[發明專利]相位差膜的制造方法在審
| 申請號: | 201480019223.0 | 申請日: | 2014-03-20 |
| 公開(公告)號: | CN105074516A | 公開(公告)日: | 2015-11-18 |
| 發明(設計)人: | 安藤廣敏;沖和宏 | 申請(專利權)人: | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號: | G02B5/30 | 分類號: | G02B5/30;G02F1/1337 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 王靈菇;白麗 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 相位差 制造 方法 | ||
1.一種相位差膜的制造方法,其包含以下工序:
準備含有增塑劑及光學特性調整劑中的至少1種的帶狀支撐體的工序;
在連續行進的所述支撐體上涂布在溶解或溶脹所述支撐體的溶劑中溶解有棒狀聚合性液晶化合物、取向控制劑和取向輔助劑的原料液,形成膜的涂布工序;
通過干燥涂布在所述支撐體上的膜,將所述取向控制劑和所述取向輔助劑的位置固定、且形成使所述溶劑滲入到所述支撐體內部0.3μm以上的涂膜的干燥工序;
按照所述涂膜的內部溫度達到使所述取向控制劑和所述取向輔助劑向所述涂膜表面移動的溫度的方式,對所述涂膜加熱25秒以上的熱處理工序;
在所述熱處理工序后,按照所述涂膜的內部溫度達到將所述取向控制劑和所述取向輔助劑的位置固定的溫度的方式進行冷卻的冷卻工序;和
在所述冷卻工序后,對殘留溶劑比率小于3質量%的所述涂膜照射活性放射線,將所述涂膜固化,形成光學各向異性層的固化工序。
2.根據權利要求1所述的相位差膜的制造方法,其中,所述原料液中所含的所述溶劑具有相對于所述支撐體的原材料的溶解度參數SP值為±2(J/cm3)1/2范圍內的溶解度參數SP值。
3.根據權利要求1或2所述的相位差膜的制造方法,其中,所述原料液除了溶解或溶脹所述支撐體的所述溶劑之外,還含有其他多種溶劑。
4.根據權利要求1~3中任一項所述的相位差膜的制造方法,其中,在所述干燥工序中,包含以0.1g/m2·sec以下的干燥速度將所述膜干燥的工序。
5.根據權利要求1~4中任一項所述的相位差膜的制造方法,其中,所述支撐體為纖維素系膜。
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