[發(fā)明專利]用于蓋與噴嘴上的稀土氧化物基涂層的離子輔助沉積

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201480041007.6
• 申請日: 2014-07-15
• 公開（公告）號: CN105392913B
• 公開（公告）日: 2019-05-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: J·Y·孫;B·P·卡農(nóng)戈;V·菲魯茲多爾;Y·張
• 申請（專利權(quán)）人: 應(yīng)用材料公司
• 主分類號: C23C14/48
• 分類號: C23C14/48;C23C14/08;C23C14/54
• 代理公司: 上海專利商標事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 黃嵩泉

1.一種用于蝕刻反應(yīng)器的腔室部件，包含：

蓋或噴嘴，所述蓋或噴嘴包含陶瓷主體；以及

保護層，所述保護層位于所述陶瓷主體的至少一個表面上，其中，所述保護層是抗等離子體的稀土氧化物膜，所述抗等離子體的稀土氧化物膜具有0.5μm到300μm的厚度且具有小于10微英寸的平均表面粗糙度并且所述保護層的孔隙度小于1％，其中所述保護層具有涂覆了所述蓋所包括的孔的內(nèi)部的一部分的側(cè)壁部，并且所述保護層的所述側(cè)壁部在所述蓋的表面附近較厚并且進入所述孔而逐漸變得更薄，其中所述保護層是離子輔助沉積IAD涂層。

2.如權(quán)利要求1所述的腔室部件，其中，所述保護層包含以下各項中的至少一者：Y₃Al₅O₁₂、Y₄Al₂O₉、Er₂O₃、Gd₂O₃、Er₃Al₅O₁₂、Gd₃Al₅O₁₂、YF₃、Nd₂O₃、Er₄Al₂O₉、ErAlO₃、Gd₄Al₂O₉、GdAlO₃、Nd₃Al₅O₁₂、Nd₄Al₂O₉、NdAlO₃或包含Y₄Al₂O₉與Y₂O₃-ZrO₂固溶體的陶瓷化合物。

3.如權(quán)利要求1所述的腔室部件，其中，所述保護層具有10μm-30μm的厚度。

4.如權(quán)利要求1所述的腔室部件，其中，所述保護層包括陶瓷化合物，所述陶瓷化合物包含Y₄Al₂O₉與Y₂O₃-ZrO₂固溶體，其中，所述陶瓷化合物具有選自由下列各項組成的列表的組分：

40摩爾％-100摩爾％的Y₂O₃、0-60摩爾％的ZrO₂和0-10摩爾％的Al₂O₃；

40摩爾％-60摩爾％的Y₂O₃、30摩爾％-50摩爾％的ZrO₂和10摩爾％-20摩爾％的Al₂O₃；

40摩爾％-50摩爾％的Y₂O₃、20摩爾％-40摩爾％的ZrO₂和20摩爾％-40摩爾％的Al₂O₃；

70摩爾％-90摩爾％的Y₂O₃、0-20摩爾％的ZrO₂和10摩爾％-20摩爾％的Al₂O₃；

60摩爾％-80摩爾％的Y₂O₃、0-10摩爾％的ZrO₂和20摩爾％-40摩爾％的Al₂O₃；以及

40摩爾％-60摩爾％的Y₂O₃、0-20摩爾％的ZrO₂和30摩爾％-40摩爾％的Al₂O₃。