[發明專利]用于無損測試測試對象的體積的方法和為了實施這樣的方法而配置的測試裝置

在審

• 申請號: 201480007394.1
• 申請日: 2014-02-03
• 公開（公告）號: CN105144235A
• 公開（公告）日: 2015-12-09
• 發明（設計）人: I.施圖克
• 申請（專利權）人: GE傳感與檢測技術有限公司
• 主分類號: G06T7/00
• 分類號: G06T7/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 楊美靈;姜甜

1.一種用于無損測試測試對象的體積的方法，其包括下列方法步驟：

a.憑借適合的無損成像測試方法來記錄所述測試對象的體積原始圖像，

b.識別所述體積原始圖像的未歸因于所述測試對象材料的區域，

c.關于識別的區域是否完全嵌入要與所述測試對象材料關聯的區域中來檢查它，并且如果必要的話，使這樣的區域同化于要與所述測試對象材料關聯的那些區域，從而形成填充體積原始圖像，

d.生成所述體積原始圖像與所述填充體積原始圖像之間的差異，形成第一缺陷圖像。

2.如權利要求1所述的方法，其中所述體積原始圖像另外處理如下：

a.應用濾波算法，例如截止濾波或中值濾波，用于放大可能的缺陷指示符，從而形成濾波體積原始圖像，以及

b.濾波體積原始圖像的極限值生成，從而形成第二缺陷圖像。

3.如權利要求1或權利要求2所述的方法，其中所述第一缺陷圖像和所述第二缺陷圖像合并成組合缺陷圖像。

4.如權利要求3所述的方法，其中在所述組合缺陷圖像中，不與所述填充體積原始圖像中的測試對象材料關聯的那些區域被抑制。

5.如以上權利要求中的任一項所述的方法，其中實施所述體積原始圖像的扣除用于形成所述濾波體積原始圖像。

6.如以上權利要求中的任一項所述的方法，其中所述無損成像測試方法是基于X輻射、超聲或渦流的斷層攝影方法。

7.如以上權利要求中的任一項所述的方法，其中所述測試對象是批量生產的工件。

8.如以上權利要求中的任一項所述的方法，其包括下列另外的方法步驟：

a.由一個或多個測試對象的體積原始圖像形成體積參考圖像，所述一個或多個測試對象在預定義測試準則基礎上分類為“按序”，

b.生成一方面的所述第一缺陷圖像、所述第二缺陷圖像或所述組合缺陷圖像與另一方面的所述體積參考圖像之間的差異。

9.如權利要求8所述的方法，其中此外包括配準步驟，其中發生體積原始圖像與體積參考圖像或所述測試對象的3D模型的配準。

10.如權利要求8或權利要求9所述的方法，其中所述方法包括所述體積參考圖像與所述測試對象的3D模型的配準。

11.一種無損測試測試對象的體積的測試裝置，其包括下列特征：

a.圖像形成單元，用于憑借適合的無損成像測試方法來記錄所述測試對象的體積原始圖像，

b.用于進一步處理體積原始圖像的圖像處理單元，其配置成：

　　i.識別所述體積原始圖像的未歸因于所述測試對象材料的區域，

　　ii.關于識別的區域是否完全嵌入要與所述測試對象材料關聯的區域中來檢查它，并且如果必要的話，使該區域同化于要與所述測試對象材料關聯的那些區域，從而形成填充體積原始圖像，以及

　　iii.在生成所述體積原始圖像與所述填充體積原始圖像之間的差異時形成第一缺陷圖像。

12.如權利要求11所述的測試裝置，其中所述圖像處理單元配置成進一步如下處理所述體積原始圖像：

a.應用濾波算法，例如截止濾波或中值濾波，用于放大可能的缺陷指示符，從而形成濾波體積原始圖像，以及

b.所述濾波體積原始圖像的極限值生成，從而形成第二缺陷圖像。

13.如權利要求11或權利要求12所述的測試裝置，其中所述圖像處理單元配置成使所述第一缺陷圖像和所述第二缺陷圖像合并成組合缺陷圖像。

14.如權利要求13所述的測試裝置，其中所述圖像處理單元配置成在所述組合缺陷圖像中抑制不與所述填充體積原始圖像中的測試對象材料關聯的那些區域。

15.如權利要求11-14中的任一項所述的測試裝置，其中所述圖像處理單元配置成實施所述體積原始圖像的扣除以便形成所述濾波體積原始圖像。

16.如權利要求11-15中的任一項所述的測試裝置，其中所述圖像形成單元配置成憑借基于X輻射、超聲或渦流的斷層攝影方法來形成測試對象的體積原始圖像。

17.如權利要求11-16中的任一項所述的測試裝置，其中所述測試裝置此外包括分類單元，其配置成在預定義測試準則基礎上將測試對象分類為“按序”/“無序”。