[發明專利]裝飾膜的部分覆蓋的部分真空成形方法

有效

• 申請號: 201480001254.3
• 申請日: 2014-06-17
• 公開（公告）號: CN104520092B
• 公開（公告）日: 2016-10-12
• 發明（設計）人: 三浦高行
• 申請（專利權）人: 布施真空株式會社
• 主分類號: B29C51/12
• 分類號: B29C51/12;B29C51/10
• 代理公司: 北京三幸商標專利事務所(普通合伙) 11216
• 代理人: 劉激揚

技術領域

本發明涉及在真空狀態將片材貼于被貼體W上而進行成形的真空成形機；在采用該真空成形機的真空成形工序中使用的真空成形機用基板；或在比如采用這樣的真空成形機用基板的部分真空成形方法中，特別是對被貼體W的部分部位進行成形的部分成形方法。

背景技術

在過去，作為難以受到外部氣體的影響的真空成形裝置，公開有下述的類型，其中，于上下具有腔箱，并且于上述兩腔箱內部進行被成形件的成形，上腔箱和下腔箱可接合、離開，并且在上腔箱的內部組裝有加熱器，在已接合的兩個腔箱內部，通過上述加熱器對被成形件進行加熱(參照專利文獻1)。

上述方案可提供下述的真空成形裝置，其中，由于在已接合的兩個腔箱內部，通過上述加熱器對被成形件進行加熱，上述加熱器采用近紅外線加熱器，借此,可于已封閉的空間內部，對被成形件進行加熱、成形，故在成形時，與過去相比較，難以受到外部氣體的影響。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：JP特開2002—079573號公報

發明內容

發明要解決的課題

但是，在過去的真空成形裝置中，必須要求減少上下的箱內部的壓力的工序，以便進行真空成形，在采用大型的被貼體W的場合，必須使接納它的接納腔21大型化，由此，要求用于減小大型的接納腔21的內部的壓力的真空吸引時間，由此，作業時間長，另外由于采用大型的真空吸引泵，故成本高。如果在真空吸引導致的減壓不充分的狀態進行膜的覆蓋成形，則膜的密貼狀態為不充分的狀態，或產生裝飾膜F的上浮。另外，因使接納腔21的尺寸增加，成形后的經過加熱的狀態的裝飾膜F的冷卻也花費時間，無法進行有效的真空成形作業。

于是，本發明的課題在于針對于上接納腔21之間密貼裝飾膜F，進行減壓成形的真空成形方法，即使在采用大型的被貼體W的情況下，仍以較短時間，進行膜的覆蓋成形。

用于解決課題的技術方案

(1)本發明的部分真空成形方法涉及一種裝飾膜F的部分覆蓋的部分真空成形方法，在該方法中，將具有頂部開口的接納空間S21的接納腔21和具有底部開口的箱空間22S的上箱22在夾持覆蓋兩開口的尺寸的裝飾膜F的狀態，在上下進行組合，密閉而形成由上下各箱空間S21、22S構成的成形空間，分別對構成該成形空間內的上下進行壓力控制，由此，在接納于成形空間中的被貼體W的一部分表面上，減壓密貼裝飾膜F；

其特征在于，該方法按照配備下述部件的方式構成，該部件包括：

支承夾具(由底架板11與側架板312構成)，該支承夾具由凹狀的容納體構成，并且該支承夾具的支承模頂端沿上述接納腔21的頂部開口緣而開口，該容納體對覆蓋被貼體W中的規定的部分成形部分WP的內側到側周圍進行覆蓋；

接納腔21，其在將被貼體W接納于箱空間內部的狀態，可將覆蓋被貼體W的上述規定的成形部分WP的一部分的支承夾具接近而設置于頂部開口處；

上箱22，該上箱22以可升降的方式設置于接納腔21的頂部空間的上方，在最低下降狀態使箱空間的底部開口以夾持裝飾膜F的方式，與接納腔21的頂部開口接觸而組合；

壓力控制機構，該壓力控制機構對上箱22內部的上空間22S、與設置而固定于接納腔21內部的支承夾具內部的下空間11S進行壓力控制；

通過在接納腔21的內部將覆蓋被貼體W的一部分的支承夾具的支承模頂端接近設置于頂部開口處，將接納腔21的內部劃分為支承夾具內部的下空間11S和接納空間21S；

按照夾持裝飾膜F的方式，使上述已劃分的支承夾具內部的下空間11S11S與上箱22內部的上空間22S在上下密閉而相連；

在將已密閉的容納體內部空間11S、上空間22S的相應空間減壓后，僅僅對上空間22S進行壓力釋放；

由此，在由支承夾具覆蓋的被貼體W的一部分上，覆蓋而成形裝飾膜F。

由于不由被貼體W的全部而僅僅包圍由其一部分包圍而進行三維裝飾成形，故與被貼體的部件形狀、部件的尺寸無關，僅僅包圍所裝飾的成形部分WP的尺寸而進行真空成形，真空時間大幅度地降低。另外，通過代替電鍍，涂敷加工而進行裝飾膜F的部分覆蓋成形，作業環境大幅度地被改善。