[實用新型]應(yīng)用于真空造型設(shè)備上的取覆膜裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420838094.5
• 申請日: 2014-12-26
• 公開（公告）號: CN204342068U
• 公開（公告）日: 2015-05-20
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 杜建輝
• 申請（專利權(quán)）人: 福建省寶山機械有限公司
• 主分類號: B65H5/08
• 分類號: B65H5/08;B65H29/32
• 代理公司: 泉州市博一專利事務(wù)所 35213
• 代理人: 方傳榜

1.應(yīng)用于真空造型設(shè)備上的取覆膜裝置，其特征在于：包括機架、該機架上的展膜平臺、設(shè)于展膜平臺一側(cè)的薄膜輥軸、用于取覆薄膜的取膜框、連接于該取膜框上方的加熱器以及控制該加熱器的移動架，所述展膜平臺由第一驅(qū)動機構(gòu)控制上下動作與取膜框配合傳遞薄膜。

2.如權(quán)利要求1所述的應(yīng)用于真空造型設(shè)備上的取覆膜裝置，其特征在于：所述第一驅(qū)動機構(gòu)為設(shè)于展膜平臺底部四個角上的氣缸。

3.如權(quán)利要求1所述的應(yīng)用于真空造型設(shè)備上的取覆膜裝置，其特征在于：所述加熱器分為左區(qū)、中區(qū)、右區(qū)三個區(qū)域，加熱器的三個區(qū)域可同時開啟。

4.如權(quán)利要求1所述的應(yīng)用于真空造型設(shè)備上的取覆膜裝置，其特征在于：所述取膜框上連接有第二驅(qū)動機構(gòu)，可控制其向下進行覆膜作業(yè)。

5.如權(quán)利要求1所述的應(yīng)用于真空造型設(shè)備上的取覆膜裝置，其特征在于：所述取膜框為下表面上設(shè)置有真空吸膜孔的中空矩形框。

6.如權(quán)利要求1所述的應(yīng)用于真空造型設(shè)備上的取覆膜裝置，其特征在于：所述移動架上設(shè)置有導(dǎo)輪，所述機架后方設(shè)有豎直板，該豎直板上設(shè)有橫向的導(dǎo)軌，所述導(dǎo)輪與導(dǎo)軌配合帶動移動架左右移動。

7.如權(quán)利要求1所述的應(yīng)用于真空造型設(shè)備上的取覆膜裝置，其特征在于：還包括設(shè)于展膜平臺上的薄膜切斷機構(gòu)，該薄膜切斷機構(gòu)位于所述薄膜輥軸相對的一側(cè)。