[發明專利]導電性高分子制造用單體液及使用其的電解電容器的制造方法有效
| 申請號: | 201480047320.0 | 申請日: | 2014-09-03 |
| 公開(公告)號: | CN105531298B | 公開(公告)日: | 2017-11-28 |
| 發明(設計)人: | 杉原良介;山口太一;鶴元雄平 | 申請(專利權)人: | 帝化株式會社 |
| 主分類號: | C08G61/12 | 分類號: | C08G61/12;C08G73/00;H01G9/028 |
| 代理公司: | 北京三幸商標專利事務所(普通合伙)11216 | 代理人: | 劉淼 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 導電性 高分子 制造 體液 使用 電解電容器 方法 | ||
1.一種導電性高分子制造用單體液,其為與氧化劑接觸之前的導電性高分子制造用單體液,其特征在于在從由噻吩或其衍生物、吡咯或其衍生物及苯胺或其衍生物組成的群組中選出的至少一種單體中,分散有從由萘磺酸類雜環化合物及不具有與苯核直接鍵合的羥基的苯磺酸類雜環化合物組成的群組中選出的至少一種。
2.權利要求1所述的導電性高分子制造用單體液,其中,萘磺酸類雜環化合物為從由萘單磺酸雜環化合物及萘三磺酸雜環化合物組成的群組中選出的至少一種。
3.權利要求1所述的導電性高分子制造用單體液,其中,萘磺酸類雜環化合物的雜環為包含氮原子的雜環。
4.權利要求1所述的導電性高分子制造用單體液,其中,萘磺酸類雜環化合物的雜環化合物部分為從由咪唑、1-甲基咪唑、2-甲基咪唑、4-甲基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑、2-甲基-4-乙基咪唑、三唑、三嗪、吡啶、嗎啉及哌嗪組成的群組中選出的至少一種。
5.權利要求1所述的導電性高分子制造用單體液,其中,苯磺酸類雜環化合物為從由苯磺酸雜環化合物、具有烷基的苯磺酸雜環化合物、具有烷氧基的苯磺酸雜環化合物及具有硝基的苯磺酸雜環化合物組成的群組中選出的至少一種。
6.權利要求1所述的導電性高分子制造用單體液,其中,苯磺酸類雜環化合物的雜環為包含氮原子的雜環。
7.權利要求1所述的導電性高分子制造用單體液,其中,苯磺酸類雜環化合物的雜環化合物部分為從由咪唑、1-甲基咪唑、2-甲基咪唑、4-甲基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑、2-甲基-4-乙基咪唑、三唑、三嗪、吡啶、嗎啉及哌嗪組成的群組中選出的至少一種。
8.權利要求1所述的導電性高分子制造用單體液,其中,單體與從由萘磺酸類雜環化合物及不具有與苯核直接鍵合的羥基的苯磺酸類雜環化合物組成的群組中選出的至少一種的比率以質量比計為1:0.1~0.1:1。
9.權利要求1所述的導電性高分子制造用單體液,其更進一步包含碳數為1~4的醇。
10.權利要求1所述的導電性高分子制造用單體液,其中,單體為噻吩或其衍生物。
11.權利要求10所述的導電性高分子制造用單體液,其中,噻吩的衍生物為下述通式(1)所示的化合物,
式中,R表示氫或碳數1~4的烷基。
12.權利要求1所述的導電性高分子制造用單體液,其中,單體為噻吩或其衍生物與吡咯或其衍生物的混合物,該噻吩或其衍生物相對于噻吩或其衍生物而以質量基準計包含1~100%的吡咯或其衍生物。
13.一種電解電容器的制造方法,其使電容器元件含浸權利要求1所述的導電性高分子制造用單體液后,經由至少一次使該電容器元件含浸氧化劑溶液并進行單體的聚合的工序,從而形成由導電性高分子構成的固體電解質層。
14.一種電解電容器的制造方法,其使電容器元件利用權利要求13所述的方法而形成由導電性高分子構成的固體電解質層后,經由至少一次含浸導電性高分子的分散液并進行干燥的工序,從而進一步形成由導電性高分子構成的固體電解質層。
15.一種電解電容器的制造方法,其經由至少一次使電容器元件含浸導電性高分子的分散液并進行干燥的工序而形成固體電解質層后,利用權利要求13所述的方法而形成由導電性高分子構成的固體電解質層,然后,經由至少一次含浸導電性高分子的分散液并進行干燥的工序,進一步形成由導電性高分子構成的固體電解質層。
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