[發明專利]具有旋轉圓盤陰極和自動陰極清潔器的水電解系統

有效

• 申請號: 201480028280.5
• 申請日: 2014-05-22
• 公開（公告）號: CN105283423B
• 公開（公告）日: 2017-12-08
• 發明（設計）人: 茲維·利夫尼;莫提·凱倫;歐麥·利夫尼;烏迪·史柏尼
• 申請（專利權）人: C.Q.M.有限公司
• 主分類號: C02F1/461
• 分類號: C02F1/461;C02F1/467;C25B15/00
• 代理公司: 上海翼勝專利商標事務所(普通合伙)31218
• 代理人: 翟羽

1.一種電解機構，系用來部署在一蓄水池中，其特征在于，該電解機構包括有：

(a)至少一個旋轉陰極，被裝設在一軸桿上，且被構建來在一電解過程中來旋轉；

(b)至少一個固定陰極清潔組件，被部署來和該至少一個旋轉陰極的表面接觸，藉此在該電解過程中，該旋轉陰極旋轉，而堆積在該旋轉陰極上的水垢則被移去，其中該固定陰極清潔組件是被向外地偏斜使得該固定陰極清潔組件的一刮除邊緣系和該旋轉陰極的該表面相接觸，以及其中該固定陰極清潔組件是被構建有一支撐延伸部，該支撐延伸部的曲率是和該軸桿周圍的曲率相當，并且該支撐延伸部抵靠在該軸桿的表面上，藉此以維持該固定陰極清潔組件和該旋轉陰極的正確對齊；及

(c)至少一個固定陽極，被部置在該至少一個旋轉陰極的附近。

2.根據權利要求1的電解機構，其特征在于：

(a)該至少一個旋轉陰極是被構建成多數間隔相距的旋轉陰極；

(b)該至少一個固定陰極清潔組件系被構建成多數間隔相距的固定陰極清潔組件，其數量和介于該旋轉陰極間之空間數量相等，如此一個固定陰極清潔組件是被部署該介于該旋轉陰極間的空間的一者中，一個固定陰極清潔組件是和其部署在其中的二個旋轉陰極的每一個的一表面相接觸，其中每個該固定陰極清潔組件是被向外地偏斜使得該固定陰極清潔組件的刮除邊緣系和該固定陰極清潔組件被部署在其間之該二個旋轉陰極的該表面相接觸；及

(c)該至少一個固定陽極系被構建成多數陽極，其數量至少和介于該旋轉陰極間的空間數量相等，如此一個固定陽極是被部署在介于該旋轉陰極間的該空間的一者中。

3.根據權利要求1的電解機構，其特征在于，該至少一個固定陰極清潔組件是被部署來自接近該軸桿的一點延伸至該至少一個旋轉陰極的至少一邊緣上。

4.根據權利要求3的電解機構，其特征在于，該至少一個固定清潔組件系被建構成下列中的一者，包括有：大致柔軟組件、大致磨擦組件和一刮除組件。

5.根據權利要求4的電解機構，其特征在于，該刮除組件系被構建有刮除邊緣并被向外地偏斜使得該刮除邊緣來和其中置有該刮除組件之旋轉陰極之每一者之表面相接觸。

6.根據權利要求1的電解機構，其特征在于，該旋轉陰極系被構建成大致為一圓盤。

7.一種用來在一電解系統中來自動清潔陰極的方法，該電解系統有至少一個旋轉陰極和至少一個固定陽極，并且該至少一個旋轉陰極被裝設在一軸桿上，其特征在于，該方法包括有：

(a)部署至少一個固定陰極清潔組件，使其和該旋轉陰極的一表面相接觸，其中該固定陰極清潔組件是被向外地偏斜使得該固定陰極清潔組件的一刮除邊緣系和該旋轉陰極的該表面相接觸，以及其中該固定陰極清潔組件是被構建有一支撐延伸部，該支撐延伸部的曲率是和該軸桿周圍的曲率相當，并且該支撐延伸部抵靠在該軸桿的表面上，藉此以維持該固定陰極清潔組件和該旋轉陰極的正確對齊；

(b)操作該電解系統，藉此使得該旋轉陰極在執行一電解過程時來旋轉；

(c)當該旋轉陰極旋轉時藉由該固定陰極清潔組件來除去堆積在該旋轉陰極上的水垢。

8.根據權利要求7的用來在一電解系統中來自動清潔陰極的方法，其特征在于，該至少一個旋轉陰極是被構建成多數間隔相距的旋轉陰極且該至少一個固定陽極系被構建成多數固定陽極，如此該部署至少一個固定陰極清潔組件系被實施為部署具有數量和該旋轉陰極間之空間數量相同的多數固定陰極清潔組件，如此一個固定陰極清潔組件是被部署在該介于該旋轉陰極間的空間的一者中，藉此，一個固定陰極清潔組件是和其部署在其中的二個旋轉陰極的每一個的一表面相接觸，其中每個該固定陰極清潔組件是被向外地偏斜使得該固定陰極清潔組件的刮除邊緣系和該固定陰極清潔組件被部署在其間之該二個旋轉陰極的該表面相接觸。