[發明專利]用于低壓系統的低滲漏密封件

有效

• 申請號: 201480037320.2
• 申請日: 2014-04-21
• 公開（公告）號: CN105378398B
• 公開（公告）日: 2017-10-13
• 發明（設計）人: V.M.西什特拉
• 申請（專利權）人: 開利公司
• 主分類號: F25B41/00
• 分類號: F25B41/00;F16L17/06;F16L17/10;F16L19/02;F16L23/16;F16L23/18;F16J15/00;F16J15/46
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司72001
• 代理人: 譚佐晞,張昱

1.一種被配置用在冷凍機制冷系統中的密封件，其包括：

第一凸緣；以及

第二凸緣，所述第二凸緣與所述第一凸緣軸向對準并且直接接觸，所述第二凸緣包括其內定位有第一密封機構和第二密封機構的至少一個溝槽，所述第一密封機構和所述第二密封機構隔開一定距離，使得在所述第一密封機構和所述第二密封機構之間形成被配置成接收加壓氣體的腔室。

2.根據權利要求1所述的密封件，其中所述加壓氣體的壓力大于鄰近所述第一凸緣和所述第二凸緣的周圍空氣的壓力。

3.根據權利要求1所述的密封件，其中所述第一凸緣和所述第二凸緣利用至少一個緊固件彼此連接。

4.根據權利要求1所述的密封件，其還包括延伸穿過所述第二凸緣進入所述腔室中的管道，所述管道被配置成將所述腔室流體耦接到加壓氣體的供應裝置。

5.根據權利要求4所述的密封件，其中所述加壓氣體的供應是所述冷凍機制冷系統的冷凝器的排放。

6.根據權利要求1所述的密封件，其中所述第一密封機構靠近所述第二凸緣的內徑布置，并且所述第二密封機構靠近所述第二凸緣的外徑布置。

7.根據權利要求1所述的密封件，其中所述第一密封機構和所述第二密封機構是O形環。

8.根據權利要求1所述的密封件，其中所述第二凸緣包括隔開一定距離的第一溝槽和第二溝槽。

9.根據權利要求8所述的密封件，其中所述第一溝槽靠近所述第二凸緣的內徑布置，并且所述第二溝槽靠近所述第二凸緣的外徑布置。

10.根據權利要求8所述的密封件，其中所述第一密封機構布置在所述第一溝槽內，并且所述第二密封機構布置在所述第二溝槽內。

11.根據權利要求10所述的密封件，其中所述第一密封機構和所述第二密封機構是O形環。

12.根據權利要求8所述的密封件，其中所述第一溝槽和所述第二溝槽之間的所述第二凸緣的一部分具有減小的厚度以形成所述腔室。

13.根據權利要求1所述的密封件，其中所述第一凸緣與所述冷凍機制冷系統的第一部件一體形成，并且所述第二凸緣與所述冷凍機制冷系統的第二部件一體形成。

14.根據權利要求13所述的密封件，其中所述密封件布置在流體導管和所述冷凍機制冷系統的壓縮機的入口之間。

15.根據權利要求13所述的密封件，其中所述密封件布置在流體導管和所述冷凍機制冷系統的冷卻器的入口之間。