[發(fā)明專利]使用離子束處理由氧化鈰制成的粉末的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201480043025.8 | 申請日: | 2014-07-24 |
| 公開(公告)號: | CN105431229A | 公開(公告)日: | 2016-03-23 |
| 發(fā)明(設計)人: | D·比薩爾多;F·蓋爾納萊克 | 申請(專利權)人: | 奎爾科技 |
| 主分類號: | B01J23/10 | 分類號: | B01J23/10;B01J37/00 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人: | 孟凡宏;謝燕軍 |
| 地址: | 法國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 使用 離子束 處理 氧化 制成 粉末 方法 | ||
1.通過離子束(F)處理基于氧化鈰的粉末(P)的方法,其特征在于:
-在處理期間將粉末混合一次或多次;
-通過離子轟擊通過離子束的離子處理粉末;
-離子束的離子選自下組元素:氦(He)、硼(B)、碳(C)、氮(N)、氧(O)、氖(Ne)、氬(Ar)、氪(Kr)和氙(Xe);
-離子的加速電壓大于或等于10kV且小于或等于1000kV;
-粉末(P)的溫度小于或等于T
-在處理結束時每單位待處理粉末重量的累積總離子劑量選擇為10
2.如前述權利要求所述的方法,其特征在于每單位待處理粉末重量的離子劑量為10
3.如前述任一項權利要求所述的方法,其特征在于離子的加速電壓為20kV-200kV。
4.如權利要求1所述的方法,其特征在于用選自下組元素的輕離子進行粉末(P)的處理:氦(He)、硼(B)、碳(C)、氮(N)、氧(O)和氖(Ne)。
5.如權利要求1所述的方法,其特征在于計算粉末的鋪展表面積以使得粉末厚度至少等于被所述粉末中的離子覆蓋的距離的兩倍。
6.如權利要求1所述的方法,其特征在于其中發(fā)現(xiàn)粉末(P)的鋪展表面(S)或包含粉末的振動裝置根據(jù)在速度R
7.如權利要求1所述的方法,其特征在于所述基于氧化鈰的粉末(P)選自二氧化鈰(CeO
8.根據(jù)前述任一項權利要求所述的方法獲得的基于氧化鈰的粉末(P),其中所述粉末的顆粒的處理程度為1%-99%,并包含納米孔。
9.異相催化裝置,包含轉化氣體或液體的區(qū)域,其特征在于所述轉化氣體或液體的區(qū)域包含如權利要求1-7任一項所述的通過離子束處理基于氧化鈰的粉末的方法獲得的基于氧化鈰的粉末(P)或如權利要求8所述的粉末。
10.如前述權利要求所述的異相催化裝置,其特征在于所述異相催化裝置是催化轉化器。
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