[發明專利]顯影劑供給輥和其制造方法

有效

• 申請號: 201480029515.2
• 申請日: 2014-05-07
• 公開（公告）號: CN105247418B
• 公開（公告）日: 2019-10-11
• 發明（設計）人: 森岡竜一;益山亨
• 申請（專利權）人: 株式會社普利司通
• 主分類號: G03G15/08
• 分類號: G03G15/08
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

1.一種顯影劑供給輥的制造方法，所述顯影劑供給輥為用于圖像形成裝置的顯影劑供給輥，在其表面上包括高分子發泡材料，所述高分子發泡材料的以下定義的表面粗糙度為60μm以上且小于140μm，其特征在于，所述方法包括：將高分子發泡材料的表面用磨石進行研磨來拋光；使用的所述磨石是RF磨石，并且所述研磨在所述RF磨石的轉數為800rpm以上且2,000rpm以下的條件下進行；

所述表面粗糙度定義為在測量長度為40mm，測量間隔為1mm并且測量點數為40的情況下，測得的從基線起算的全部測量點的位移的標準偏差。

2.根據權利要求1所述的顯影劑供給輥的制造方法，其中所述轉數是800rpm以上且1,000rpm以下。

3.根據權利要求1所述的顯影劑供給輥的制造方法，其中所述高分子發泡材料的氣孔數為60個以上。

4.根據權利要求3所述的顯影劑供給輥的制造方法，其中所述高分子發泡材料的氣孔數為80個以上。

5.根據權利要求1至4任一項所述的顯影劑供給輥的制造方法，其中所述高分子發泡材料的毛體積比重為0.03至0.2。