[發明專利]玻璃板及玻璃板的制造方法有效
| 申請號: | 201480019327.1 | 申請日: | 2014-04-08 |
| 公開(公告)號: | CN105102394B | 公開(公告)日: | 2018-09-14 |
| 發明(設計)人: | 田中智;三谷一石;福島清美;齊藤靖弘 | 申請(專利權)人: | 日本板硝子株式會社 |
| 主分類號: | C03C23/00 | 分類號: | C03C23/00;C03B18/20;C03C15/00;C03C17/22 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 葛凡 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 玻璃板 制造 方法 | ||
1.一種玻璃板,其是將熔融的玻璃原料在熔融金屬上成形成板狀的以浮法成形的厚度為1.6mm以下的玻璃板,
所述玻璃板中,將成形時與所述熔融金屬接觸的表面作為第1表面,將與所述第1表面相反側的表面作為第2表面時,至少在所述第1表面形成有基于脫堿處理的保護被膜,并且,在所述第2表面形成有致密化的脫堿層,
將50℃、0.1質量%的氫氟酸用作蝕刻液時的所述第2表面的蝕刻速率為2nm/min以下,
所述致密化是指,氣氛中的水分進入玻璃中,在脫堿后的層中形成硅烷醇基,通過該硅烷醇基的脫水縮合而形成硅氧烷鍵,由此導致硅氧烷鍵增加了的狀態。
2.一種玻璃板的制造方法,其是制造厚度1.6mm以下的玻璃板的方法,包括:
(I)將熔融的玻璃原料在熔融金屬上成形成玻璃帶的工序;
(II)使包含氟元素F的酸和包含水蒸氣的表面改質氣體接觸所述熔融金屬上的所述玻璃帶的表面,在所述玻璃帶中在與接觸于所述熔融金屬的表面相反側的表面,形成將50℃、0.1質量%的氫氟酸用作蝕刻液時的蝕刻速率為2nm/min以下的致密化的脫堿層的工序;和
(III)至少在與所述熔融金屬接觸的所述表面形成用于防止損傷的保護被膜的工序,
所述致密化是指,表面改質氣體中的水分進入玻璃中,在脫堿后的層中形成硅烷醇基,通過該硅烷醇基的脫水縮合而形成硅氧烷鍵,由此導致硅氧烷鍵增加了的狀態。
3.如權利要求2所述的玻璃板的制造方法,其中,所述包含氟元素F的酸為氟化氫HF。
4.如權利要求2或3所述的玻璃板的制造方法,其中,在所述工序(III)之后,還包括
(IV)利用基于堿離子置換的方法,對通過切開所述玻璃帶而得到的玻璃板進行化學強化的工序。
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