[實用新型]樣品測量池

有效

• 申請號: 201420799929.0
• 申請日: 2014-12-17
• 公開（公告）號: CN204314210U
• 公開（公告）日: 2015-05-06
• 發明（設計）人: 鄧文平
• 申請（專利權）人: 鄧文平
• 主分類號: G01N21/03
• 分類號: G01N21/03
• 代理公司: 蘇州威世朋知識產權代理事務所(普通合伙) 32235
• 代理人: 楊林潔

技術領域

本實用新型涉及一種樣品測量池，尤其涉及一種利用光學方法對樣品的物化性質進行測量的樣品測量池。

背景技術

目前，在很多領域的應用中都需要利用吸收光譜法檢測ppm和ppb濃度水平的微量樣品，為了提高吸收光譜技術對低濃度樣品的檢測靈敏度，增加光束穿過樣品的光程是一種有效的方法。顯然，單純將光源與探測器位置遠離，使光束穿越一個非常直長的透射型樣品測量池，會使裝置笨重、準直復雜、溫度穩定性和抗震性能差。通常采用“折疊”光程，即光束在反射鏡間多次反射來實現在一個較小的空間區域內的有效光程延長。比如，比較常見的是White?型樣品測量池和Herriott?型樣品測量池，這兩種樣品測量池都采用凹球面反射鏡在較小的空間區域內實現光路的多次反射。同樣也有利用平面反射鏡實現的方式，比如，在美國專利US3524066?中描述了在圓柱腔體的兩端安裝兩個平面反射鏡來實現光路的多次反射。

然而，在實際使用中，當測試環境惡劣（高粉塵、腐蝕性、高水份、高溫、振動等）時，基于反射鏡的樣品測量池，由于高反射膜層是鍍在前表面的（即鏡片鍍外反射膜），此時，反射鏡的反射面和接觸樣品的接觸面重合，即同為一個面。實際使用時高反射膜層與樣品測量池中的樣品直接接觸，膜層容易被樣品、樣品中的雜質所破壞。

一般地，高反射膜層為金屬反射膜或介質反射膜。若使用金屬反射膜，由于單層的金屬膜硬度較低，極易被擦傷，因此，常在金屬膜上加鍍保護膜，且金屬反射膜本身就需經多次鍍設而成，得到的金屬反射膜一般包含多層膜層。類似地，當使用介質反射膜時，介質反射膜一般通過多次鍍設而成，因此，得到的介質反射膜也包含多層膜層。無論是金屬反射膜還是介質反射膜，由于各膜層之間的粘附性、膜層和基底材質之間的粘附性、以及膜層的致密性有限，當將高反射膜層置于高溫、高濕、高粉塵、腐蝕性等惡劣環境中時，環境中的氣體、水汽及雜質容易進入到高反射膜層的各個膜層之間以及高反射膜層與玻璃基底的連接處，使得高反射膜層容易被破壞；另外，在高反射膜層的制備過程中，一般會引入顆粒異物，所引入的顆粒異物會造成高反射膜層的缺陷，當有膜層缺陷的反射鏡置于惡劣環境中時，會加劇破壞作用，這不僅使得高反射膜層的反射率降低，損失光能，而且破壞過程脫落的膜層還可能會阻擋光路，進一步降低光能的收集效率，甚至會使得玻璃在高反射膜層的應力的作用下變形破裂，從而導致基于鍍膜技術反射鏡的樣品測量池的環境適應性差，無法適應不同的測量環境，在惡劣環境中無法正常使用。

發明內容

本實用新型的目的在于提供一種樣品測量池。

本實用新型的樣品測量池所用的測量方法為光學方法，包括但不限于：吸收光譜、拉曼光譜、散射譜、熒光等分析方法。

為實現上述實用新型目的之一，本實用新型一實施方式提供了一種樣品測量池，所述樣品測量池包括反射腔及至少一個反射結構，反射腔用于容置待測樣品；所述至少一個反射結構設置于所述反射腔的邊界；其中，所述反射結構包括接觸面和反射面，所述接觸面接觸所述待測樣品，所述反射面遠離所述待測樣品；所述接觸面及所述反射面的至少其中之一為非平面；入射光于所述反射腔內多次反射以形成測量光路路徑，所述入射光通過入射部分進入所述反射腔，所述入射部分為所述入射光與所述測量光路路徑初次接觸的部分，所述入射部分與所述反射面之間為非連續設置。

作為本實用新型一實施方式的進一步改進，所述反射結構為反射鏡，所述樣品測量池包含至少兩個反射鏡，所述至少兩個反射鏡分別設置于所述反射腔的兩端。

作為本實用新型一實施方式的進一步改進，所述反射腔為所述測量光路路徑形成的區域。

作為本實用新型一實施方式的進一步改進，所述反射面上鍍有反射膜。

作為本實用新型一實施方式的進一步改進，所述反射面為全反射面。

作為本實用新型一實施方式的進一步改進，所述入射部分為所述反射結構上的通光面、通光孔或所述反射結構的周圍的入射區域。

作為本實用新型一實施方式的進一步改進，所述非平面為球面、柱面、二次曲面、自由曲面、或非球面。

作為本實用新型一實施方式的進一步改進，所述入射光的光斑的束腰位置位于所述反射腔的內部。

作為本實用新型一實施方式的進一步改進，所述至少一個反射結構之間具有夾角，所述夾角取值范圍為0°~360°。

作為本實用新型一實施方式的進一步改進，所述反射面上設置有保護結構，所述保護結構用于保護所述反射面。