[發明專利]硬涂膜及其制造方法

有效

• 申請號: 201480017920.2
• 申請日: 2014-03-26
• 公開（公告）號: CN105122089B
• 公開（公告）日: 2017-11-14
• 發明（設計）人: 菊地慎二;伊藤大祐
• 申請（專利權）人: 株式會社大賽璐
• 主分類號: G02B1/10
• 分類號: G02B1/10;B32B27/38
• 代理公司: 北京坤瑞律師事務所11494
• 代理人: 張平元

技術領域

本發明涉及具有硬涂層作為表面層的硬涂膜及其制造方法。本申請要求2013年3月27日在日本申請的日本特愿2013-066179號的優先權，并將其內容援引于此。

背景技術

以往，為了對各種產品、構件的表面賦予高的表面硬度、耐擦傷性，使用了各種硬涂膜。作為像這樣的硬涂膜，廣為已知的主要是具有在基材的表面形成硬涂層而得到的疊層結構的硬涂膜。

作為硬涂膜具有的代表性的硬涂層，已知有通過紫外線照射使多官能的丙烯酸類單體進行自由基聚合而形成的硬涂層。作為具有像這樣的硬涂層的硬涂膜，例如，已知有下述硬涂膜：在基材膜的至少一面設置有由下述樹脂組合物形成的涂覆層，所述樹脂組合物包含：相對于紫外線固化型丙烯酸酯樹脂100重量份，分子量為500～20000的紫外線固化型有機硅樹脂為0.1～10重量份(參考專利文獻1)。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻:日本特開2005-262597號公報

發明內容

發明要解決的問題

通過將上述這樣的多官能的丙烯酸類單體進行自由基聚合而形成的硬涂層，一般具有3H左右的鉛筆硬度，但根據用途不同，需要進一步提高鉛筆硬度。已知通常通過使硬涂層的厚度變厚而提高硬涂層的鉛筆硬度，但如果使厚度變厚則會由于硬涂層形成時的固化收縮而產生開裂，存在難以通過厚膜化提高鉛筆硬度的問題。

另外，近年為了不對粘接硬涂膜的對象(被粘接體)、硬涂膜的基材上施加的設計產生壞的影響，或者，出于將硬涂膜作為顯示器的保護片等使用等目的，開始要求硬涂層具有優異的透明性(特別是，低霧度)。

因此，本發明的目的在于，提供具有硬涂層的硬涂膜及其制造方法，所述硬涂層具有高的鉛筆硬度、且透明性也優異。

另外，本發明的其它目的在于，提供具有硬涂層的硬涂膜，該硬涂層具有高的鉛筆硬度和耐擦傷性、且透明性也優異。

解決問題的方法

本發明人等為解決所述問題進行了深入研究，結果發現，由包含特定的環氧化合物、含有硅原子的特定的化合物和/或二氧化硅填料、以及酸產生劑的固化性組合物(硬涂劑)形成的硬涂層，具有高的鉛筆硬度和耐擦傷性、且透明性也優異，進一步，由于在厚膜化的情況下也不產生發生開裂等缺陷，所以可以顯著提高鉛筆硬度。另外，本發明人等發現，表面的ATR-IR光譜中特定的吸收峰的比例被控制在特定的范圍且在ESCA中具有特定的表面元素的硬涂層，具有高的鉛筆硬度、且透明性優異，進一步地，在厚膜化的情況下也不產生發生開裂等缺陷，所以可以顯著提高鉛筆硬度。基于以上的考慮而完成了本發明。

即，本發明提供硬涂膜，其具有塑料基材和在該塑料基材的至少一個表面形成的硬涂層，所述硬涂層由下述固化性組合物形成，該固化性組合物包含：3,4,3',4'-二環氧雙環己烷、選自含有羥基的硅化合物及二氧化硅填料中的至少一種、以及酸產生劑。

進一步，提供上述的硬涂膜，其中所述硬涂層的厚度為20μm以上。

進一步，提供上述的硬涂膜，其中，在所述硬涂層表面的利用ESCA分析的表面元素中，存在硅和選自硫、磷、氟及銻中的至少一種元素。

進一步，提供上述的硬涂膜，其霧度為1.5％以下。

另外，本發明提供硬涂膜的制造方法，其為上述的硬涂膜的制造方法，該方法包括：將包含3,4,3',4'-二環氧雙環己烷、選自含有羥基的硅化合物及二氧化硅填料中的至少一種、以及酸產生劑的固化性組合物涂布于塑料基材的表面，然后進行固化的工序。

另外，本發明提供硬涂膜，其具有塑料基材和在該塑料基材的至少一個表面形成的硬涂層，其中，

在將所述硬涂層表面的ATR-IR光譜中來自醚鍵的C-O伸縮振動的吸收峰的吸光度設為a1、將來自酯鍵的C＝O伸縮振動的吸收峰的吸光度設為a2、將來自芳香環的C-H面外彎曲振動的吸收峰的吸光度設為a3的情況下，a2/a1為0.1以下，a3/a1為0.1以下，

進一步地，在所述硬涂層表面的利用ESCA分析的表面元素中，存在選自硫、磷、氟及銻中的至少一種元素。

進一步提供上述的硬涂膜，其中，在所述硬涂層表面的利用ESCA分析的表面元素中，還存在硅。

即，根據本發明，能夠提供：

[1]硬涂膜，其具有塑料基材和在該塑料基材的至少一個表面形成的硬涂層，