[實用新型]雙波長激光退火裝置有效
| 申請號: | 201420748569.1 | 申請日: | 2014-12-03 |
| 公開(公告)號: | CN204189772U | 公開(公告)日: | 2015-03-04 |
| 發明(設計)人: | 趙裕興;韓偉 | 申請(專利權)人: | 蘇州德龍激光股份有限公司;江陰德力激光設備有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/268 | 分類號: | H01L21/268;B23K26/067 |
| 代理公司: | 江蘇圣典律師事務所 32237 | 代理人: | 王玉國 |
| 地址: | 215021 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 波長 激光 退火 裝置 | ||
1.雙波長激光退火裝置,其特征在于:包含綠光激光器和紅外激光器,綠光激光器的輸出光路上依次布置擴束模塊、綠光條形光斑整形模塊和綠光45度反光鏡,紅外激光器的輸出光路上依次布置紅外條形光斑整形模塊和紅外45度反光鏡,綠光45度反光鏡和紅外45度反光鏡的輸出光路設置有合束投影聚焦鏡,合束投影聚焦鏡的輸出光路設有可變光闌,可變光闌的輸出端正對于加工平臺。
2.根據權利要求1所述的雙波長激光退火裝置,其特征在于:所述綠光激光器是綠光波段為515~532nm的調Q脈沖式綠光激光器。
3.根據權利要求1所述的雙波長激光退火裝置,其特征在于:所述紅外激光器是波段為808~1070nm的半導體或光纖紅外激光器。
4.根據權利要求1所述的雙波長激光退火裝置,其特征在于:所述擴束模塊由共焦的凹透鏡和凸透鏡組成,兩個透鏡呈虛共焦結構。
5.根據權利要求1所述的雙波長激光退火裝置,其特征在于:所述合束投影聚焦鏡旁設有用于測量激光光束到加工件表面高度的自動測高儀。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于蘇州德龍激光股份有限公司;江陰德力激光設備有限公司,未經蘇州德龍激光股份有限公司;江陰德力激光設備有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201420748569.1/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種用于PVD濺射的載板
- 下一篇:一種提高與行波管慢波匹配的吸收器組件結構
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





