[發(fā)明專利]激光處理設(shè)備和經(jīng)由激光工具操作而處理工件的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201480014010.9
• 申請日: 2014-03-14
• 公開（公告）號: CN105121088B
• 公開（公告）日: 2017-03-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 馬克·A·昂瑞斯
• 申請（專利權(quán)）人: 伊雷克托科學(xué)工業(yè)股份有限公司
• 主分類號: G02F1/33
• 分類號: G02F1/33;B23K26/00;B23K26/36;B23K26/04
• 代理公司: 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11243
• 代理人: 許靜,安利霞

相關(guān)申請案的交互參考

本申請案基于35U.S.C.§119(e)條款主張2013年3月15日所提申的美國臨時申請案號61/791,656和2013年3月15日所提申的美國臨時申請案號61/791,160的權(quán)益，在此將其兩者全體一并整合參考。

技術(shù)領(lǐng)域

本揭示大體上關(guān)于激光處理設(shè)備及使用該些設(shè)備處理工件的方法。

背景技術(shù)

一種用于微機械制造一工件的激光處理系統(tǒng)可包含用以產(chǎn)生脈沖來處理一工件中特征的激光源，及用以給予一激光射束斑點位置沿著與該工件表面有關(guān)的處理軌道產(chǎn)生一第一相對移動的電流驅(qū)動式(galvo)子系統(tǒng)。該激光處理系統(tǒng)也可包含一聲光偏轉(zhuǎn)器(AOD)子系統(tǒng)以提供例如電流驅(qū)動式錯誤位置校正、光柵掃描、功率調(diào)變及/或抖動。該聲光偏轉(zhuǎn)器子系統(tǒng)可包含一聲光偏轉(zhuǎn)器和電光偏轉(zhuǎn)器結(jié)合。

透過第三濾波產(chǎn)生聲光偏轉(zhuǎn)器命令可產(chǎn)生聲光偏轉(zhuǎn)器偏差超越一要求或可用聲光偏轉(zhuǎn)器操作范圍的結(jié)果。這個可發(fā)生在例如程序特征間的移動是非常快速(在一高特征間速度下)之時。大體上，可期待維持高特征間射束速度以改善生產(chǎn)能力，而聲光偏轉(zhuǎn)器偏差限制仍可正常地限制這些速度。

發(fā)明內(nèi)容

如同在此所述范例的本揭示實施例強調(diào)上述限制及與激光處理一工件中的擊潰及其它特征的傳統(tǒng)方法有關(guān)的其它限制。如下所述地，某些實施例優(yōu)化或改善該些擊潰或其它特征的處理速度以避免超過該激光系統(tǒng)的驅(qū)動限制。

在某些實施例中，激光系統(tǒng)和方法在每一個壓型動作前和后插入一安裝時間。一高峰聲光偏轉(zhuǎn)器偏差[在一第三濾波器構(gòu)造內(nèi)]大體上發(fā)生在特征間移動和壓型移動之間的速度轉(zhuǎn)換處。本轉(zhuǎn)換發(fā)生于壓型前(在趨近該壓型位置的時候)和壓型后(在自該已完成壓型位置離開至下一位置的時候)兩者。通過在每一個壓型期結(jié)尾添加一安裝延遲，該聲光偏轉(zhuǎn)器偏差被允許設(shè)定成一較低值。這個接著允許較高壓型間速度(提供高生產(chǎn)能力)而仍將該聲光偏轉(zhuǎn)器行進偏差保持在該系統(tǒng)的聲光偏轉(zhuǎn)器架構(gòu)界限內(nèi)。

額外觀點及優(yōu)勢會顯而易見于參考該些附圖所進行的下列較佳實施例詳細說明中。

附圖說明

圖1根據(jù)本揭示一實施例略示一激光處理設(shè)備。

圖2略示與圖1所示設(shè)備的各種組件或系統(tǒng)有關(guān)的掃描場。

圖3和圖4根據(jù)本揭示某些實施例圖標(biāo)通過掃描與一工件有關(guān)的射束位置所產(chǎn)生的斑點圖案。

圖5略示形成圖4所示斑點圖案的程序?qū)嵤├?!-- SIPO -->

圖6根據(jù)一實施例略示一第三輪廓顯現(xiàn)子系統(tǒng)。

圖7根據(jù)一實施例圖標(biāo)針對速度變化的第三濾波器響應(yīng)。

圖8根據(jù)一實施例圖標(biāo)一范例性瞬變聲光偏轉(zhuǎn)器命令以響應(yīng)射束速度的步階變化。

圖9根據(jù)一實施例圖標(biāo)在特征處理期間的激光發(fā)射背景中的安裝程序。

圖10根據(jù)一實施例略示一環(huán)形工具圖案射束路徑。

具體實施方式

范例性實施例是參考該些附圖來描述于下。許多不同的形式和實施例是可行而不偏離本發(fā)明精神及教示，因此，本揭示不應(yīng)被建構(gòu)成為在此所提出范例性實施例的限制。更確切地說，這些范例性實施例被提供以使得本揭示會是完善又完整，且會將本發(fā)明范圍傳達給那些熟知此項技術(shù)的人士。在該些圖式中，組件尺寸及相對尺寸也許基于清晰起見而被夸大。在此所使用的術(shù)語只是基于描述特定范例性實施例目的，并無意成為限制用。如在此所使用地，除非該內(nèi)文清楚地另有所指，否則該單數(shù)形式「一」(“a”)、「一個」(“an”)和「該」(“the”)是意欲將該些多個形式也納入。會進一步了解到該些術(shù)語「包含」(“comprises”)及/或「包括」(“comprising”)在使用于本說明書時，表示所述特征、整數(shù)、步驟、操作、構(gòu)件及/或組件的存在，但不排除一或更多其它特征、整數(shù)、步驟、操作、構(gòu)件、組件及/或其族群的存在或增加。除非另有所示，陳述時，一值范圍包含該范圍的上下限及其間的任何子范圍。

如上所述地，透過第三濾波產(chǎn)生聲光偏轉(zhuǎn)器命令可產(chǎn)生聲光偏轉(zhuǎn)器偏差超越一要求或可用聲光偏轉(zhuǎn)器操作范圍的結(jié)果。這個可發(fā)生在例如程序特征間的移動是非常快速(在一高特征間速度下)之時。大體上，可期待維持高特征間射束速度以改善生產(chǎn)能力，而聲光偏轉(zhuǎn)器偏差限制仍可正常地限制這些速度。