[發明專利]含有光響應性分散劑的含有分散劑的碳材料膜、使用該含有分散劑的碳材料膜的碳材料膜的制造方法

在審

• 申請號: 201480043397.0
• 申請日: 2014-07-25
• 公開（公告）號: CN105431379A
• 公開（公告）日: 2016-03-23
• 發明（設計）人: 松澤洋子;吉田勝;近藤直樹;木原秀元
• 申請（專利權）人: 國立研究開發法人產業技術綜合研究所
• 主分類號: C01B31/02
• 分類號: C01B31/02;B01F17/18;B82Y30/00;B82Y40/00;C09K3/00;G03F7/004;G03F7/32;C07C237/40;C07C245/08
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 金鮮英;涂琪順

1.一種含有分散劑的碳材料膜，其含有具有光響應性、且由下述通式(I)表示的茋系或偶氮苯系分散劑，

式中，R₁～R₆各自獨立地為氫、碳原子數1～5的直鏈狀烷基或碳原子數3～6的支鏈狀烷基；A為碳原子或氮原子；X為陰離子；n為nX成為-2價的數。

2.根據權利要求1所述的含有分散劑的碳材料膜，X為選自鹵原子(F、Cl、Br、I)、四氟硼酸基(BF₄)、六氟磷酸(PF₆)、雙(三氟甲磺酰)酰亞胺、硫代異氰酸酯(SCN)、硝酸基(NO₃)、硫酸基(SO₄)、硫代硫酸基(S₂O₃)、碳酸基(CO₃)、碳酸氫基(HCO₃)、磷酸基、亞磷酸基、次磷酸基、各鹵酸化合物酸基(AO₄、AO₃、AO₂、AO：A＝Cl、Br、I)、三(三氟甲基磺酰)碳酸基、三氟甲基磺酸基、二氰胺基、乙酸基(CH₃COO)、鹵化乙酸基(CA_nH_3-n)COO)、四苯基硼酸基(BPh₄)及其衍生物(B(Aryl)₄)中的至少1種，在鹵化乙酸基(CA_nH_3-n)COO)中，A為F、Cl、Br、I；n為1、2、3，在四苯基硼酸基的衍生物(B(Aryl)₄)中，Aryl為取代苯基。

3.根據權利要求1或2所述的含有分散劑的碳材料膜，其形成于基板上。

4.根據權利要求1～3的任一項所述的含有分散劑的碳材料膜，所述碳材料為選自由SWCNT、MWCNT、炭黑、碳纖維、石墨粒子所組成的組中的1種或2種以上。

5.一種電子器件或電氣器件制造用材料，其包含權利要求1～4的任一項所述的含有分散劑的碳材料膜。

6.一種碳材料膜或圖案化碳材料膜的制造方法，其特征在于，具備下述工序：曝光工序，對權利要求1～4的任一項所述的含有分散劑的碳材料膜進行整面曝光處理、或以規定圖案進行部分曝光處理；沖洗工序，通過將曝光處理后的含有分散劑的碳材料膜用沖洗液進行處理，來溶解除去未曝光部分，并且除去曝光部分的分散劑。

7.根據權利要求6所述的碳材料膜或圖案化碳材料膜的制造方法，沖洗液為水或有機溶劑。

8.一種電氣器件或電子器件的制造方法，其包含權利要求6或7所述的碳材料膜或圖案化碳材料膜的制造方法。