 官能化衍生物和芳基膦酸。
8.權(quán)利要求7的器件,其中所述芳基膦酸選自苯基膦酸、苯甲基 膦酸、丙基苯基膦酸、萘基甲基膦酸及其官能化衍生物。
9.權(quán)利要求1的器件,其中所述至少一個自組裝單層包含苯甲基 膦酸、丁基膦酸或其官能化衍生物。
10.權(quán)利要求4的器件,其中所述至少一個自組裝單層包含苯甲 基膦酸或其官能化衍生物。
11.權(quán)利要求7的器件,其中所述烷基膦酸選自 其中n選自0至15。
12.權(quán)利要求11的器件,其中所述烷基膦酸選自甲基膦酸、乙基 膦酸、丙基膦酸、丁基膦酸及其官能化衍生物。
13.權(quán)利要求1的器件,其中所述至少一個自組裝單層具有約0.4 nm至1nm范圍內(nèi)的厚度。
14.權(quán)利要求1的器件,其中所述器件中的陽極緩沖層與沒有所 述至少一個自組裝單層的器件中的陽極緩沖層相比表現(xiàn)出更少的激子 淬滅行為。
15.權(quán)利要求1的器件,其中所述供體-受體異質(zhì)結(jié)選自平面異質(zhì) 結(jié)、混合異質(zhì)結(jié)、本體異質(zhì)結(jié)和平面-混合異質(zhì)結(jié)。
16.權(quán)利要求1的器件,其還包含配置在所述光活性區(qū)與陰極之 間的陰極緩沖層。
17.一種形成有機光敏光電器件的方法,所述方法包括:
將陽極緩沖層沉積在陽極上方,其中所述陽極緩沖層具有更接近 于所述陽極的底表面和更遠離所述陽極的頂表面;
將至少一個自組裝單層沉積在所述陽極緩沖層的頂表面上;
將光活性區(qū)沉積在所述陽極緩沖層上方,其中所述光活性區(qū)包含 形成供體-受體異質(zhì)結(jié)的至少一種有機供體材料和至少一種有機受體材 料;以及
將陰極沉積在所述光活性區(qū)上方。
18.權(quán)利要求17的方法,其中所述至少一個自組裝單層通過物理 氣相沉積來沉積。
19.權(quán)利要求17的方法,其中沉積至少一個自組裝單層的步驟包 括將溶液至少施加到所述陽極緩沖層的頂表面。
20.權(quán)利要求19的方法,其中所述溶液包含溶劑和選自膦酸、羧 酸、硅烷和硫醇的分子。
21.權(quán)利要求20的方法,其中所述溶劑包含醇或四氫呋喃(THF)。
22.權(quán)利要求20的方法,其中所述溶液使用選自旋涂、浸泡、噴 涂、刮涂和狹縫模具涂布的技術(shù)來施加。
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