[發明專利]用于工藝環上的稀土氧化物基薄膜涂層的離子輔助沉積

有效

• 申請號: 201480040772.6
• 申請日: 2014-07-15
• 公開（公告）號: CN105378900B
• 公開（公告）日: 2018-10-09
• 發明（設計）人: J·Y·孫;B·P·卡農戈;V·菲魯茲多爾;Y·張
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: H01L21/3065
• 分類號: H01L21/3065;H01L21/683;H01L21/02
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 黃嵩泉

1.一種用于蝕刻反應器的腔室部件，包括：

環形主體，所述環形主體包括氧化物基陶瓷、氮化物基陶瓷或碳化物基陶瓷中的至少一者，其中所述環形主體是包括頂部平坦區域、環內側和環外側的燒結陶瓷體，其中所述環內側包括大致豎直壁；以及

保護層，所述保護層在所述環形主體的至少所述頂部平坦區域、所述環內側和所述環外側上，其中，所述保護層是包含抗等離子體的稀土氧化物的共形層，具有小于1％的孔隙度，具有小于6微英寸的平均表面粗糙度，并且在所述頂部平坦區域上具有小于300微米的第一厚度且在所述環內側的所述大致豎直壁上具有第二厚度，其中所述第二厚度是所述第一厚度的45-70％。

2.如權利要求1所述的腔室部件，其中，所述保護層包括以下各項中的至少一者：Y₃Al₅O₁₂、Y₄Al₂O₉、Er₂O₃、Gd₂O₃、Er₃Al₅O₁₂、Gd₃Al₅O₁₂、YF₃、Nd₂O₃、Er₄Al₂O₉、ErAlO₃、Gd₄Al₂O₉、GdAlO₃、Nd₃Al₅O₁₂、Nd₄Al₂O₉、NdAlO₃、或包含Y₄Al₂O₉與Y₂O₃-ZrO₂固溶體的陶瓷化合物。

3.如權利要求1所述的腔室部件，其中，所述保護層具有5微米至15微米的厚度。

4.如權利要求1所述的腔室部件，其中，所述保護層包括包含Y₄Al₂O₉與Y₂O₃-ZrO₂固溶體的陶瓷化合物，其中，所述陶瓷化合物具有選自由下列各項組成的列表的組分：

40～100摩爾％的Y₂O₃、0～60摩爾％的ZrO₂以及0～10摩爾％的Al₂O₃；

40～60摩爾％的Y₂O₃、30～50摩爾％的ZrO₂以及10～20摩爾％的Al₂O₃；

40～50摩爾％的Y₂O₃、20～40摩爾％的ZrO₂以及20～40摩爾％的Al₂O₃；

70～90摩爾％的Y₂O₃、0～20摩爾％的ZrO₂以及10～20摩爾％的Al₂O₃；

60～80摩爾％的Y₂O₃、0～10摩爾％的ZrO₂以及20～40摩爾％的Al₂O₃；以及

40～60摩爾％的Y₂O₃、0～20摩爾％的ZrO₂以及30～40摩爾％的Al₂O₃。