[發(fā)明專利]濃縮裝置的水垢檢測裝置及方法以及水再生處理系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201480041630.1 | 申請日: | 2014-12-08 |
| 公開(公告)號: | CN105408008A | 公開(公告)日: | 2016-03-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 上戶龍;沖野進;江田昌之;櫻井秀明;鵜飼展行;鈴木英夫;中小路裕;吉岡茂 | 申請(專利權(quán))人: | 三菱重工業(yè)株式會社 |
| 主分類號: | B01D65/00 | 分類號: | B01D65/00;C02F1/44;C02F5/00;C02F5/10;C02F5/14;G01M99/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 雒運樸 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 濃縮 裝置 水垢 檢測 方法 以及 再生 處理 系統(tǒng) | ||
1.一種濃縮裝置的水垢檢測裝置,其特征在于,具備:
濃縮裝置,其具有對至少包含石膏的被處理水濃縮鹽分,獲得淡水的濾膜;以及
水垢檢測部,其設(shè)置在從用于排出鹽分被濃縮的濃縮水的濃縮水管線分支出的分支管線上,具有對所述濃縮水進一步濃縮鹽分,獲得檢測用淡水并且檢測所述濃縮水中有無析出水垢成分的檢測膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濃縮裝置的水垢檢測裝置,其特征在于,
具備對供應(yīng)給所述水垢檢測部的檢測膜的濃縮水水壓進行增壓的增壓泵。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的濃縮裝置的水垢檢測裝置,其特征在于,
具備降低被所述檢測膜分離的檢測用濃縮水的分離水量的閥門。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的濃縮裝置的水垢檢測裝置,其特征在于,
具備使被所述檢測膜分離的所述檢測用濃縮水再次返回到檢測膜入口側(cè)的循環(huán)管線。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的濃縮裝置的水垢檢測裝置,其特征在于,
具備使供應(yīng)給所述水垢檢測部的濃縮水進行熱交換的熱交換器。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的濃縮裝置的水垢檢測裝置,其特征在于,
如果在引入到所述濃縮裝置之前,供應(yīng)阻垢劑以防止水垢附著于所述濃縮裝置的濾膜上,
則對來自所述濃縮裝置的濃縮水供應(yīng)酸,使阻垢劑失效。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的濃縮裝置的水垢檢測裝置,其特征在于,
所述水垢成分為石膏,所述檢測膜為反滲透膜。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的濃縮裝置的水垢檢測裝置,其特征在于,
所述被處理水為礦山廢水、發(fā)電廠冷卻塔的回流水、開采油氣時的產(chǎn)出水、堿水、工業(yè)廢水中的任一種。
9.一種濃縮裝置的水垢檢測方法,其特征在于,具備:鹽分濃縮工序,其利用濾膜對至少包含石膏的被處理水濃縮鹽分,分離為淡水和濃縮水;以及
水垢檢測工序,其對分離的、鹽分被濃縮的一部分濃縮水進一步濃縮鹽分,獲得檢測用淡水,并且檢測所述濃縮水中有無析出水垢成分。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的濃縮裝置的水垢檢測方法,其特征在于,
對供應(yīng)給所述水垢檢測工序的檢測膜的濃縮水水壓進行增壓,提高濃縮率。
11.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的濃縮裝置的水垢檢測方法,其特征在于,
降低被檢測膜分離的檢測用濃縮水的分離水量,提高濃縮率。
12.根據(jù)權(quán)利要求9至11中任一項所述的濃縮裝置的水垢檢測方法,其特征在于,
使被檢測膜分離的所述檢測用濃縮水再次返回到檢測膜入口側(cè),提高濃縮率。
13.根據(jù)權(quán)利要求9至12中任一項所述的濃縮裝置的水垢檢測方法,其特征在于,
使供應(yīng)給所述水垢檢測部的濃縮水進行熱交換,增大水垢析出量。
14.根據(jù)權(quán)利要求9至13中任一項所述的濃縮裝置的水垢檢測方法,其特征在于,
如果在引入到所述濃縮裝置之前,供應(yīng)阻垢劑以防止水垢附著于濃縮裝置的濾膜上,
則對來自所述濃縮裝置的濃縮水供應(yīng)酸,使所述阻垢劑失效。
15.一種水再生處理系統(tǒng),其特征在于,具備:第1阻垢劑供應(yīng)部,其向具有石膏成分的被處理水供應(yīng)阻垢劑;
第1pH調(diào)節(jié)部,其利用pH調(diào)節(jié)劑調(diào)節(jié)被供應(yīng)所述阻垢劑的排出水的pH值;
第1濃縮裝置,其設(shè)置于所述第1pH調(diào)節(jié)部的下游側(cè),濃縮所述被處理水中的鹽分,并分離為第1淡水和第2濃縮水;
析晶槽,其設(shè)置于所述第1濃縮裝置的下游側(cè),使石膏從所述第1濃縮水中析晶;和
第1水垢檢測部,其設(shè)置在從用于排出所述第1濃縮裝置的鹽分被濃縮的所述第1濃縮水的第1濃縮水管線分支出的第1分支管線上,具有對所述第1濃縮水進一步濃縮鹽分,獲得第1檢測用淡水并且檢測所述濃縮水中有無析出水垢成分的第1檢測膜。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的水再生處理系統(tǒng),其特征在于,進而具備:
第2阻垢劑供應(yīng)部,其向已分離所述石膏的第1濃縮水中供應(yīng)所述阻垢劑;
第2pH調(diào)節(jié)部,其調(diào)節(jié)被供應(yīng)所述阻垢劑的第1濃縮水的pH值;
第2濃縮裝置,其設(shè)置于所述第2pH調(diào)節(jié)部的下游側(cè),濃縮所述第1濃縮水中的鹽分,并分離為第2淡水和第2濃縮水;和
第2水垢檢測部,其設(shè)置在從用于排出所述第2濃縮裝置的鹽分被濃縮的所述第2濃縮水的第2濃縮水管線分支出的第2分支管線上,具有對所述第2濃縮水進一步濃縮鹽分,獲得第2檢測用淡水并且檢測所述第2濃縮水中有無析出水垢成分的第2檢測膜。
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