[發明專利]伽馬輻射探測設備

有效

• 申請號: 201480025697.6
• 申請日: 2014-04-23
• 公開（公告）號: CN105190360B
• 公開（公告）日: 2019-06-28
• 發明（設計）人: H·K·維喬雷克;C·R·龍達;J·G·博爾里坎普
• 申請（專利權）人: 皇家飛利浦有限公司
• 主分類號: G01T1/20
• 分類號: G01T1/20
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 王英;劉炳勝

1.一種伽馬輻射探測設備(1)，包括：

閃爍體元件(2)，其具有陶瓷結構；

與所述閃爍體元件(2)光學連通的光學探測器(3)；以及

散布在所述閃爍體元件(2)中的宏觀非晶格空間中的多個顆粒或空隙(5)，其中，所述顆粒或空隙(5)的平均體積直徑在100納米至1000納米的范圍內。

2.根據權利要求1所述的伽馬輻射探測設備(1)，其中，所述閃爍體元件中的散射系數與吸收系數的比率在0.5至1000的范圍內。

3.根據權利要求1所述的伽馬輻射探測設備(1)，其中，所述閃爍體元件(2)具有特征光學發射譜，并且在所述閃爍體元件的所述特征光學發射譜內的波長處，所述閃爍體元件(2)的折射率與所述顆粒或空隙(5)的折射率的比率超過1.2。

4.根據權利要求1所述的伽馬輻射探測設備(1)，其中，所述顆粒(5)為以下中的至少一種：Al₂O₃顆粒、SiO₂顆粒、MgO₂顆粒。

5.根據權利要求1所述的伽馬輻射探測設備(1)，其中，所述空隙(5)被流體填充。

6.根據權利要求5所述的伽馬輻射探測設備(1)，其中，所述空隙(5)被氣體填充。

7.根據權利要求6所述的伽馬輻射探測設備(1)，其中，所述空隙(5)被空氣填充。

8.根據權利要求1所述的伽馬輻射探測設備(1)，其中，所述光學探測器(3)借助于探測器光學接口(4)與所述閃爍體元件(2)光學連通；所述伽馬輻射探測設備(1)還包括至少一個反射層(10、11、12)；

其中，所述至少一個反射層(10、11、12)借助于氣隙(9)與除所述探測器光學接口(4)之外的所述閃爍體元件(2)的至少一個表面的至少一部分光學連通。

9.根據權利要求8所述的伽馬輻射探測設備(1)，其中，所述至少一個反射層包括第一漫反射層(11)和第二鏡面反射層(12)；

其中，所述第一漫反射層(11)比所述第二鏡面反射層(12)更靠近所述閃爍體元件(2)。

10.根據權利要求1-7中的任一項所述的伽馬輻射探測設備(1)，其中，所述閃爍體元件(2)具有多孔陶瓷結構。

11.根據權利要求1所述的伽馬輻射探測設備(1)，其中，所述閃爍體元件(2)由石榴石和/或硫氧化物形成。

12.根據權利要求1所述的伽馬輻射探測設備(1)，其中，所述閃爍體元件(2)由石榴石和/或氧化材料形成。

13.根據權利要求1-7中的任一項所述的伽馬輻射探測設備(1)，其中，所述光學探測器(3)為光電倍增管(PMT)探測器或固態半導體光學探測器。

14.一種用于制造用在如權利要求1所述的伽馬輻射探測設備(1)中的閃爍體元件(2)的方法，所述閃爍體元件(2)具有散布在所述閃爍體元件(2)中的多個空隙(5)，所述方法包括以下步驟：

提供包括陶瓷材料和聚合物內含物的漿體；

由所述漿體形成陶瓷體；并且

通過使所述陶瓷體經受熱處理來從所述陶瓷體去除所述聚合物內含物，以提供在其中散布有空隙的多孔閃爍體元件。

15.一種PET或SPECT成像系統，其具有成像區域并且包括多個根據權利要求1-13中的任一項所述的伽馬輻射探測設備(1)；

其中，多個所述伽馬輻射探測設備(1)被關于所述成像區域設置并且被配置為接收來自所述成像區域的輻射量子。

16.一種探測伽馬光子的方法，所述方法包括以下步驟：

利用根據權利要求1所述的伽馬輻射探測設備(1)來接收至少一個伽馬光子；并且

響應于對所述至少一個伽馬光子的所述接收而從所述光學探測器生成電輸出。