[發明專利]由多個薄膜形成的防指紋層的組合物及其制備方法

有效

• 申請號: 201480023891.0
• 申請日: 2014-04-23
• 公開（公告）號: CN105209568B
• 公開（公告）日: 2018-04-13
• 發明（設計）人: 金勛來;李智英
• 申請（專利權）人: 凱瑪科技株式會社
• 主分類號: C09K3/18
• 分類號: C09K3/18;C09D5/16;C09D7/61
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司11286
• 代理人: 李盛泉,孫昌浩

技術領域

本發明涉及包含金屬化合物的蒸鍍物質組合物及制備方法。

更詳細地，本發明涉及在玻璃、塑料的表面進行防水防油的耐指紋蒸鍍時進行線蒸鍍的涂敷層的組合物及制備方法，本發明具有優秀的耐磨、耐鹽水、耐藥品和耐化妝品性。

背景技術

防指紋涂敷作為對玻璃等基材的表面進行特殊處理，來防止指紋之類的污染物質的附著，并且即使附著有污染物質，也可以容易滴去除的技術，是一種在表面賦予薄膜的防水防油功能的表面處理技術。

在諸多家電中，對于裸露于外觀的部分，即，手機、DVD等家電產品的視窗或殼體而言，存在裸露于人的手部的部分，并且很容易在潔凈的表面留有指印(Fingerprint)。

尤其，在智能手機及平板電腦的情況下，由于將視窗用作輸入單元，因此，視窗表面的耐指紋性的必不可少的。

在玻璃或塑料的表面進行用于防止指紋的涂敷的情況下，根據其應用領域，正在開發利用真空涂敷、浸涂(Dip coating)、噴涂(Spray coating)等技術的涂敷方法，而在韓國國內，主要用于在大部分的鏡片中涂敷基因物質的利用電子束(Electron beam)的真空蒸鍍技術已比較發達。

在真空蒸鍍技術的情況下，作為使氟類化合物在真空條件下得到氣化，并以薄膜方式涂敷于玻璃或塑料的表面的技術，雖然由污染物質引起的表面不合格率低，單由間歇工序(Batch process)引起的低的生產率成為問題，而雖然不斷開發用于解除這些問題的大型裝備，但由于高的設備投資費用而成為問題。

在浸涂(Dip coating)、噴涂(Spray coating)等液相涂敷的情況下，雖然呈現出由連續工序引起的高的生產率，但與真空涂敷相比，呈現出不合格率高，且性能不佳的問題。

并且，以往的耐指紋蒸鍍為在SiO₂上蒸鍍用于降低表面能的氟類化合物的技術。

這是因為，如果在玻璃或塑料上直接蒸鍍防水防油物質，則會導致耐久性的降低，因此，為了彌補這種問題，在蒸鍍SiO₂之后，蒸鍍防水防油物質。

(現有技術文獻)

公開專利第10-2011-0138541號涉及耐久性優秀的耐指紋薄膜結構物及其形成方法，耐指紋薄膜結構物包括：基板、紋理薄膜層及耐指紋涂敷層，上述紋理薄膜層以二維平面狀形成于上述基板上，并包括多個紋理和多個紋理邊界，上述耐指紋涂敷層借助耐指紋涂敷物質來形成于上述紋理薄膜層的上部，而為了提高耐指紋特性的耐久性，使上述耐指紋涂敷物質向上述多個紋理邊界滲透，并且為了提高上述紋理薄膜層的粘結力，還包括形成于上述基板和上述紋理薄膜層之間的基底層，從而提高耐指紋涂敷層的表面光照度，由此防止耐指紋涂敷層因磨損而容易消失，最終能夠提高對耐指紋特性的耐久性。但仍舊存在由高的設備投資費用引起的問題和與真空涂敷相比，不合格率高且性能不佳的問題。

發明內容

技術問題

本發明所要實現的技術問題在于，提供與以往的蒸鍍相比，可以具有優秀的耐磨、耐鹽水、耐藥品、耐化妝品性的蒸鍍物質組合物及其蒸鍍方法。

解決問題的手段

為了提高防水防油涂敷膜的耐久性而進行蒸鍍的防水防油涂敷膜的底物(Primer)膜涂敷用組合物包含氧化硅(SiO_x)、鈦(Ti)化合物、鋁(Al)化合物、鋯(Zr)化合物中的至少一種。

本發明可以包括：準備玻璃或高分子基板的步驟；在上述基板上借助刻蝕(Etching)來形成在上述基板中所要蒸鍍防指紋層的部分的步驟；在包括所要蒸鍍上述防水防油涂敷膜的部分的上述基板的表面蒸鍍由上述組合物形成的底物(Primer)膜的步驟；在所蒸鍍的上述基膜上形成防水防油涂敷膜的步驟；以及清除(Purging)形成有上述防水防油涂敷膜的上述基板的步驟。

發明效果

與以往的產品相比，通過本發明來蒸鍍的防指紋層具有耐磨、耐鹽水、耐藥品、耐化妝品性等優秀的第一效果。

并且，具有不僅可以利用以往為了彌補耐指紋的耐久性的降低而進行蒸鍍的SiO₂，而且可以利用多種化合物來使用作為防水防油涂敷膜的耐指紋膜的基膜的第二效果。

與此同時，在本發明的基膜上蒸鍍防水防油涂敷膜來形成的防指紋層的上述基膜在低于以往的真空度的真空度中實現蒸鍍，從而具有可以縮短蒸鍍時間的第三效果。

由此，具有可以節約時間費用，并提高生產率，來減少整個工序的粘性時間(tack time)，最終可以提高生產效率的第四效果。

附圖說明