[發明專利]通過可調整的分離墻進行的氣體分離

有效

• 申請號: 201480006989.5
• 申請日: 2014-01-22
• 公開（公告）號: CN104968831B
• 公開（公告）日: 2019-08-02
• 發明（設計）人: H-G·洛茨;N·莫里森;J·M·迭戈茲-坎波;H·蘭格拉夫;T·斯托利;S·海恩;F·里斯;W·布施貝克
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;H01J37/32
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 徐偉

1.一種用于涂布薄膜于基板上的設備，包括：

基板支撐件，具有外表面，用于導引所述基板通過第一真空處理區域及至少一第二真空處理區域；以及

氣體分離單元，用于分離所述第一真空處理區域與所述至少一第二真空處理區域，且適用于形成狹縫，所述基板可通過所述基板支撐件的所述外表面與所述氣體分離單元之間的所述狹縫；

其中所述氣體分離單元適用于控制在所述第一真空處理區域與所述第二真空處理區域之間的流體連通，其中所述流體連通通過調整所述氣體分離單元的位置來控制，并且

其中所述氣體分離單元固定于沉積源的主體。

2.如權利要求1所述的設備，其中所述至少一個氣體分離單元包括致動器，所述致動器配置以調整所述狹縫的寬度。

3.如權利要求1所述的設備，其中所述基板支撐件為涂布鼓輪且其中所述至少一個氣體分離單元包括支撐元件，所述支撐元件機械式連接于所述氣體分離單元及所述涂布鼓輪的軸。

4.如權利要求2所述的設備，其中所述基板支撐件為涂布鼓輪且其中所述至少一個氣體分離單元包括支撐元件，所述支撐元件機械式連接于所述氣體分離單元及所述涂布鼓輪的軸。

5.如權利要求3所述的設備，其中所述支撐元件為碟件或碟件的一部分，其中所述碟件或所述碟件的所述部分具有本質上相同于所述涂布鼓輪的直徑或具有本質上相同于所述涂布鼓輪加所述狹縫的寬度的直徑，其中所述碟件或所述碟件的所述部分由一材料所組成，所述材料與具有不同的熱膨脹系數的所述涂布鼓輪的材料不同，其中所述碟件或所述碟件的所述部分配置成保持于合適的溫度水平，以調整所述碟件或所述碟件的所述部分的直徑成為所述涂布鼓輪的直徑。

6.如權利要求3所述的設備，其中所述支撐元件為碟件或碟件的一部分，其中所述碟件或所述碟件的所述部分具有本質上相同于所述涂布鼓輪的直徑或具有本質上相同于所述涂布鼓輪加所述狹縫的寬度的直徑，其中所述碟件或所述碟件的所述部分由一材料所組成，所述材料相同于所述涂布鼓輪的材料，且其中所述碟件配置成保持于相同的溫度或者所述碟件或所述碟件的所述部分配置成保持于合適的溫度水平，以調整所述碟件或所述碟件的所述部分的直徑成為所述涂布鼓輪的直徑。

7.如權利要求1至6中任一項所述的設備，更包括以下至少一個：

監控裝置，用于監控所述狹縫的寬度；

至少兩個等離子體沉積源。

8.如權利要求7所述的設備，其中所述監控裝置包括光學或電力監控器，用以光學地或電力地監控所述狹縫的寬度。

9.如權利要求7所述的設備，其中所述監控裝置為等離子體監控器，連接于所述至少兩個等離子體沉積源的至少一個，用以監控一或多個等離子體條件。

10.如權利要求8所述的設備，其中所述監控裝置為等離子體監控器，連接于所述至少兩個等離子體沉積源的至少一個，用以監控一或多個等離子體條件。

11.如權利要求1至6中任一項所述的設備，其中所述設備更包括至少一氣體入口，用以提供分離氣體于所述氣體分離單元與所述基板間的所述狹縫中。

12.如權利要求1至6中任一項所述的設備，其中所述設備更包括真空通道，用以連接真空泵浦。

13.如權利要求1至2中任一項所述的設備，更包括至少兩個等離子體沉積源，其中所述至少兩個等離子體沉積源包括電極，且其中所述電極具有曲面。

14.如權利要求3至6中任一項所述的設備，更包括至少兩個等離子體沉積源，其中所述至少兩個等離子體沉積源包括電極，且其中所述電極具有曲面。