[發明專利]薄膜的成膜方法和成膜裝置

有效

• 申請號: 201480007385.2
• 申請日: 2014-05-23
• 公開（公告）號: CN105377451B
• 公開（公告）日: 2018-03-06
• 發明（設計）人: 佐守真悟;高瀨慎一;菅原聰;長江亦周;姜友松
• 申請（專利權）人: 株式會社新柯隆
• 主分類號: B05D3/00
• 分類號: B05D3/00;B05C9/10
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司11127
• 代理人: 龐東成,褚瑤楊

1.一種成膜方法，其是在真空中于基板上形成薄膜的成膜方法，其中，對于含有包括第1材料S1和具有高于該S1的蒸汽壓P1的蒸汽壓P2的第2材料S2的2種以上材料的溶液，在P1以下但不比P1低一個數量級以上的壓力的氣氛下排出所述溶液，所述溶液到達所述基板后，使該溶液中的溶劑成分蒸發，使殘留的溶質成分堆積在所述基板上，形成所述薄膜，所述P1的單位為Pa。

2.如權利要求1所述的成膜方法，其中，其以具有搬運機構的自動化方式進行成膜。

3.一種成膜裝置，其是用于在真空中于基板上形成薄膜的成膜裝置，其中，所述裝置包括：

在內部設置作為成膜對象的基板的真空容器、

對真空容器內進行排氣的排氣單元、

儲藏含有2種以上材料的溶液的儲藏容器、

將所述溶液排出至所述基板上的噴嘴，

所述2種以上材料包含第1材料S1和具有的蒸汽壓P2高于該S1的蒸汽壓P1的第2材料S2，

所述成膜裝置構成為：所述真空容器內的壓力達到P1以下但不比P1低一個數量級以上的壓力時，將所述溶液從噴嘴排出至基板上，所述溶液達到所述基板之后且在成膜后的包括加熱干燥的后處理工序之前，使該溶液中的溶劑成分蒸發，使殘留的溶質成分堆積在所述基板上，形成所述薄膜，所述P1的單位為Pa。

4.如權利要求3所述的成膜裝置，其中，其為具備搬運基板的搬運機構的自動化方式。