[發(fā)明專利]光學(xué)模塊

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201480010412.1
• 申請(qǐng)日: 2014-02-25
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN105026975B
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-11-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: J.霍恩;B.克瑙夫
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 卡爾蔡司SMT有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): G02B7/182
• 分類號(hào): G02B7/182;G02B5/09;G02B26/08;G03F7/20
• 代理公司: 11105 北京市柳沈律師事務(wù)所
• 代理人: 邱軍<國(guó)際申請(qǐng)>=PCT/EP2014/

本發(fā)明涉及一種光學(xué)模塊，尤其是分面反射鏡，包括：光學(xué)元件(109)；以及支撐結(jié)構(gòu)(108)，用于支撐光學(xué)元件(109)，其中，支撐結(jié)構(gòu)(108)包括定位裝置(111)，用于以至少一個(gè)自由度主動(dòng)地設(shè)定光學(xué)元件(109)的位置和/或取向。支撐結(jié)構(gòu)(108)包括具有至少一個(gè)接觸單元(113.1)的可選擇性激活的接觸裝置(113)，該至少一個(gè)接觸單元具有第一接觸部分(113.2)，其中，在接觸裝置(113)的激活狀態(tài)下，第一接觸部分(113.2)接觸光學(xué)元件(109)的第二接觸部分(109.4)，以對(duì)所述光學(xué)元件(109；209)施加接觸力，而在接觸裝置(113)的失活狀態(tài)下，第一接觸部分(113.2)從第二接觸部分(109.4)移除。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種光學(xué)模塊、一種光學(xué)成像裝置、一種支撐光學(xué)元件的方法、一種光學(xué)成像方法及一種結(jié)構(gòu)化光學(xué)模塊的接觸部分的方法。本發(fā)明可與任何期望光學(xué)裝置和光學(xué)成像方法結(jié)合應(yīng)用。特別地，本發(fā)明可與用于生產(chǎn)微電子電路的微光刻技術(shù)結(jié)合使用。

背景技術(shù)

特別地，在微光刻領(lǐng)域，除了使用以最高可能精度構(gòu)造的部件，此外還有必要在操作期間根據(jù)預(yù)定期望值盡可能精確地設(shè)定成像裝置的光學(xué)模塊(即，例如具有諸如透鏡元件、反射鏡或光柵的光學(xué)元件的模塊)的位置和幾何形狀，還有使用的掩模和基板的位置和幾何形狀，或者將這種部件穩(wěn)定在預(yù)定位置或幾何形狀，以實(shí)現(xiàn)對(duì)應(yīng)高成像質(zhì)量。

在微光刻領(lǐng)域中，精度要求處于幾納米或更小數(shù)量級(jí)的微小范圍中。它們尤其是增加用于生產(chǎn)微電子電路的光學(xué)系統(tǒng)的分辨率的恒定需求的結(jié)果，以促進(jìn)要生產(chǎn)的微電子電路的小型化。

隨著分辨率增加且使用的光的波長(zhǎng)通常伴隨地減少，對(duì)使用的部件的定位和取向的精度的要求自然增加。尤其對(duì)于用于微光刻的UV范圍(例如，193nm的范圍)內(nèi)的短工作波長(zhǎng)，尤其在具有介于5nm和20nm之間的工作波長(zhǎng)(通常在13nm的區(qū)域中)的所謂極UV范圍(EUV)中，這當(dāng)然會(huì)影響為了遵守對(duì)所涉及部件的定位和/或取向的精度的嚴(yán)格要求而付出的努力。

然而，與光學(xué)系統(tǒng)的上述穩(wěn)定性有關(guān)，處理在系統(tǒng)中產(chǎn)生或從外部引入系統(tǒng)中的振動(dòng)能被證明是特別有問(wèn)題的。通常用于解決該問(wèn)題的一種方法在于主動(dòng)地影響使用的單獨(dú)或多個(gè)系統(tǒng)部件(尤其是使用的光學(xué)元件)的位置和/或取向，以將相關(guān)部件保持在預(yù)定位置和/或預(yù)定取向。

與EUV系統(tǒng)的分面反射鏡的分面元件的限定定位和取向有關(guān)，DE 102 05 425 A1(Holderer等人)公開(kāi)了單獨(dú)地調(diào)節(jié)所述分面元件，然后通過(guò)對(duì)應(yīng)固定力將它們保持在調(diào)節(jié)狀態(tài)，該申請(qǐng)的公開(kāi)內(nèi)容通過(guò)引用并入本文。

盡管在該情況下借助對(duì)應(yīng)大小的固定力可以防止由于引入的振動(dòng)能而產(chǎn)生的分面元件相對(duì)于其承載件的未對(duì)準(zhǔn)，但是有問(wèn)題的是，承載件本身會(huì)因引入的振動(dòng)能而變形，使得分面元件可偏離它們?cè)诠馐窂街械钠谕恢煤?或取向。

此外，主動(dòng)影響成像系統(tǒng)的單獨(dú)或多個(gè)光學(xué)元件的位置和/或取向通常是期望的，以增加光學(xué)系統(tǒng)的靈活性。在這方面，再一次在EUV系統(tǒng)的情況下，尤其在照明裝置中，為了靈活的光瞳形成，期望使用具有大量可移動(dòng)(通常可傾斜)微反射鏡或分面元件的分面反射鏡，那么當(dāng)然要以高精度方式設(shè)定和保持分面反射鏡的相應(yīng)位置和/或取向。

特別地，在這種EUV系統(tǒng)的情況下，特別有挑戰(zhàn)性的是在所述分面元件的非常小尺寸下實(shí)現(xiàn)大量分面元件的位置和/或取向的精確設(shè)定。在這方面，在這種EUV系統(tǒng)的分面反射鏡的情況下，分面元件的數(shù)量通常為幾十萬(wàn)個(gè)分面元件的數(shù)量級(jí)，而單獨(dú)分面元件的光學(xué)有效表面的直徑通常為幾百微米的數(shù)量級(jí)。

例如從US 6,906,845 B2(Cho等人)中還已知包括幾十萬(wàn)個(gè)微反射鏡的類似的微反射鏡陣列，該申請(qǐng)的公開(kāi)內(nèi)容通過(guò)引用并入本文。

發(fā)明內(nèi)容