[實用新型]一種用于調節硅片制絨槽內減薄量均勻性的系統有效
| 申請號: | 201420790611.6 | 申請日: | 2014-12-11 |
| 公開(公告)號: | CN204230280U | 公開(公告)日: | 2015-03-25 |
| 發明(設計)人: | 陳波;崔紅星;張文鋒;胡應全;林海峰 | 申請(專利權)人: | 東方日升新能源股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L21/67;C30B33/10 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 315609 浙江省寧波市寧海*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 調節 硅片 制絨槽內減薄量 均勻 系統 | ||
1.一種用于調節硅片制絨槽內減薄量均勻性的系統,包括制絨槽,所述制絨槽內設有反應道,所述反應道內由上往下依次設有位于制絨槽內藥液液位下方的壓輪與滾輪,硅片在滾輪和壓輪之間移動并進行制絨;還包括一儲液槽,所述儲液槽通過一輸液管將儲液槽內的藥液輸送到所述制絨槽內,位于所述制絨槽內的輸液管上設有若干第一噴孔,所述制絨槽通過溢流管以及回流管將所述制絨槽內的藥液輸送到儲液槽內,所述儲液槽內的藥液通過熱交換毛細管與一冰機形成熱交換,其特征在于:所述反應道至少有三個,位于制絨槽兩端的反應道之間的其他每條反應道上各設有一噴淋裝置。
2.根據權利要求1所述的用于調節硅片制絨槽內減薄量均勻性的系統,其特征在于:所述噴淋裝置包括與所述儲液槽相連通的噴淋管道,位于反應道上方的噴淋管道上設有若干第二噴孔,所述第二噴孔位于所述制絨槽內的藥液液位上方。
3.根據權利要求2所述的用于調節硅片制絨槽內減薄量均勻性的系統,其特征在于:所述噴淋管道上還設有第一調節閥。
4.根據權利要求2所述的用于調節硅片制絨槽內減薄量均勻性的系統,其特征在于:所述噴淋管道通過第一泵浦與所述儲液槽相連接。
5.根據權利要求1-4任一所述的用于調節硅片制絨槽內減薄量均勻性的系統,其特征在于:所述輸液管上設有第二泵浦。
6.根據權利要求1-4任一所述的用于調節硅片制絨槽內減薄量均勻性的系統,其特征在于:所述輸液管上的若干第一噴孔位于所述滾輪下方。
7.根據權利要求1-4任一所述的用于調節硅片制絨槽內減薄量均勻性的系統,其特征在于:所述熱交換毛細管位于所述儲液槽內的藥液液位下方。
8.根據權利要求1-4任一所述的用于調節硅片制絨槽內減薄量均勻性的系統,其特征在于:所述輸液管上進一步設有第二調節閥。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





