[發(fā)明專利]用于制造渦輪機盤的腔體的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201480037747.2
• 申請日: 2014-06-06
• 公開（公告）號: CN105358280B
• 公開（公告）日: 2018-10-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 詹維爾·勒康特;讓-米歇爾·布萊雅;朱莉·克拉夫特;安德烈亞斯·格魯茲瑪赫
• 申請（專利權(quán)）人: 賽峰航空器發(fā)動機
• 主分類號: B23H3/04
• 分類號: B23H3/04;B23H9/00;B23H9/10
• 代理公司: 中國商標(biāo)專利事務(wù)所有限公司 11234
• 代理人: 宋義興;周偉明

1.一種用于在渦輪機盤(52)中制造多個腔體(50)的方法，所述腔體(50)在渦輪機盤(52)的第一側(cè)表面(53)與第二側(cè)表面(54)之間延伸，所述第一側(cè)表面(53)和第二側(cè)表面(54)垂直于盤(52)的軸(X)延伸，所述方法包括以下步驟：

-面朝所述第一側(cè)表面(53)定位一環(huán)(55)，以將所述環(huán)(55)對中在所述盤(52)的軸(X)上，所述環(huán)(55)包括內(nèi)周邊(57)，所述內(nèi)周邊(57)包括多個形狀與待制造的腔體(50)互補的突出部(58)；

-循環(huán)靠近所述環(huán)(55)上的突出部(58)的電解液；

-沿著盤(52)的軸(X)朝向所述第二側(cè)表面啟動所述環(huán)(55)的第一平移；

-圍繞所述盤(52)的軸(X)啟動所述盤(52)的旋轉(zhuǎn)；

-當(dāng)所述環(huán)(55)大致在所述第一側(cè)表面處時，在電解液中產(chǎn)生電流脈沖，所述脈沖導(dǎo)致在所述環(huán)(55)上的突出部(58)處的所述盤(52)的離子溶解；

-當(dāng)所述環(huán)(55)大致在所述第一側(cè)表面(53)處時，將旋轉(zhuǎn)速度減小至第一減小速度一第一時間段；以及

-當(dāng)所述環(huán)(55)已經(jīng)平移超過所述第二側(cè)表面(54)時，停止所述環(huán)(55)的第一平移。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，其包括以下步驟：

-沿著所述盤(52)的軸(X)朝向所述第一側(cè)表面啟動所述環(huán)(55)的第二平移。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述第一減小速度是零。

4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任何一項所述的方法，其特征在于，包括以下步驟：

-當(dāng)所述環(huán)(55)大致在所述第二側(cè)表面(54)處時，將旋轉(zhuǎn)速度減小至第二減小速度一第二時間段。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述第二減小速度是零。

6.一種用于在渦輪機盤(52)中制造多個腔體(50)的環(huán)(55)，其特征在于，該環(huán)包括：

-內(nèi)周邊(57)，所述內(nèi)周邊(57)包括多個形狀與待制造的所述腔體(50)互補的突出部(58)，

并且該環(huán)包括三個重疊的層：

-環(huán)形的上絕緣層(90)，

-環(huán)形的中間層(91)，該中間層支承所述突出部(58)，以及

-環(huán)形的下導(dǎo)電層(92)，該下導(dǎo)電層包括循環(huán)電解液的設(shè)備的一部分，

所述循環(huán)電解液的設(shè)備靠近所述突出部(58)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的環(huán)(55)，其特征在于，

所述循環(huán)電解液的設(shè)備的所述部分包括：

·多個位于各所述突出部(58)處的凸片(93)，所述凸片(93)包括多個微通道(97)；

·多個供應(yīng)所述微通道(97)的橫向通道(94)；以及

·供應(yīng)所述橫向通道(94)的圓形通道(95)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的環(huán)(55)，其特征在于，所述上絕緣層(90)重疊在所述中間層(91)上，所述上絕緣層(90)和所述中間層(91)包括開口(96)，電解液通過所述開口(96)向所述圓形通道(95)供應(yīng)。