[發明專利]用于蓋與噴嘴上的稀土氧化物基涂層的離子輔助沉積

有效

• 申請號: 201480041007.6
• 申請日: 2014-07-15
• 公開（公告）號: CN105392913B
• 公開（公告）日: 2019-05-10
• 發明（設計）人: J·Y·孫;B·P·卡農戈;V·菲魯茲多爾;Y·張
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: C23C14/48
• 分類號: C23C14/48;C23C14/08;C23C14/54
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 黃嵩泉

1.一種用于蝕刻反應器的腔室部件，包含：

蓋或噴嘴，所述蓋或噴嘴包含陶瓷主體；以及

保護層，所述保護層位于所述陶瓷主體的至少一個表面上，其中，所述保護層是抗等離子體的稀土氧化物膜，所述抗等離子體的稀土氧化物膜具有0.5μm到300μm的厚度且具有小于10微英寸的平均表面粗糙度并且所述保護層的孔隙度小于1％，其中所述保護層具有涂覆了所述蓋所包括的孔的內部的一部分的側壁部，并且所述保護層的所述側壁部在所述蓋的表面附近較厚并且進入所述孔而逐漸變得更薄，其中所述保護層是離子輔助沉積IAD涂層。

2.如權利要求1所述的腔室部件，其中，所述保護層包含以下各項中的至少一者：Y₃Al₅O₁₂、Y₄Al₂O₉、Er₂O₃、Gd₂O₃、Er₃Al₅O₁₂、Gd₃Al₅O₁₂、YF₃、Nd₂O₃、Er₄Al₂O₉、ErAlO₃、Gd₄Al₂O₉、GdAlO₃、Nd₃Al₅O₁₂、Nd₄Al₂O₉、NdAlO₃或包含Y₄Al₂O₉與Y₂O₃-ZrO₂固溶體的陶瓷化合物。

3.如權利要求1所述的腔室部件，其中，所述保護層具有10μm-30μm的厚度。

4.如權利要求1所述的腔室部件，其中，所述保護層包括陶瓷化合物，所述陶瓷化合物包含Y₄Al₂O₉與Y₂O₃-ZrO₂固溶體，其中，所述陶瓷化合物具有選自由下列各項組成的列表的組分：

40摩爾％-100摩爾％的Y₂O₃、0-60摩爾％的ZrO₂和0-10摩爾％的Al₂O₃；

40摩爾％-60摩爾％的Y₂O₃、30摩爾％-50摩爾％的ZrO₂和10摩爾％-20摩爾％的Al₂O₃；

40摩爾％-50摩爾％的Y₂O₃、20摩爾％-40摩爾％的ZrO₂和20摩爾％-40摩爾％的Al₂O₃；

70摩爾％-90摩爾％的Y₂O₃、0-20摩爾％的ZrO₂和10摩爾％-20摩爾％的Al₂O₃；

60摩爾％-80摩爾％的Y₂O₃、0-10摩爾％的ZrO₂和20摩爾％-40摩爾％的Al₂O₃；以及

40摩爾％-60摩爾％的Y₂O₃、0-20摩爾％的ZrO₂和30摩爾％-40摩爾％的Al₂O₃。