[發明專利]圖像處理方法和圖像處理設備有效
| 申請號: | 201480018145.2 | 申請日: | 2014-03-13 |
| 公開(公告)號: | CN105050819B | 公開(公告)日: | 2017-05-17 |
| 發明(設計)人: | 石見知三;川原真哉;淺井敏明;大井克也 | 申請(專利權)人: | 株式會社理光 |
| 主分類號: | B41J2/32 | 分類號: | B41J2/32;B41M5/28;B41M5/30;B41M5/337;B41M5/46 |
| 代理公司: | 北京紀凱知識產權代理有限公司11245 | 代理人: | 趙蓉民,尚曉芹 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 圖像 處理 方法 設備 | ||
1.一種圖像處理設備,其被配置成通過用激光輻照熱可逆記錄介質并將所述熱可逆記錄介質加熱而單獨地對所述熱可逆記錄介質執行圖像擦除和圖像記錄,所述圖像處理設備包括:
激光發射單元,其被配置成發射所述激光;
激光掃描單元,其被配置成掃描在所述熱可逆記錄介質的激光輻照表面上的所述激光;
焦距控制單元,其包括在所述激光發射單元和所述激光掃描單元之間的位置可移動透鏡系統,并且被配置成通過調整所述透鏡系統的位置控制所述激光的焦距;以及
信息設置單元,其被配置成接收和設置被輸入到其中的圖像擦除信息、圖像記錄信息和表示所述熱可逆記錄介質與所述激光發射單元的激光發射表面之間的距離的距離信息,
其中在圖像擦除過程中,所述焦距控制單元執行控制以在所述熱可逆記錄介質的位置處散焦,
其中在圖像記錄過程中,所述焦距控制單元控制所述熱可逆記錄介質的所述位置在焦距處,
其中在基于由所述信息設置單元設置的所述圖像擦除信息完成圖像擦除之后,立即基于所述圖像記錄信息執行圖像記錄,
其中所述激光發射單元基于脈沖長度和峰值功率控制所述激光的功率輸出,并且使在圖像擦除過程中的峰值功率不同于在圖像記錄過程中的峰值功率,并且
其中所述圖像擦除和所述圖像記錄用同一激光發射單元執行。
2.根據權利要求1所述的圖像處理設備,
其中由所述信息設置單元設置的所述圖像擦除信息、所述圖像記錄信息和所述距離信息用作一個控制文件。
3.根據權利要求1或2所述的圖像處理設備,
其中在圖像擦除過程中,所述焦距控制單元在所述熱可逆記錄介質的所述位置處散焦,以控制在所述熱可逆記錄介質的所述位置前面的位置在焦距處。
4.根據權利要求1或2所述的圖像處理設備,進一步包括:
距離測量單元,其被配置成測量所述熱可逆記錄介質與所述激光發射單元的所述激光發射表面之間的所述距離,
其中由所述信息設置單元設置的所述距離信息基于由所述距離測量單元測量的結果校正。
5.根據權利要求1或2所述的圖像處理設備,進一步包括:
溫度測量單元,其被配置成測量至少選自所述熱可逆記錄介質的溫度和所述熱可逆記錄介質周圍的環境溫度中的溫度,
其中輻照能量基于由所述溫度測量單元測量的結果控制。
6.根據權利要求1所述的圖像處理設備,
其中在圖像擦除過程中的所述峰值功率比在圖像記錄過程中的所述峰值功率高。
7.根據權利要求1或2所述的圖像處理設備,
其中所述激光發射單元的激光光源為光纖耦合激光器。
8.根據權利要求1或2所述的圖像處理設備,
其中要發射的所述激光具有從700nm至1,600nm的波長。
9.一種使用根據權利要求1至5中任一項所述的圖像處理設備的圖像處理方法,所述方法包括:
通過下列中的至少任一個執行圖像記錄:用激光輻照所述熱可逆記錄介質并將所述熱可逆記錄介質加熱,從而將由單條激光繪制線形成的單線繪制圖像記錄在所述熱可逆記錄介質上,以及用平行的在其間具有一定間隔的激光束輻照所述熱可逆記錄介質并將所述熱可逆記錄介質加熱,從而將由多條激光繪制線形成的多線繪制圖像記錄在所述熱可逆記錄介質上;和
通過用激光輻照所述熱可逆記錄介質并將所述熱可逆記錄介質加熱來執行圖像擦除,從而擦除所述單線繪制圖像和所述多線繪制圖像中的至少任一個,
其中在執行所述圖像擦除后的所述圖像記錄中,在記錄所述多線繪制圖像之前至少部分地記錄所述單線繪制圖像。
10.根據權利要求9所述的圖像處理方法,
其中在所述圖像記錄中,在記錄所述多線繪制圖像之前完全記錄所述單線繪制圖像。
11.根據權利要求9或10所述的圖像處理方法,
其中對于所述多線繪制圖像的繪制圖像,帶有較小數目的繪制線的繪制圖像在所述圖像記錄中被較早地記錄。
12.根據權利要求9或10所述的圖像處理方法,
其中對于所述多線繪制圖像的繪制圖像,帶有較小面積的繪制圖像在所述圖像記錄中被較早地記錄。
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