[實用新型]光罩檢查機有效
| 申請號: | 201420760979.8 | 申請日: | 2014-12-05 |
| 公開(公告)號: | CN204360094U | 公開(公告)日: | 2015-05-27 |
| 發明(設計)人: | 陳明生;邱銘乾 | 申請(專利權)人: | 家登精密工業股份有限公司;陳明生 |
| 主分類號: | G03F1/84 | 分類號: | G03F1/84;G01N21/94 |
| 代理公司: | 北京科龍寰宇知識產權代理有限責任公司 11139 | 代理人: | 孫皓晨 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 檢查 | ||
1.一種光罩檢查機,其特征在于其至少包含有:
一機架,該機架上設有一供承載一光罩的載臺;
一上檢測模組,其于該機架上設有一位于該載臺上方的光學影像處理模組,且該光學影像處理模組與該載臺能夠相對線性位移,又該光學影像處理模組能夠向下擷取該載臺上該光罩的影像,供掃描、辨識、標示及儲存該光罩的污染物,再者該上檢測模組于該光學影像處理模組一側另設有一導光單元,該導光單元具有一光源及一導光板,其中該導光板能夠導引該光源的光線以線性方式照射于該光學影像處理模組的掃描位置,且該導光單元斜射的光線與該光學影像處理模組垂直的掃描線間形成有一夾角;
藉此,進而組構成一迅速、且準確檢出異物的光罩檢查機。
2.如權利要求1所述的光罩檢查機,其中該機架上設有一基板,且該基板具有一對應該載臺的長導槽,再者該機架于該基板下方另設有一下檢測模組;
該下檢測模組于該機架上設有一位于該載臺下方的光學影像處理模組,且該下檢測模組的光學影像處理模組與該載臺能夠相對線性位移,又該下檢測模組的光學影像處理模組能夠向上擷取該載臺上光罩的影像,再者該下檢測模組于其光學影像處理模組一側另設有一導光單元,該導光單元具有一光源及一導光板,其中該導光板能夠導引該光源的光線以線性方式照射于該下檢測模組的光學影像處理模組的掃描位置,且該導光單元斜射的光線與該下檢測模組的光學影像處理模組垂直的掃描線間形成有一夾角。
3.如權利要求1或2所述的光罩檢查機,其中該機架上設有一導軌組,該載臺設于該導軌組上,使該載臺相對該機架進行線性位移。
4.如權利要求1或2所述的光罩檢查機,其中該光學影像處理模組選自線性影像感光元件。
5.如權利要求1或2所述的光罩檢查機,其中該導光單元的導光板能夠選擇性設有不同光譜的濾鏡,用以過濾該光罩上表面不同波長的水痕。
6.一種光罩檢查機,其特征在于其至少包含有:
一機架,該機架上設有一供承載一光罩的載臺;
一下檢測模組,其于該機架上設有一位于該載臺下方的光學影像處理模組,且該光學影像處理模組與該載臺能夠相對線性位移,又該光學影像處理模組能夠向上擷取該載臺上該光罩的影像,供掃描、辨識、標示及儲存該光罩的污染物,再者該下檢測模組于該光學影像處理模組一側另設有一導光單元,該導光單元具有一光源及一導光板,其中該導光板能夠導引該光源的光線以線性方式照射于該光學影像處理模組的掃描位置,且該導光單元斜射的光線與該光學影像處理模組垂直的掃描線間形成有一夾角;
藉此,進而組構成一迅速、且準確檢出異物的光罩檢查機。
7.如權利要求6所述的光罩檢查機,其中該機架上設有一基板,且該基板具有一對應該載臺的長導槽,再者該機架于該基板上方另設有一上檢測模組;
該上檢測模組于該機架上設有一位于該載臺上方的光學影像處理模組,且該上檢測模組的光學影像處理模組與該載臺能夠相對線性位移,又該上檢測模組的光學影像處理模組能夠向下擷取該載臺上該光罩的影像,再者該上檢測模組于該光學影像處理模組一側另設有一導光單元,該導光單元具有一光源及一導光板,其中該導光板能夠導引光源的光線以線性方式照射于該上檢測模組的光學影像處理模組的掃描位置,且該導光單元斜射的光線與該上檢測模組的光學影像處理模組垂直的掃描線間形成有一夾角。
8.如權利要求6或7所述的光罩檢查機,其中該機架上設有一導軌組,該載臺設于該導軌組上,使該載臺相對該機架進行線性位移。
9.如權利要求6或7所述的光罩檢查機,其中該光學影像處理模組選自線性影像感光元件。
10.如權利要求6或7所述的光罩檢查機,其中該導光單元的導光板能夠選擇性設有不同光譜的濾鏡,用以過濾該光罩上表面不同波長的水痕。
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G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





