[實用新型]用于曝光機的雙玻璃曬架

有效

• 申請號: 201420807257.3
• 申請日: 2014-12-17
• 公開（公告）號: CN204347437U
• 公開（公告）日: 2015-05-20
• 發明（設計）人: 袁強;劉長征
• 申請（專利權）人: 東莞市海圣光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 東莞市中正知識產權事務所 44231
• 代理人: 劉林

1.用于曝光機的雙玻璃曬架，其特征在于：包括上層曬架和下層曬架，上層曬架與下層曬架的一端通過鉸鏈進行連接，上層曬架與下層曬架的兩側設有兩個用于撐開上層曬架的支氣撐，使上層曬架與下層曬架之間能夠進行活動打開與閉合，上層曬架由上框架和安裝在上框架中端的上玻璃構成，上玻璃的兩端通過可活動的夾具進行固定，夾具連接有微調軸承，微調軸承上安裝有用于檢測精度的位移傳感器，上玻璃的底面邊緣設有上層膨脹密封圈，下層曬架由下框架和安裝在下框架中端的下玻璃構成，下框架的邊緣設有用于安裝下玻璃的圓形凹槽，在該圓形凹槽內設有橡膠密封圈，下玻璃固定壓在橡膠密封圈上，使下玻璃與橡膠密封圈緊密貼合，下玻璃的頂面邊緣設有與上層膨脹密封圈配對貼合的下層膨脹密封圈，上層膨脹密封圈與下層膨脹密封圈均連接有用于調節氣壓的真空連接口，該真空連接口上設置有氣壓感應器，上玻璃與下玻璃均為浮法玻璃，上玻璃與下玻璃密封貼合后形成一個密封腔體，該密封腔體內還設置有真空系統，該真空系統包括腔體真空系統和底片吸附系統。

2.根據權利要求1所述用于曝光機的雙玻璃曬架，其特征在于：所述底片吸附系統包括真空吸附槽、導氣管、吸附泵和電磁閥，真空吸附槽分別設置于上玻璃的底面與下玻璃頂面，真空吸附槽連接至導氣管上，導氣管與吸附泵和電磁閥相接，并通過PLC進行控制。

3.根據權利要求1或者2所述用于曝光機的雙玻璃曬架，其特征在于：所述腔體真空系統設置于下框架的底部，由真空泵、腔體管路和腔體導通口構成，腔體管路分別與真空泵和腔體導通口密封連接，腔體導通口從下層膨脹密封圈穿入。

4.根據權利要求3所述用于曝光機的雙玻璃曬架，其特征在于：所述下框架的前端表面和左端表面分別設有定位銷，上框架的前端底面和左端底面分別設有與定位銷位置配對安裝的定位孔，定位銷為圓錐形結構，并在定位銷的底面設有起緩沖作用的彈簧。

5.根據權利要求1或者2或者4所述用于曝光機的雙玻璃曬架，其特征在于：所述下玻璃的邊沿設有向下傾斜的斜面，在斜面上方設有用于壓緊下玻璃的卡條，卡條的底面設有緊貼斜面的安裝面，并通過螺釘將卡條固定在下框架上。

6.根據權利要求1或者2或者4所述用于曝光機的雙玻璃曬架，其特征在于：所述夾具的一端夾緊上玻璃，夾具的另一端安裝在上框架的內側面上，并在夾具與上框架之間設有翻轉軸，該翻轉軸上套裝有復位扭簧，翻轉軸的翻轉角度為正負5度。

7.根據權利要求6所述用于曝光機的雙玻璃曬架，其特征在于：所述上框架與下框架均由鋁合金材料構成。