[發明專利]光學膜和面發光體

在審

• 申請號: 201480026271.2
• 申請日: 2014-04-03
• 公開（公告）號: CN105190370A
• 公開（公告）日: 2015-12-23
• 發明（設計）人: 森中剛;服部俊明;奧野大地
• 申請（專利權）人: 三菱麗陽株式會社
• 主分類號: G02B5/02
• 分類號: G02B5/02;H01L51/50;H05B33/02
• 代理公司: 上海市華誠律師事務所 31210
• 代理人: 劉香蘭

1.一種光學膜，是具有形成一側表面的凹凸結構層與形成另一側表面的粘合層的光學膜，其特征在于，

相對于所述凹凸結構層的全部質量，所述凹凸結構層含有1質量％～28質量％的第1光漫射微粒；

相對于所述粘合層的全部質量，所述粘合層含有1質量％～40質量％的第2光漫射微粒。

2.根據權利要求1所述的光學膜，其特征在于，相對于所述粘合層的全部質量，所述第2光漫射微粒的含有率為20質量％～40質量％。

3.根據權利要求1或2所述的光學膜，其特征在于，所述凹凸結構層中包含的所述第1光漫射微粒的體積平均粒徑為0.5μm～20μm。

4.根據權利要求1～3中任一項所述的光學膜，其特征在于，所述粘合層中包含的所述第2光漫射微粒的體積平均粒徑為0.5μm～20μm。

5.根據權利要求1～4中任一項所述的光學膜，其特征在于，構成所述凹凸結構層的材料的折射率與所述凹凸結構層中包含的所述第1光漫射微粒的折射率之差為0.02～0.30。

6.根據權利要求1～5中任一項所述的光學膜，其特征在于，構成所述粘合層的材料的折射率與所述粘合層中包含的所述第2光漫射微粒的折射率之差為0.02～0.30。

7.根據權利要求1～6中任一項所述的光學膜，其特征在于，所述粘合層中包含的所述第2光漫射微粒的含有率相對于所述凹凸結構層中包含的所述第1光漫射微粒的含有率之比為0.05～10，

所述第1光漫射微粒的含有率是所述第1光漫射微粒的相對于所述凹凸結構層全部質量的含有率，

所述第2光漫射微粒的含有率是所述第2光漫射微粒的相對于所述粘合層全部質量的含有率。

8.根據權利要求1～7中任一項所述的光學膜，其特征在于，所述粘合層中包含的所述第2光漫射微粒的體積平均粒徑相對于所述凹凸結構層中包含的所述第1光漫射微粒的體積平均粒徑之比為0.125～1.25。

9.根據權利要求1～8中任一項所述的光學膜，其特征在于，所述粘合層中包含的所述第2光漫射微粒的折射率相對于所述凹凸結構層中包含的所述第1光漫射微粒的折射率之比為0.80～1.05。

10.根據權利要求1～9中任一項所述的光學膜，其特征在于，進一步包含與所述凹凸結構層相接的基層，且所述凹凸結構層和所述基層的合計厚度為20μm～80μm。

11.根據權利要求1～10中任一項所述的光學膜，其特征在于，所述粘合層的厚度為5μm～50μm。

12.根據權利要求1～11中任一項所述的光學膜，其特征在于，所述粘合層中包含的所述第2光漫射微粒的體積平均粒徑相對于所述粘合層的厚度之比為0.05～0.5。

13.根據權利要求1～12中任一項所述的光學膜，其特征在于，構成所述凹凸結構層的材料是選自于由丙烯酸樹脂、苯乙烯樹脂、烯烴樹脂、聚碳酸酯樹脂、硅酮樹脂、環氧樹脂以及聚酯樹脂構成的組中的至少1種材料。

14.根據權利要求1～13中任一項所述的光學膜，其特征在于，構成所述粘合層的材料為丙烯酸系粘合劑。

15.根據權利要求1～14中任一項所述的光學膜，其特征在于，所述凹凸結構層中包含的所述第1光漫射微粒的材料是選自于由硅酮樹脂、丙烯酸樹脂、苯乙烯樹脂、聚氨酯樹脂、三聚氰胺樹脂以及環氧樹脂構成的組中的至少1種材料。

16.根據權利要求1～15中任一項所述的光學膜，其特征在于，所述粘合層中包含的所述第2光漫射微粒的材料是選自于由硅酮樹脂、丙烯酸樹脂、苯乙烯樹脂、聚氨酯樹脂、三聚氰胺樹脂以及環氧樹脂構成的組中的至少1種材料。

17.根據權利要求1～16中任一項所述的光學膜，其特征在于，進一步具有基材，且依次層疊有所述粘合層、所述基材、以及所述凹凸結構層。

18.一種面發光體，其特征在于，包含權利要求1～17中任一項所述的光學膜和EL發光元件。

19.一種光學膜的制造方法，其特征在于，

在基材的一側表面上，設置粘合層，相對于所述粘合層的全部質量，所述粘合層含有1質量％～40質量％的第2光漫射微粒；

在所述基材的另一側表面上，設置凹凸結構層，相對于所述凹凸結構層的全部質量，所述凹凸結構層含有1質量％～28質量％的第1光漫射微粒。