[實用新型]一種多通道光譜成像裝置有效
| 申請號: | 201420760159.9 | 申請日: | 2014-12-05 |
| 公開(公告)號: | CN204269550U | 公開(公告)日: | 2015-04-15 |
| 發明(設計)人: | 朱磊;張運海 | 申請(專利權)人: | 中國科學院蘇州生物醫學工程技術研究所 |
| 主分類號: | G01N21/64 | 分類號: | G01N21/64 |
| 代理公司: | 北京遠大卓悅知識產權代理事務所(普通合伙) 11369 | 代理人: | 史霞 |
| 地址: | 215163 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 通道 光譜 成像 裝置 | ||
1.一種多通道光譜成像裝置,其特征在于,包括:
圓盤座,其上開設有反射容納部,所述反射容納部的一端設置有貫通部,所述反射容納部的另一端設置有反射定位板,所述反射容納部的兩側開設有對稱設置的兩個對稱容納部,所述對稱容納部與所述反射容納部相鄰的一側均設置有鏡板,所述鏡板上均固定有中繼透鏡,所述對稱容納部的另一側設置有對稱定位板,所述的對稱定位板和所述的反射定位板上均固定有光電倍增管;
棱鏡分光機構,其與所述的貫通部相聯通,所述的棱鏡分光機構包括棱鏡座、設置于所述棱鏡座上的調節盤、設置于所述調節盤上的棱鏡、分別與所述棱鏡座相聯通的入射單元和出射單元;
反射狹縫機構,其置于所述反射容納部中,所述的反射狹縫機構包括反射基座、并排設置于所述反射基座上的反射上滑座和反射下滑座、分別帶動所述反射上滑座和所述反射下滑座上下移動的反射上驅動電機和反射下驅動電機、分別固定于所述反射上滑座和所述反射下滑座上的反射上縫片和反射下縫片;
對稱狹縫機構,其置于所述對稱容納部中,所述的對稱狹縫機構包括對稱基座、并排設置于所述對稱基座上的對稱上滑座和對稱下滑座、分別帶動所述對稱上滑座和所述對稱下滑座上下移動的對稱上驅動電機和對稱下驅動電機、分別固定于所述對稱上滑座和所述對稱下滑座上的對稱上縫片和對稱下縫片;
其中,所述的反射上縫片和所述的反射下縫片呈一定角度設置,所述的對稱上縫片和所述的對稱下縫片彼此對稱設置。
2.如權利要求1所述的多通道光譜成像裝置,其特征在于,還包括罩蓋,其包覆于所述反射容納部和所述對稱容納部。
3.如權利要求1所述的多通道光譜成像裝置,其特征在于,所述的入射單元包括反射筒、嵌置于所述反射筒內的準直透鏡、設置于所述反射筒上直角折彎處的反射鏡。
4.如權利要求1所述的多通道光譜成像裝置,其特征在于,所述的出射單元包括調焦盤、并排嵌置于所述調焦盤內的聚焦鏡和壓圈,所述的壓圈與所述的聚焦鏡相抵。
5.如權利要求1所述的多通道光譜成像裝置,其特征在于,所述調節盤的端面通過若干銷柱連接有托板,所述的托板與所述棱鏡的端面之間設置有并排疊放的銅片和硅膠墊片。
6.如權利要求1所述的多通道光譜成像裝置,其特征在于,所述的反射上縫片和所述的反射下縫片形成出射狹縫,所述出射狹縫的最小寬度為50μm。
7.如權利要求1所述的多通道光譜成像裝置,其特征在于,所述的反射上縫片和所述的反射下縫片表面均鍍有反射膜。
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