[發明專利]人工指甲組合物、人工指甲、人工指甲的形成方法、人工指甲的除去方法和美甲套裝

在審

• 申請號: 201480018272.2
• 申請日: 2014-03-26
• 公開（公告）號: CN105073094A
• 公開（公告）日: 2015-11-18
• 發明（設計）人: 渡邊幸惠;大橋秀和;阿部純也
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: A61K8/81
• 分類號: A61K8/81;A45D29/18;A45D31/00;A61Q3/02;A61Q3/04
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 葛凡

技術領域

本發明涉及人工指甲組合物、人工指甲、人工指甲的形成方法、人工指甲的除去方法和美甲套裝(nailartkit)。

背景技術

近年來，對于對手或腳的指甲實施設計的美甲(nailart)的人氣頗高，提出了通過將指甲(真指甲)著色的化妝用的組合物來裝飾之類的、此外在真指甲上安裝合成樹脂制的人工指甲(假指甲、指甲貼片(nailtip)等)的各種技術。

專利文獻1公開了一種化妝用化妝組合物，其特征在于，其在對化妝品可容許的介質中含有覆膜形成聚合物和著色材料，其中，該著色材料包含對前述介質不溶性的至少一個著色聚合物覆膜斷片，所述斷片具有基本上平坦的二個面，具有40～200μm的范圍的厚度，并且，具有0.1～4mm的范圍的長度。

專利文獻2公開了一種人工指甲，其為適于吻合各種指甲大小和形狀的人工指甲，其具有：(a)具有上面和下面、且具備指甲形狀的聚合物的主體；和(b)在前述下面至少一部分安裝的可變形的材料的層，其中，前述層在安裝于真指甲上時適于吻合真指甲的上面。

專利文獻3公開了如下內容：在由紫外線照射而固化以形成人工指甲所使用的人工指甲組合物中，通過在該組合物中含有可由紫外線照射而聚合的離子性單體、尤其是特定的酸應答性單體(例如，甲基丙烯酸2-二甲基氨基乙酯、3-二甲基氨基丙基丙烯酰胺等)，可通過pH3.5以下的酸性溶液來除去。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2000-256134號公報

專利文獻2：日本特開2004-275736號公報

專利文獻3：日本特開2009-126833號公報

發明內容

發明所要解決的課題

本發明人等發現，以往的人工指甲組合物在不使用的狀態下保管時的經時穩定性不充分，進行了深入研究，結果完成了本發明。

本發明要解決的問題在于，提供經時穩定性優異、所得人工指甲的光澤性、除去性、粘附性和耐水性優異的人工指甲組合物，以及，使用了上述人工指甲組合物的人工指甲，人工指甲的形成方法，人工指甲的除去方法和美甲套裝。

用于解決課題的方案

上述技術問題下述〈1〉、〈7〉～〈12〉記載的方法實現。與優選的實施方式〈2〉～〈6〉一起如下所示。

〈1〉人工指甲組合物，其特征在于，其含有：(成分A)具有烯屬不飽和基、以及伯氨基和/或仲氨基的化合物，以及，(成分B)光聚合引發劑；

〈2〉根據〈1〉所述的人工指甲組合物，其中，成分A為以式(I)表示的化合物和/或以式(II)表示的化合物；

【化學式1】

(式中，R¹表示氫原子、烷基、環烷基或芳基，R²表示氫原子或甲基，p表示0～50的整數，X表示選自亞烷基、-COO-、-CONH-、和-C₆H₄-所組成的組中的連結基，Y表示2價的連結基，多個Y彼此可以相同也可以不同，X和R¹可以結合形成環。)

【化學式2】

(式中，R²表示氫原子或甲基，2個p獨立地表示0～50的整數，X表示選自亞烷基、-COO-、-CONH-、和-C₆H₄-所組成的組中的連結基，Y表示2價的連結基，多個Y彼此可以相同也可以不同。)

〈3〉根據〈1〉或〈2〉所述的人工指甲組合物，其為活性光線固化型的人工指甲組合物；

〈4〉根據〈2〉所述的人工指甲組合物，其中，在式(I)和/或式(II)中，X表示-COO-或-CONH-，Y表示亞烷基、亞烷氧基、亞烷酰胺基或將這些基團組合而成的基團；

〈5〉根據〈1〉～〈4〉中任一項所述的人工指甲組合物，其中，成分B為選自苯乙酮化合物和氧化膦化合物所組成的組中的光聚合引發劑；

〈6〉根據〈1〉～〈5〉中任一項所述的人工指甲組合物，其還含有覆膜形成劑；

〈7〉人工指甲的形成方法，其包括對〈1〉～〈6〉中任一項所述的人工指甲組合物照射活性光線以形成固化膜的工序；

〈8〉人工指甲的形成方法，其包括：準備〈1〉～〈6〉中任一項所述的人工指甲組合物的工序，以及對上述人工指甲組合物照射活性光線以形成固化膜的工序；

〈9〉人工指甲，其是將〈1〉～〈6〉中任一項所述的人工指甲組合物在人或動物的指甲、或合成支撐體上固化而成的；