[發(fā)明專利]凝膠模式化的表面

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201480007014.4
• 申請日: 2014-02-21
• 公開（公告）號: CN104968427B
• 公開（公告）日: 2017-10-24
• 發(fā)明（設計）人: 史蒂芬·M·巴納德;M·謝恩·鮑恩;瑪麗亞·坎德拉里亞·羅杰特巴奇伽魯普;韋恩·N·喬治;安德魯·A·布朗;詹姆斯·特賽
• 申請（專利權(quán)）人: 伊魯米那股份有限公司
• 主分類號: B01J19/00
• 分類號: B01J19/00;C12Q1/68;G01N27/447
• 代理公司: 北京安信方達知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11262
• 代理人: 李慧慧,鄭霞

1.一種陣列，包括

包含表面的固體支撐體，所述表面包含多個孔，所述孔包被有凝膠材料，所述孔通過所述固體支撐體中的凹陷形成并且被所述表面上的空隙區(qū)彼此分開，所述空隙區(qū)將所述孔的每一個中的凝膠材料與所述多個孔的其他孔中的凝膠材料分離，并且其中在所述空隙區(qū)中不存在凝膠材料；和

在所述凝膠材料中的靶標核酸的文庫，其中所述孔的每一個中的凝膠材料包含所述文庫的靶標核酸的表觀的單一物質(zhì)，并且

其中所述多個孔形成具有重復模式的陣列。

2.如權(quán)利要求1所述的陣列，其中所述孔的每一個的體積是至多1000μm³。

3.如權(quán)利要求1所述的陣列，其中所述孔的每一個中的凝膠體積是至多1000μm³。

4.如權(quán)利要求1所述的陣列，其中所述孔的每一個包含在所述表面中的至多100μm²的開口。

5.如權(quán)利要求1所述的陣列，其中所述模式中的孔具有不多于5微米的孔距。

6.如權(quán)利要求1至5中任一項所述的陣列，其中所述凝膠包含水凝膠。

7.如權(quán)利要求1至5中任一項所述的陣列，其中所述凝膠包含SFA或PAZAM。

8.如權(quán)利要求1至5中任一項所述的陣列，其中所述孔的每一個中的凝膠材料包含所述文庫中的靶標核酸的單一物質(zhì)。

9.如權(quán)利要求8所述的陣列，其中所述單一物質(zhì)的多個拷貝在所述孔的每一個中形成核酸分子的克隆群體。

10.如權(quán)利要求8所述的陣列，其中所述單一物質(zhì)的多個拷貝在核酸分子中作為多聯(lián)體重復段存在。

11.如權(quán)利要求8所述的陣列，其中所述單一物質(zhì)在所述孔的每一個中作為不多于單一核酸分子存在。

12.如權(quán)利要求11所述的陣列，其中所述單一核酸分子包含兩條互補鏈。

13.如權(quán)利要求1至5中任一項所述的陣列，其中所述表面包含每mm²至少1,000個孔的密度。

14.如權(quán)利要求1至5中任一項所述的陣列，其中所述凝膠材料共價附接至所述孔的表面。

15.一種制備基底的方法，所述方法包括

(a)提供包含平面表面的固體支撐體，其中所述平面表面被一個或更多個孔中斷，所述孔通過所述固體支撐體中的凹陷形成，并且其中所述平面表面上的一個或更多個空隙區(qū)形成所述一個或更多個孔的邊界；

(b)用凝膠材料包被所述固體支撐體的至少一部分，其中所述部分包含至少一個孔和至少一個空隙區(qū)；以及

(c)拋光所述平面表面以從所述至少一個空隙區(qū)移除所述凝膠材料并且維持所述凝膠材料在所述至少一個孔中，

其中所述孔形成具有重復模式的陣列。

16.如權(quán)利要求15所述的方法，其中所述孔的每一個的體積是至多1000μm³。

17.如權(quán)利要求15所述的方法，其中所述孔的每一個中的凝膠體積是至多1000μm³。

18.如權(quán)利要求15所述的方法，其中所述孔的每一個包含具有在所述表面中的至多100μm²的開口的開口。

19.如權(quán)利要求15所述的方法，其中所述模式中的孔具有不多于5μm的孔距。

20.如權(quán)利要求15至19中任一項所述的方法，其中所述表面包含每mm²至少1,000個孔的密度。

21.如權(quán)利要求15至19中任一項所述的方法，其中所述包被包括將所述固體支撐體與預先形成的凝膠材料接觸。

22.如權(quán)利要求15至19中任一項所述的方法，其中所述包被包括將所述固體支撐體與隨后形成所述凝膠材料的液體接觸。

23.如權(quán)利要求15至19中任一項所述的方法，其中所述凝膠材料包含水凝膠。

24.如權(quán)利要求15至19中任一項所述的方法，其中所述凝膠材料包含SFA或PAZAM。