[發明專利]用于去除含氧物污染物的烯烴處理吸附劑的再生方法

無效

• 申請號: 201480040029.0
• 申請日: 2014-03-14
• 公開（公告）號: CN105492094A
• 公開（公告）日: 2016-04-13
• 發明（設計）人: R·F·克萊夫登;C·M·洛;H·K·C·蒂姆肯
• 申請（專利權）人: 雪佛龍美國公司
• 主分類號: B01D15/20
• 分類號: B01D15/20;B01J20/34;C07C7/12;C10G70/04
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 孫愛

1.從輕烴處理系統中去除含氧物的方法，所述方法包括：

a)將烯烴料流送入含氧物吸附單元以提供除氧烯烴料流；

b)步驟a)后，借助再生劑料流將所述含氧物從所述含氧物吸附 單元解吸以提供包括所述含氧物的含氧再生劑料流；和

c)將所述含氧再生劑料流的所述含氧物轉化為鏈烷烴和水。

2.權利要求1的方法,其中步驟c)包括：

d)在氫氣存在下將所述含氧再生劑料流與加氫除氧催化劑在加氫 除氧區于加氫除氧條件下進行接觸。

3.權利要求2的方法，進一步包括：

e)步驟d)之前，將所述含氧再生劑料流加熱到350-650°F (176.7-343.3℃)的溫度。

4.權利要求3的方法，進一步包括：

f)步驟e)之后，在所述加氫除氧區的上游的位置將氫氣注入到 所述含氧再生劑料流中。

5.權利要求2的方法，其中所述加氫除氧條件包括溫度為 350-650°F(176.7-343.3℃)，壓力為100-400psig和LHSV為2-20hr^-1。

6.權利要求2的方法，進一步包括：

g)將加氫除氧區流出物冷卻，以使所述加氫除氧區流出物中至少 一部分水冷凝以提供冷凝水和剩余流出物；

h)將氫氣和殘留水從所述剩余流出物中分離出來；和

i)從所述輕烴處理系統中徹底去除所述冷凝水和所述殘留水。

7.權利要求1的方法，進一步包括：

j)當所述含氧物吸附單元失效時，停止步驟a)；和

k)步驟b)之前，將殘留烯烴從失效的含氧物吸附單元回收。

8.權利要求1的方法，其中步驟b)包括將所述再生劑料流加熱 到至少250°F(121.1℃)的溫度，之后將所述再生劑料流流過所述氧 化物吸附單元。

9.權利要求1的方法，其中步驟a)包括借助所述氧化物吸附單 元從所述烯烴料流中吸附水和所述含氧物。

10.權利要求1的方法，其中所述含氧物吸附單元所提供的所述除 氧烯烴料流的含氧物含量不超過5ppmw和水含量不超過5ppmw。

11.權利要求1的方法，進一步包括：

l)在離子液體烷基化區將所述除氧烯烴料流和異構鏈烷烴料流與 離子液體催化劑于離子液體烷基化條件下進行接觸以提供離子液體烷 基化物。

12.從輕烴處理系統中去除含氧物的方法，所述方法包括：

a)借助含氧物吸附單元將所述含氧物從烯烴料流中去除以提供除 氧烯烴料流，其中所述含氧物吸附單元逐漸失效；

b)借助再生劑料流將失效的吸附單元再生以提供包括含氧物的含 氧再生劑料流；和

c)在氫氣存在下將所述含氧再生劑料流與加氫除氧催化劑在加氫 除氧區于加氫除氧條件下進行接觸，其中所述含氧再生劑料流的所述含 氧物被轉化為鏈烷烴和水。

13.權利要求12的方法，其中：

所述加氫除氧條件包括溫度為350-650°F(176.7-343.3℃)，壓力 為100-400psig和LHSV為2-20hr^-1，和

所述加氫除氧催化劑包括選自Pt、Pd及其組合的貴金屬。

14.權利要求12的方法，進一步包括：

d)將加氫除氧區流出物冷卻，以使所述加氫除氧區流出物的至少 一部分水冷凝以提供冷凝水和剩余流出物；

e)借助重力沉降罐將殘留水從所述剩余流出物中分離出來；和

f)從所述輕烴處理系統中永久地去除所述冷凝水和所述殘留水。

15.權利要求12的方法，進一步包括：

g)步驟b)之前，用溫度不超過150°F(65.56℃)的沖洗料流 從所述失效的含氧物吸附單元中沖洗出殘留烯烴。