[實用新型]用于曝光機的紫外線光路系統

有效

• 申請號: 201420807125.0
• 申請日: 2014-12-17
• 公開（公告）號: CN204347435U
• 公開（公告）日: 2015-05-20
• 發明（設計）人: 袁強;劉長征
• 申請（專利權）人: 東莞市海圣光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 東莞市中正知識產權事務所 44231
• 代理人: 劉林

技術領域

本實用新型涉及曝光設備領域，具體涉及用于曝光機的紫外線光路系統。

背景技術

光路系統是完成曝光的核心部分。綠油只對紫外線感光，因此，曝光時的光線必須是UV光(紫外線光)。曝光機傳統光源結構的快門每次可以在同一方向旋轉180°，曝光時快門打開，其他時間快門關閉。光源所發出的光包含多個波段，如紅外線，可見光，紫外線等。由于紅外光會產生大量的熱，嚴重影響曝光質量，還會使曬架和菲林變形。在進行不同工序使用不同的曝光量時，需要一再調整燈泡的位置或者一再取放濾光片，這種傳統的做法不但耗費時間，使得產品嚴重損失，甚至降低精度。

實用新型內容

本實用新型的目的是解決以上缺陷，提供用于曝光機的紫外線光路系統，其能提高曝光質量，且可通過快門來改變曝光強度和曝光量。

本實用新型的目的是通過以下方式實現的：

用于曝光機的紫外線光路系統，包括光源機構和用于安裝光源機構的高度調整機構，該高度調整機構包括固定架、活動架和氣缸，活動架供光源機構安裝并能帶動光源機構相對于固定架上下移動，氣缸包含設置于固定架上的缸體，及穿設于缸體內并與活動架相連接的氣缸伸縮桿，氣缸伸縮桿呈縱向延伸并能相對于缸體上下運動，以帶動活動架相對于固定架上下移動，該光源機構包括紫外光源、快門組件、第一反射罩和第二反射罩，第二反射罩位于第一反射罩的下方，并在第二反射罩與第一反射罩之間設有隔熱玻璃，第二反射罩的內表面覆蓋有凹凸不平的鋁板，因為凹凸面可以使光源發散，讓整個反射罩形成一個大的光源，從而使能量的均勻度有所提高。快門組件和紫外光源均設置于第一反射罩內，且快門組件位于紫外光源的下方，該快門組件由形狀相同的上層三葉片和下層三葉片構成，上層三葉片與下層三葉片之間通過轉軸進行同軸連接，上層三葉片與下層三葉片均通過獨立的步進馬達進行控制，上層三葉片位于下層三葉片的上方，且可相對轉動，用于阻擋紫外光源所發射的光源。

上述說明中，作為優選的方案，所述第一反射罩的上端側面設有兩個用于流通冷空氣的第一冷卻孔，第二反射罩的下端側面設有兩個用于流通冷空氣的第二冷卻孔。

上述說明中，作為優選的方案，所述固定架包含兩個分別設置于左右側且相間隔的導桿，各導桿呈縱向延伸，活動架包含兩個分別能滑動地套設于兩個導桿上的襯套。

上述說明中，作為優選的方案，所述活動架還包含供氣缸伸縮桿連接的浮動接頭，固定架還包含兩個分別設置于兩個導桿上且鄰近底端處的安裝板，及兩個分別接合于兩個安裝板上的擋止件，各擋止件用以供活動架抵接。

上述說明中，作為優選的方案，所述固定架還包含兩個分別設置于兩個擋止件頂端的彈性接觸墊，各彈性接觸墊用以供活動架抵接。

上述說明中，作為優選的方案，所述紫外光源為金屬鹵素燈。

本實用新型所產生的有益效果如下：

1)設置有隔熱玻璃，一方面可以吸收掉絕大部分的紅外線，有利于對框架溫度的控制；另一方面對冷卻系統的要求也大為降低，從而提高曝光質量；

2)設置有可可相對轉動的三葉片結構，可適用于高曝光量及低曝光量的工序，而不需一再調整光源，具有節省時間提高產能的優點；

3)通過高度調整機構設計，能帶動光源機構上下移動地調整高度，由此，光源機構對上對位臺框與下對位臺框曝光的強度與均勻度能保持一致，以提升曝光的品質。

附圖說明

圖1為本實用新型實施例的主視圖；

圖2為本實用新型實施例中光源機構的簡易結構示意圖；

圖中，1為紫外光源，2為第一反射罩，3為第二反射罩，4為隔熱玻璃，5為曬架，6為上層三葉片，7為下層三葉片，8為轉軸，9為固定架，10為活動架，11為氣缸，12為導桿，13為襯套，14為浮動接頭，15為安裝板。

具體實施方式

下面結合附圖與具體實施方式對本實用新型作進一步詳細描述。

本實施例，參照圖1和圖2，本實施例的紫外線光路系統包括光源機構和用于安裝光源機構的高度調整機構。該高度調整機構包括固定架9、活動架10和氣缸11，活動架10供光源機構安裝并能帶動光源機構相對于固定架9上下移動，氣缸11包含設置于固定架9上的缸體，及穿設于缸體內并與活動架10相連接的氣缸11伸縮桿，氣缸11伸縮桿呈縱向延伸并能相對于缸體上下運動，以帶動活動架10相對于固定架9上下移動。