[實(shí)用新型]一種薄膜刻劃裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201420766200.3 | 申請(qǐng)日: | 2014-12-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN204315615U | 公開(公告)日: | 2015-05-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王振華;謝建;黃東海;樂安新;鄭付成;高云峰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 大族激光科技產(chǎn)業(yè)集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/18 | 分類號(hào): | H01L31/18 |
| 代理公司: | 深圳市君盈知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44315 | 代理人: | 陳琳 |
| 地址: | 518000 廣東*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 薄膜 刻劃 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型屬于薄膜太陽(yáng)電池加工技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種薄膜刻劃裝置。
背景技術(shù)
發(fā)展低成本、新型薄膜太陽(yáng)電池是未來(lái)國(guó)際光伏產(chǎn)業(yè)的必然趨勢(shì)。CIGS薄膜太陽(yáng)電池(CIGS是太陽(yáng)能薄膜電池CuInxGa(1-x)Se2的簡(jiǎn)寫)是在玻璃或其它廉價(jià)襯底上沉積6層以上化合物半導(dǎo)體和金屬薄膜料,薄膜總厚度約3~4微米。該電池成本低、性能穩(wěn)定、抗輻射能力強(qiáng),其光電轉(zhuǎn)換效率目前是各種薄膜太陽(yáng)電池之首,光譜響應(yīng)范圍寬,在陰雨天光強(qiáng)下輸出功率高于其它任何種類太陽(yáng)電池,被國(guó)際上稱為下一時(shí)代最有前途的廉價(jià)太陽(yáng)電池之一,有可能成為未來(lái)光伏電池的主流產(chǎn)品之一。
國(guó)內(nèi)外的CIGS的產(chǎn)業(yè)流程為濺射Mo層(Mo即高純金屬有機(jī)化合物,或叫化合物半導(dǎo)體微結(jié)構(gòu)材料)、激光刻劃Mo層、形成CIGS吸收層、形成CdS緩沖層(硫化鎘)、機(jī)械刻劃CIGS層、濺射透明導(dǎo)電膜摻鋁氧化鋅、機(jī)械刻劃吸收層和透明導(dǎo)電層、清邊、封裝及測(cè)試;由于CIGS太陽(yáng)電池鍍膜工藝的特殊性,P2P3的刻劃(CIGS層的機(jī)械刻劃(P2)和AZO層的機(jī)械刻劃(P3))不能使用普通的納秒激光器進(jìn)行刻劃,因?yàn)槭褂眉{秒激光器進(jìn)行刻劃會(huì)因?yàn)闊嵊绊憛^(qū)的原因?qū)е码姵囟搪罚っ爰す馄鬟^于昂貴;刻劃“井”字形,以便能準(zhǔn)確的測(cè)量出單位面積的電池效率,市場(chǎng)上的主流工藝是采用機(jī)械刻劃的方式。
CIGS電池的鍍膜工藝和刻劃工藝是目前研究的重點(diǎn),特別是鍍膜工藝是電池制作的核心,在鍍膜工藝研究摸索階段,基于成本因素的考慮,不宜采用價(jià)格昂貴的自動(dòng)化刻劃設(shè)備,取而代之的是,采用直尺直接壓在電池上然后用刻刀進(jìn)行手工刻劃,用這種方式刻劃,首先會(huì)導(dǎo)致直尺污染膜層;其次直尺測(cè)量是易出現(xiàn)偏差,導(dǎo)致刻劃的單位面積不準(zhǔn),從而影響最終單位面積電池效率的測(cè)量準(zhǔn)確性,最后也容易導(dǎo)致手動(dòng)刻劃時(shí)的壓力變化,導(dǎo)致刻劃的深淺不一;因此,現(xiàn)有技術(shù)中沒有在研究設(shè)備成本較低的情形下來(lái)充分保證刻劃效果的實(shí)現(xiàn)方案,增加研究的前期投入,進(jìn)而給研究工作帶來(lái)不便。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型實(shí)施例的目的在于提供一種薄膜刻劃裝置,能夠?qū)崿F(xiàn)手動(dòng)刻劃保證刻劃效果。
本實(shí)用新型實(shí)施例是這樣實(shí)現(xiàn)的:
一種薄膜刻劃裝置,包括:
工作臺(tái);
設(shè)置在工作臺(tái)上的Y軸及Y軸滑板;
安裝在所述Y軸滑板上的定位夾具;
設(shè)置在工作臺(tái)上與Y軸垂直的X軸及X軸滑板;
安裝在所述X軸滑板上的調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu);
固定在所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)上的刻劃刀。
其中,所述X軸橫跨安裝在Y軸的上方。
所述的一種薄膜刻劃裝置,還包括檢測(cè)刻劃刀刀尖對(duì)電池片壓力的壓力計(jì),其安裝在工作臺(tái)上。
其中,在所述X軸滑板側(cè)面設(shè)置以推動(dòng)其沿X軸滑動(dòng)的操作手柄。
所述的一種薄膜刻劃裝置,還包括帶動(dòng)Y軸滑板沿Y軸滑動(dòng)的Y軸伺服電機(jī),其安裝在工作臺(tái)上。
所述的一種薄膜刻劃裝置,還包括控制所述Y軸伺服電機(jī)以確定Y軸滑板行程的操作面板,其安裝在所述工作臺(tái)上。
其中,所述定位夾具與Y軸滑板通過錐角定位銷可拆卸連接。
其中,所述定位夾具上設(shè)置有方形定位區(qū)域,所述方形定位區(qū)域的兩鄰邊為兩排定位孔,并在定位孔中匹配插入偏心銷,余下的兩鄰邊為兩排定位柱。
其中,所述方形定位區(qū)域?yàn)?00mm*100mm。
其中,所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括機(jī)構(gòu)本體、杠桿及滑桿,所述杠桿的一端固定連接所述刻劃刀,另一端與所述滑桿的一端活動(dòng)連接,杠桿的支點(diǎn)設(shè)在機(jī)構(gòu)本體上,所述機(jī)構(gòu)本體設(shè)有供滑桿滑動(dòng)的滑行斜平面,滑桿設(shè)有匹配的滑行平面。
本實(shí)用新型實(shí)施例通過采用定位夾具的形式對(duì)薄膜電池樣品進(jìn)行定位,再配合沿直線軸滑動(dòng)的刻劃刀對(duì)樣品進(jìn)行刻劃,將人為不確定因素對(duì)刻劃結(jié)果的影響降到最低,有效保證了刻劃效果;定位夾具上設(shè)有定位孔及定位柱,在定位孔中插入偏心錐以便更好地緊固薄膜電池樣品,避免薄膜電池樣品在刻劃過程中產(chǎn)生松動(dòng),進(jìn)一步保證刻劃效果;定位夾具與Y軸滑板采用錐角定位銷連接,使得定位夾具可相對(duì)Y軸滑板進(jìn)行90度的旋轉(zhuǎn),在一次刻劃完成后不需要觸碰薄膜電池樣品即可進(jìn)行第二次刻劃,保證了刻劃的精度及一致性,定位夾具可根據(jù)薄膜電池樣品的形狀進(jìn)行更換,提高了兼容性;由于采用了手動(dòng)刻劃的操作模式,減少了設(shè)備成本和后期的維護(hù)成本。
附圖說(shuō)明
圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例薄膜刻劃裝置的立體圖;
圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例薄膜刻劃裝置的俯視圖。
具體實(shí)施方式
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





