[發(fā)明專(zhuān)利]用于間隔的焦斑的準(zhǔn)直有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201480025708.0 | 申請(qǐng)日： | 2014-05-06 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN105307573B | 公開(kāi)（公告）日： | 2019-01-29 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | F·H·克雷默;R·D·J·H·霍夫欣克 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 皇家飛利浦有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | A61B6/06 | 分類(lèi)號(hào)： | A61B6/06;A61B6/00;G21K1/02;A61B6/02 |
| 代理公司： | 永新專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人： | 李光穎;王英 |
| 地址： | 荷蘭艾*** | 國(guó)省代碼： | 荷蘭;NL |
| 權(quán)利要求書(shū)： | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū)： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 間隔 | ||
1.一種用于醫(yī)療成像的X射線(xiàn)源裝置（10），包括：
X射線(xiàn)源（12）；以及
X射線(xiàn)射束遮板設(shè)備（14）；
其中，所述X射線(xiàn)源被配置為至少在第一焦斑位置（20）和第二焦斑位置（22）處生成X射線(xiàn)輻射（18），所述第一焦斑位置和所述第二焦斑位置在橫向于主輻射方向（R）的方向（D）上彼此以一定距離分開(kāi)；
其中，所述X射線(xiàn)射束遮板設(shè)備包括至少第一對(duì)遮板（28）以及至少第二對(duì)遮板（34），所述第一對(duì)遮板限定用于在所述第一焦斑位置處生成的第一X射線(xiàn)射束的第一光闌（30），所述第二對(duì)遮板限定在所述第二焦斑位置處生成的第二X射線(xiàn)射束的第二光闌（36），所述第一光闌和所述第二光闌部分重疊，
其中，所述第一對(duì)遮板和所述第二對(duì)遮板包括各自的第一外遮板元件（28O）和第二外遮板元件（34O），所述第一外遮板元件和所述第二外遮板元件用于將光闌限制在被布置為與所述第一光闌和所述第二光闌的重疊部分相對(duì)的外側(cè)上，所述第一外遮板元件和所述第二外遮板元件的每個(gè)包括在所述主輻射方向上的固體結(jié)構(gòu)，并且
其中，所述第一對(duì)遮板和所述第二對(duì)遮板包括各自的第一內(nèi)遮板元件（28I）和第二內(nèi)遮板元件（34I），所述第一內(nèi)遮板元件和所述第二內(nèi)遮板元件用于將光闌限制在至少部分被布置在所述第一光闌和所述第二光闌的所述重疊部分中的內(nèi)側(cè)上，
所述第一內(nèi)遮板元件和所述第二內(nèi)遮板元件的每個(gè)包括聚焦柵格結(jié)構(gòu)（44），所述第一內(nèi)遮板元件的所述聚焦柵格結(jié)構(gòu)包括被聚焦在所述第二焦斑位置處的多個(gè)第一X射線(xiàn)通道（46），并且所述第二內(nèi)遮板元件的所述聚焦柵格結(jié)構(gòu)包括被聚焦在所述第一焦斑位置處的多個(gè)第二X射線(xiàn)通道（48）。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線(xiàn)源裝置，其中，所述第一內(nèi)遮板元件至少部分被布置在所述第二焦斑位置的X射線(xiàn)射束中，所述第一內(nèi)遮板元件對(duì)于來(lái)自所述第二焦斑位置的輻射是X射線(xiàn)透射的；并且
其中，所述第二內(nèi)遮板元件至少部分被布置在所述第一焦斑位置的X射線(xiàn)射束中，所述第二內(nèi)遮板元件對(duì)于來(lái)自所述第一焦斑位置的輻射是X射線(xiàn)透射的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的X射線(xiàn)源裝置，其中，所述第一內(nèi)遮板元件在圍繞所述第二焦斑位置的第一圓形軌道（54）上是能夠移動(dòng)的；并且，所述第二內(nèi)遮板元件在圍繞所述第一焦斑位置的第二圓形軌道（56）上是能夠移動(dòng)的。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的X射線(xiàn)源裝置，其中，所述第一和第二內(nèi)遮板元件以及所述第一和第二外遮板元件被提供有中心處于所述焦斑位置中的一個(gè)的環(huán)形分段橫截面；并且其中：
（i）所述第一外遮板元件和所述第二內(nèi)遮板元件被提供為與所述第一焦斑位置同心；并且
（ii）所述第一內(nèi)遮板元件和所述第二外遮板元件被提供為與所述第二焦斑位置同心。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的X射線(xiàn)源裝置，其中，所述第一焦斑位置和第二焦斑位置被提供作為用于X射線(xiàn)成像的每幀交替地切換的兩個(gè)靜態(tài)位置；并且
其中，所述第一內(nèi)遮板元件和所述第二內(nèi)遮板元件在所述X射線(xiàn)成像期間保持暫時(shí)固定。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的X射線(xiàn)源裝置，其中，所述第一焦斑位置和所述第二焦斑位置被提供為能夠移動(dòng)的位置；并且
其中，所述第一內(nèi)遮板元件和所述第二內(nèi)遮板元件是能夠調(diào)整的，以補(bǔ)償所述焦斑位置的變化。
7.一種醫(yī)療X射線(xiàn)成像系統(tǒng)（100），包括：
根據(jù)上述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的X射線(xiàn)源裝置（10）；
X射線(xiàn)探測(cè)器（104）；以及
對(duì)象接收設(shè)備（114）；
其中，所述對(duì)象接收設(shè)備能夠定位在所述X射線(xiàn)源裝置和所述X射線(xiàn)探測(cè)器之間。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于皇家飛利浦有限公司，未經(jīng)皇家飛利浦有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201480025708.0/1.html，轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
