[實用新型]一種真空鍍膜系統的樣品室結構

有效

• 申請號: 201420804646.0
• 申請日: 2014-12-17
• 公開（公告）號: CN204325478U
• 公開（公告）日: 2015-05-13
• 發明（設計）人: 閆鵬;盧松松;張震
• 申請（專利權）人: 山東大學
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/50
• 代理公司: 濟南圣達知識產權代理有限公司 37221
• 代理人: 趙妍

1.一種真空鍍膜系統的樣品室結構，其特征在于，包括：

真空腔，該真空腔的頂部固定連接有基準板；

所述基準板上均布有若干個定位孔；

安裝于所述基準板下表面的真空納米定位平臺，真空納米定位平臺通過基準板將熱量傳遞給真空腔的腔壁；

所述真空納米定位平臺上安裝有基片；

所述真空納米定位平臺的下方設有掩膜支架，掩膜支架與基準板固定連接，且掩膜支架具有掩膜安裝孔；

所述真空腔的側面設有激光尺光路口和多個功能接口；

該真空腔還具有腔體門。

2.根據權利要求1所述的真空鍍膜系統的樣品室結構，其特征在于，所述真空納米定位平臺驅動基片運動，來實現特定形狀鍍膜的沉積。

3.根據權利要求2所述的真空鍍膜系統的樣品室結構，其特征在于，所述掩膜支架上分布有4個深度互不相同的用于安裝掩膜板的掩膜安裝孔，實現一次鍍膜得到四種不同形狀特征的鍍膜沉積層。

4.根據權利要求2所述的真空鍍膜系統的樣品室結構，其特征在于，所述掩膜支架的投影將所述真空納米定位平臺完全覆蓋，使得真空納米定位平臺在鍍膜過程中不會受到真空蒸鍍上來的原子或分子的影響。

5.根據權利要求1所述的真空鍍膜系統的樣品室結構，其特征在于，所述激光尺光路口為兩個，兩個激光尺光路口分別設置在真空腔的左側面和后側面上。

6.根據權利要求5所述的真空鍍膜系統的樣品室結構，其特征在于，掩膜支架相互垂直的兩個側面分別設置有與所述激光尺光路口對應的掩膜支架光路口，來實現對真空納米平臺運動狀態的精確非接觸實時監測。

7.根據權利要求3所述的真空鍍膜系統的樣品室結構，其特征在于，所述基準板到掩膜支架內表面的距離減去基準板到基片表面的距離即為掩膜板與基片之間的距離。

8.根據權利要求3或7所述的真空鍍膜系統的樣品室結構，其特征在于，所述掩膜安裝孔呈直線排列。

9.根據權利要求1所述的真空鍍膜系統的樣品室結構，其特征在于，所述真空腔還設置有觀察孔。

10.根據權利要求1所述的真空鍍膜系統的樣品室結構，其特征在于，所述真空納米定位平臺包括帶有中央凹槽的底座，中央凹槽內設有基片臺，基片臺的X軸方向經X向柔性鉸鏈固定于底座上，基片臺的Y軸方向經Y向柔性鉸鏈固定于底座上，X向柔性鉸鏈上設有X向壓電陶瓷驅動器，Y向柔性鉸鏈上設有Y向壓電陶瓷驅動器；基片臺的X向側沿上設置有X向光路反射鏡，基片臺的Y向側沿上設置有Y向光路反射鏡。