[實(shí)用新型]一種磁控濺射鍍膜用陰極

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420801801.3
• 申請日: 2014-12-16
• 公開（公告）號: CN204281852U
• 公開（公告）日: 2015-04-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李震
• 申請（專利權(quán)）人: 張家港市銘斯特光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 32103
• 代理人: 孫仿衛(wèi)

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種磁控濺射鍍膜裝置，具體涉及一種磁控濺射鍍膜用陰極。

背景技術(shù)

目前，在對片狀材料，如玻璃基板進(jìn)行鍍膜時(shí)，通常采用的是磁控濺射鍍膜的方式，其工作原理為：在真空條件中，電子在電場作用下飛向基片，在此過程中與惰性氣體原子發(fā)生碰撞，使惰性氣體原子電離產(chǎn)生出惰性氣體正離子和新的電子；惰性氣體正離子在電場作用下加速飛向陰極，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射，濺射出的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜。在整個(gè)磁控濺射過程中，要求鍍膜真空室內(nèi)保持一定的真空度以確保磁控濺射得到的鍍膜膜層穩(wěn)定，而目前，一般在靶座與真空室側(cè)壁間設(shè)置覆蓋整個(gè)靶座的密封件以確保兩者間相密封設(shè)置，由于密封區(qū)域跨度較大，對靶座上的密封面平整度要求較高。而同時(shí)，傳統(tǒng)的固定靶材主要采用直接用內(nèi)六角螺栓等通過壓靶條將靶材固定在靶背板上，這種方式通常使得靶材的厚度受到限制，不能低于某一定值；另一方面，由于采用內(nèi)六角螺栓通過壓靶條固定靶材，濺射時(shí)壓靶條材料也會(huì)一同被濺射并沉積到基片上，使得基片上所濺射的膜層被引入雜質(zhì)，降低所鍍薄膜的純度和質(zhì)量；此外，濺射物質(zhì)還會(huì)沉積到螺栓孔附近使螺栓孔堵塞，造成更換靶材時(shí)靶材難以取下。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的是提供一種磁控濺射鍍膜用陰極，其結(jié)構(gòu)簡單、密封性能好、所鍍薄膜的質(zhì)量好。

為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是：一種磁控濺射鍍膜用陰極，安裝在磁控濺射鍍膜真空室內(nèi)，包括安裝在所述真空室側(cè)壁上的靶座、設(shè)于所述靶座正面的靶背板、固設(shè)在所述靶座內(nèi)腔中的磁體、焊接在所述靶背板正面的靶材，所述陰極還包括用于防止所述靶座與所述真空室側(cè)壁間泄漏的密封機(jī)構(gòu)，所述密封機(jī)構(gòu)包括設(shè)于所述靶座背面的多個(gè)密封件、一端固設(shè)在所述靶座背面的鎖緊桿，所述鎖緊桿的另一端上還套設(shè)有鎖緊螺母，所述鎖緊桿沿其軸向依次穿設(shè)通過所述密封件、所述真空室側(cè)壁后與所述鎖緊螺母相鎖緊，所述鎖緊桿在數(shù)量上與所述密封件相等。

優(yōu)選地，所述密封件有兩個(gè)，分別設(shè)于所述靶座背面的上下兩端。

優(yōu)選地，所述密封機(jī)構(gòu)還包括依次設(shè)于所述真空室側(cè)壁外側(cè)的絕緣墊、金屬墊，所述鎖緊桿沿其軸向依次穿設(shè)通過所述密封件、所述真空室側(cè)壁、所述絕緣墊、所述金屬墊后與所述鎖緊螺母相鎖緊。

優(yōu)選地，所述靶背板的正面還涂抹有用于焊接所述靶材的焊料，所述焊料為含銦焊料。

優(yōu)選地，所述靶背板為銅質(zhì)背板。

優(yōu)選地，所述靶材為ITO靶材。

優(yōu)選地，所述密封件采用了絕緣材料制成。

進(jìn)一步優(yōu)選地，所述靶座與所述靶背板間還設(shè)有用于兩者密封的密封圈。

由于上述技術(shù)方案的運(yùn)用，本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn)：本實(shí)用新型的磁控濺射鍍膜用陰極，通過設(shè)置密封機(jī)構(gòu)使得靶座與鍍膜真空室側(cè)壁間密封性更好，在靶座背面上下兩端分別設(shè)置密封件有效的減少了兩者間的密封區(qū)域，降低了真空室室內(nèi)的漏氣率，提高了靶座的濺射效率，同時(shí)采用焊料焊接地方式將靶材固定在靶背板，不僅簡化了陰極結(jié)構(gòu)，避免了鍍膜過程中引入雜質(zhì)，同時(shí)確保了所鍍薄膜的質(zhì)量。

附圖說明

附圖1為本實(shí)用新型所述的磁控濺射鍍膜用陰極的結(jié)構(gòu)示意圖圖；

附圖2為圖1所示的磁控濺射鍍膜用陰極的剖視圖；

其中：1、真空室側(cè)壁；2、靶座；3、靶背板；4、磁體；5、靶材；6、密封機(jī)構(gòu)；61、密封件；62、鎖緊桿；63、鎖緊螺母；64、絕緣墊；65、金屬墊；?7、焊料；8、密封圈。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖來對本實(shí)用新型的技術(shù)方案作進(jìn)一步的闡述。

參見圖1、圖2所示，一種磁控濺射鍍膜用陰極，安裝在磁控濺射鍍膜真空室內(nèi)，包括安裝在真空室側(cè)壁1上的靶座2、設(shè)于靶座2正面的靶背板3、固設(shè)在靶座2內(nèi)腔中的磁體4、焊接在靶背板3正面的靶材5，在本實(shí)施例中，靶材5為矩形平面的ITO靶材5，且該靶材5與直流電源的負(fù)極相連接。在本實(shí)施例中，靶背板3采用了導(dǎo)熱性好的銅質(zhì)背板，磁體4為永磁鐵。