[實用新型]一種電容式觸摸屏用透明硬化膜有效
| 申請號: | 201420782774.X | 申請日: | 2014-12-13 |
| 公開(公告)號: | CN204314858U | 公開(公告)日: | 2015-05-06 |
| 發明(設計)人: | 史良;張永漢;胡鑫;崔書海 | 申請(專利權)人: | 合肥樂凱科技產業有限公司 |
| 主分類號: | G06F3/044 | 分類號: | G06F3/044 |
| 代理公司: | 石家莊冀科專利商標事務所有限公司 13108 | 代理人: | 李羨民;郭紹華 |
| 地址: | 230041 安徽省合*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 電容 觸摸屏 透明 硬化 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種觸摸屏技術領域,特別涉及一種電容式觸摸屏用透明硬化膜。
背景技術
電容式觸摸屏是通過設計出一組特殊的電極走線,將“邊緣場”引到手指能夠得到的有效感應區域,把手指放在邊緣電場的附近將增加電容式系統的導電面積,其主要包括兩種類型,表面式電容和投射式電容。表面式電容屏采用一層銦錫氧化物,外圍至少有四個電極。當一個接地的物體靠近時,例如手指,這些電極能夠感應表面電容的變化。傳感器利用觸摸屏電極發射出的靜電場稱為投射電容式觸摸屏,它通過物體在傳感電極和被傳感電極之間感應出電荷或者通過被感覺物體從一個電極到另一個電極的電場線時,從而被感應到,報告出接觸點位置。
電容式觸摸屏為配合多點觸控等功能,在生產工藝上需要蝕刻銦錫氧化物圖形(即制作線路區),為了避免在加工過程中銦錫氧化物導電薄膜劃傷,影響顯示器可視性,一般都會對該導電薄膜做表面加硬處理,另外當光線劃過表面時,會造成電容式觸摸屏表面銦錫氧化物蝕刻區和非蝕刻區的色差,導致電容式觸摸屏的蝕刻圖案或線條清晰可見,直接影響觸摸屏幕的顯示效果。
實用新型內容
本實用新型所要解決的技術問題是針對現有技術存在的問題,提供一種電容式觸摸屏用透明硬化膜。
為解決上述技術問題,本實用新型采取的技術方案為:
一種電容式觸摸屏用透明硬化膜,在基材的兩個表面分別設置有第一預涂底層和第二預涂底層,在第一預涂底層表面設置有硬化層,在第二預涂底層的表面設置有第二消影層,在第二消影層的表面設置有第二阻隔層,在硬化層表面設置有第一消影層,在第一消影層的表面設置有第一阻隔層。
上述述電容式觸摸屏用透明硬化膜,所述第一消影層的厚度為0.05μm?~0.15μm,第二消影層的厚度為0.5μm?~1.5μm。
上述述電容式觸摸屏用透明硬化膜,所述基材的厚度為50μm?~188μm。
上述述電容式觸摸屏用透明硬化膜,所述第一預涂底層的厚度為0.05μm?~0.1μm,第二預涂底層的厚度為0.1μm?~0.2μm。
上述述電容式觸摸屏用透明硬化膜,所述硬化層的厚度為1μm?~3μm。
上述述電容式觸摸屏用透明硬化膜,所述第一阻隔層的厚度為0.005μm?~0.03μm,第二阻隔層的厚度為0.01μm?~0.04μm。
與現有技術相比,本實用新型通過采用雙面消影層并在消影層的表面設置阻隔層,較好地解決了電容屏銦錫氧化物導電膜的“影子”現象,同時避免了聚酯薄膜中小分子析出造成的霧度上漲和“脫氣”現象,保證了硬化層的透明度和鍍銦錫氧化物后產品的穩定性;并進一步通過對消影層折射率的控制、消影層厚度與其它各層厚度的搭配,使得光線在銦錫氧化物導電線路與蝕刻區界面的反射接近,解決了因光線在不同界面的反射導致的光程差現象,最終消除了電容屏導電膜的“影子”現象,提高了觸摸屏的可視性。
附圖說明
圖1是本實用新型的結構示意圖。
圖中各標號表示為:1.基材;2.第一預涂底層;3.第二預涂底層;4.硬化層;5.第二消影層;6.第一消影層;7.第二阻隔層;8.第一阻隔層。
具體實施方式
實施例1
在厚度50μm的PET基材1的兩個表面分別涂覆折射率為1.55的聚氨酯樹脂作為第一預涂底層2和折射率為1.60的聚酯樹脂作為第二預涂底層3,該第一預涂底層2和第二預涂底層3的厚度分別為0.05μm和0.1μm,在第一預涂底層2的表面分別涂覆硬度為1H的硬化層4,該硬化層4的厚度為1μm,在第二預涂底層3和硬化層4的表面分別涂覆折射率為1.65的第二消影層5和折射率為1.65的第一消影層6,該第二消影層5和第一消影層6的厚度分別為0.5μm和0.05μm,第二消影層5和第一消影層6的表面分別涂覆折射率為1.4的第二阻隔層7和折射率為1.4第一阻隔層8,該第二阻隔層7和第一阻隔層8的厚度分別為0.03μm和0.015μm,得到電容式觸摸屏用透明硬化膜。
實施例2
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