[發(fā)明專利]三維坐標(biāo)掃描器和操作方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201480015935.5
• 申請(qǐng)日: 2014-03-05
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN105190232A
• 公開(kāi)（公告）日: 2015-12-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 貝恩德-迪特馬爾·貝克;羅伯特·E·布里奇斯
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 法羅技術(shù)股份有限公司
• 主分類號(hào): G01B21/04
• 分類號(hào): G01B21/04;G01S17/66;G01B5/004;G01B11/00;G01B11/25;G01B11/245
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 朱勝;陳煒

1.一種非接觸式光學(xué)三維測(cè)量裝置，包括：

組件，其包括第一投影儀、第一攝像裝置、第二投影儀和第二攝像裝置，其中，所述第一投影儀、所述第一攝像裝置、所述第二投影儀和所述第二攝像裝置相對(duì)于彼此固定，所述第一投影儀具有第一光源，所述第一投影儀被配置為將具有至少一個(gè)圖案的第一光發(fā)射到物體的表面上，所述第一攝像裝置具有第一透鏡和第一光敏陣列，所述第一攝像裝置被配置為接收從所述表面反射的所述第一光的第一部分并且作為響應(yīng)而產(chǎn)生第一信號(hào)，所述第一攝像裝置具有作為所述第一攝像裝置的第一角度觀看區(qū)域的第一視場(chǎng)，所述第二投影儀具有第二光源，所述第二投影儀被配置為將第二光發(fā)射到所述物體的所述表面上，所述第二攝像裝置具有第二透鏡和第二光敏陣列，所述第二攝像裝置被配置為接收從所述表面反射的所述第二光的第二部分并且作為響應(yīng)而產(chǎn)生第二信號(hào)，所述第二攝像裝置具有作為所述第二攝像裝置的第二角度觀看區(qū)域的第二視場(chǎng)，所述第二視場(chǎng)不同于所述第一視場(chǎng)；以及

處理器，其電耦合至所述第一投影儀、所述第二投影儀、所述第一攝像裝置和所述第二攝像裝置，并且執(zhí)行計(jì)算機(jī)可執(zhí)行程序代碼，所述計(jì)算機(jī)可執(zhí)行程序代碼在由所述處理器執(zhí)行時(shí)執(zhí)行包括以下內(nèi)容的操作：使得在第一時(shí)間收集所述第一信號(hào)并且使得在與所述第一時(shí)間不同的第二時(shí)間收集所述第二信號(hào)；至少部分地基于所述第一信號(hào)來(lái)確定所述表面上的第一點(diǎn)的三維坐標(biāo)；以及至少部分地基于所述第二信號(hào)來(lái)確定所述表面上的第二點(diǎn)的三維坐標(biāo)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非接觸式光學(xué)三維測(cè)量裝置，其中，所述第二光是沿著與所述第二光的傳播方向垂直的方向的光線。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非接觸式光學(xué)三維測(cè)量裝置，其中，所述至少一個(gè)圖案包括至少三個(gè)非共線圖案元素。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的非接觸式光學(xué)三維測(cè)量裝置，其中，所述第二光包括第二圖案，所述第二圖案具有至少三個(gè)非共線圖案元素。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的非接觸式光學(xué)三維測(cè)量裝置，其中，所述光線是按時(shí)間掃過(guò)的線圖案。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的非接觸式光學(xué)三維測(cè)量裝置，其中，所述光線是按時(shí)間掃過(guò)的光斑點(diǎn)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非接觸式光學(xué)三維測(cè)量裝置，其中，所述第一視場(chǎng)是所述第二視場(chǎng)的至少兩倍大。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非接觸式光學(xué)三維測(cè)量裝置，其中，所述第一光敏陣列包括第一像素，所述第一像素被配置為捕獲從所述表面的第一區(qū)域反射的光，所述第二光敏陣列包括第二像素，所述第二像素被配置為捕獲從所述表面的第二區(qū)域反射的光，其中所述第二區(qū)域小于所述第一區(qū)域。