[發明專利]內埋的粘土/納米二氧化硅靜電耗散涂層

在審

• 申請號: 201480021995.8
• 申請日: 2014-04-08
• 公開（公告）號: CN105683307A
• 公開（公告）日: 2016-06-15
• 發明（設計）人: A·J·穆勒;D·J·施密特;景乃勇
• 申請（專利權）人: 3M創新有限公司
• 主分類號: C09D7/00
• 分類號: C09D7/00;C08K3/00;C09D5/00
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 陳長會

1.一種在基底上形成多層抗靜電涂層的方法，所述方法包括：

a)提供第一涂料組合物，所述第一涂料組合物包含：

水性介質；

分散在所述水性介質中的二氧化硅納米粒子，其中所述二氧化 硅納米粒子在最長尺寸上具有至多100nm的平均粒度；以及

分散在所述水性介質中的粘土粒子，其中所述粘土粒子在最長 尺寸上具有在20nm至1000nm范圍內的平均粒度；

其中所述粘土粒子與所述二氧化硅納米粒子的重量比在0.01至 1的范圍內，并且其中所述第一涂料組合物具有小于或等于4的pH；

b)使所述第一涂料組合物與基底的表面接觸；

c)將所述第一涂料組合物至少部分地干燥以在所述基底的表面 上形成抗靜電組合物的層，所述抗靜電組合物包含所述二氧化硅納 米粒子的無定形基質和分散在所述無定形基質中的粘土粒子；以及

d)提供保護層，所述保護層包括設置在所述抗靜電組合物的所 述層上的有機聚合物的層，從而在所述基底上形成所述多層抗靜電 涂層。

2.根據權利要求1所述的方法，其中提供所述保護層包括：將 第二涂料組合物涂覆至所述抗靜電組合物的所述層上，以及將所述 第二涂料組合物至少部分地固化和/或至少部分地干燥以形成所述有 機聚合物的所述層，其中所述第二涂料組合物包含含氟聚合物、有 機硅、烴聚合物、它們的共聚物或它們的共混物。

3.根據權利要求1或權利要求2所述的方法，其中提供所述保 護層包括：將保護膜層合至所述抗靜電組合物的所述層上，其中所 述保護膜包含所述有機聚合物，并且其中所述有機聚合物包含含氟 聚合物、有機硅、烴聚合物、它們的共聚物或它們的共混物。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的方法，其中所述第一涂 料組合物基本上不含有機聚合物。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的方法，其中所述粘土為 綠土粘土。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的方法，其中所述粘土為 蒙脫石粘土。

7.根據權利要求1至6中任一項所述的方法，其中所述第一涂 料組合物中固體的總量在所述第一涂料組合物的總重量的1重量％ 至50重量％的范圍內。

8.根據權利要求1至7中任一項所述的方法，其中所述基底包 括玻璃或有機聚合物。

9.根據權利要求8所述的方法，其中所述有機聚合物包括醋酸 纖維素、聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚(甲基丙烯酸甲酯)、聚 氨酯、聚乙烯、聚丙烯、聚乙烯和聚丙烯的共聚物或它們的組合中 的任一種。

10.根據權利要求8所述的方法，其中所述有機聚合物為聚對 苯二甲酸乙二酯。

11.根據權利要求1至10中任一項所述的方法，其中所述多 層抗靜電涂層為基本上透光性的。

12.根據權利要求1至11中任一項所述的方法，其中所述多 層抗靜電涂層在25℃和50％相對濕度下具有小于或等于10¹²歐姆每 平方的平均表面電阻率。

13.根據權利要求1至12中任一項所述的方法，其中所述多 層抗靜電涂層在25℃和20％相對濕度下具有小于或等于2秒的靜電 衰減時間。

14.根據權利要求1至13中任一項所述的方法，其中提供具 有小于或等于4的pH的所述第一涂料組合物包括提供具有大于6的 pH的初始二氧化硅溶膠以及通過添加無機酸來酸化所述初始二氧化 硅溶膠。

15.根據權利要求14所述的方法，其中所述無機酸包括鹽酸、 硝酸、硫酸、磷酸、高氯酸或氯酸。

16.一種制品，所述制品包括根據權利要求1至15中任一項 所述的方法設置有多層抗靜電涂層的涂覆基底。