[發明專利]黑矩陣基板有效
| 申請號: | 201480010592.3 | 申請日: | 2014-03-04 |
| 公開(公告)號: | CN105026963B | 公開(公告)日: | 2018-01-23 |
| 發明(設計)人: | 西山雅仁;的羽良典;野中晴支;井上欣彥 | 申請(專利權)人: | 東麗株式會社 |
| 主分類號: | G02B5/20 | 分類號: | G02B5/20;C08F2/44;C08F2/50;G02F1/1335;G03F7/004;H01L51/50;H05B33/12 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務所11247 | 代理人: | 黃媛,段承恩 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 矩陣 | ||
1.一種黑矩陣基板,依次具有透明基板、遮光層A和遮光層B,遮光層A的每單位厚度的光密度比遮光層B的每單位厚度的光密度低,遮光層A含有遮光材料和折射率1.4~1.8的微粒,
折射率1.4~1.8的微粒是選自氧化鋁、氧化硅、硫酸鋇、硫酸鈣、碳酸鋇、碳酸鈣、碳酸鎂、碳酸鍶以及偏硅酸鈉中的1種以上的微粒。
2.根據權利要求1所述的黑矩陣基板,折射率1.4~1.8的微粒的通過依照JIS P8148(2001)的方法測定得到的白度為30%以上。
3.根據權利要求1或2所述的黑矩陣基板,其特征在于,透明基板由聚酰亞胺樹脂形成。
4.一種濾色器基板,權利要求1~3中任一項所述的黑矩陣基板的遮光層A和遮光層B具有圖案形狀,在不存在圖案的部分存在著色了的像素。
5.一種發光器件,具有權利要求4所述的濾色器基板和發光元件。
6.根據權利要求5所述的發光器件,發光元件為有機EL元件。
7.一種液晶顯示裝置,依次具有權利要求4所述的濾色器基板、液晶化合物和對置基板。
8.權利要求1~3中任一項所述的黑矩陣基板的制造方法,具有下述工序:
在透明基板的上方形成含有遮光材料、和折射率1.4~1.8的微粒的組合物的層的工序;
在該組合物的層的上方形成含有遮光材料的感光性樹脂組合物的層的工序;
進行圖案曝光,通過顯影液或者溶劑對上述2種層進行圖案加工的工序。
9.一種濾色器的制造方法,具有通過權利要求8所述的方法制造了黑矩陣基板后,在不存在圖案的部分設置像素的工序。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于東麗株式會社,未經東麗株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201480010592.3/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:光學相控陣列
- 下一篇:用于對來自距離感應相機的數據進行降噪的方法和裝置





